JP5327651B2 - 電子部品用薄膜配線および薄膜配線形成用スパッタリングターゲット材 - Google Patents
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Description
さらに、最近、液晶ディスプレイ等の平面表示装置分野では、表示装置の大型化、高精細化に伴って信号の遅延を防止するために配線膜・電極膜を低抵抗化する要求がある。
このような低抵抗化の要求に対して、より低抵抗な高融点金属としてMoを主成分とした配線膜が検討されている。本出願人も、耐食性、耐熱性や基板との密着性に優れた低抵抗なMo合金膜としてMoに3〜50原子%のNbを添加したMo合金膜を提案している(例えば、特許文献1参照)。
本発明の目的は、大型の基板への成膜においても、基板に反りが発生しない低抵抗で耐熱性、耐食性、基板との密着性に優れた新規なMo合金の電子部品用薄膜配線および薄膜配線を形成するためのスパッタリングターゲット材を提供することである。
また、好ましくは、比抵抗が30μΩcm以下である電子部品用薄膜配線である。また、好ましくは、膜厚が100nm〜400nmである電子部品用薄膜配線である。
また、本発明は、Moと添加元素の総量を100原子%とした時、該添加元素としてNbを2〜15原子%、Wを2〜20原子%、Nb+Wで30原子%以下含有し、残部Moおよび不可避的不純物でなる薄膜配線形成用スパッタリングターゲット材である。
本発明でNbを添加元素として含有するのは、Moと合金化することで耐食性を改善する効果を有するためである。この耐食性の改善効果は、2原子%から現れ、添加量の増加とともに耐食性は向上するが、比抵抗が上昇するため過度の添加は望ましくない。特に、薄膜配線として使用する上では、比抵抗を30μΩcm程度に安定的に制御しなければならないため、添加量の上限は15原子%が望ましい。より好ましくは10原子%以下である。
MoにNbのみを添加しても、Moのスパッタ膜に付与される引張応力の緩和には効果が少ない。そこで、引張応力を緩和するためにWを添加する。上記のMoNb合金膜の引張応力を緩和する効果はWを2原子%以上で添加することで明確となる。引張応力の緩和はWの添加量の増加に伴い膜応力が引張側から圧縮側に推移することで顕著になるがWの添加量が20原子%を超えると圧縮応力が増加し密着性が低下するので、20原子%以下とすることが望ましい。
本発明の電子部品用薄膜配線では、上記の構成により、低抵抗で、耐熱性、耐食性および基板との密着性に優れる従来のMoNb合金と同等以上の特性を確保しつつ、従来のMoNb合金の問題であった引張応力を緩和することができる。このためMo合金薄膜を成膜した基板の反りの発生を抑制することが可能となるという効果を有し、電子部品用薄膜配線として好適である。
また、低抵抗なMo合金膜を得るには、スパッタリング時の成膜条件はArガス圧を0.5Pa以下、電力密度を5W/cm2以上、基板加熱温度を150℃以上とすることが望ましい。
続いて、成膜したMo合金薄膜の膜応力を薄膜応力測定器FLX2320(KLA−tencor)を使用して測定した。測定結果を表1に示す。
また、成膜したMo合金薄膜について、成膜時の比抵抗と純水に5日間浸漬させた耐食試験後の比抵抗を4探針法により測定した。測定結果を表1に示す。
また、本発明例の試料2および3は、成膜時に30μΩcm以下と低抵抗な薄膜を実現できること、また、耐食試験後にも比抵抗の上昇がなく十分な耐食性を有していることが分かる。
また、成膜したMo合金薄膜について、実施例1と同様に、成膜時の比抵抗と純水に5日間浸漬させた耐食試験後の比抵抗を4探針法により測定した。測定結果を表2に示す。
また、上記で成膜したMo合金薄膜について、成膜時の比抵抗と、純水に5日間浸漬させた耐食試験後の比抵抗、温度85℃・相対湿度85%の環境に200時間保持した高温高湿試験後の比抵抗を4探針法により測定した。測定結果を表4に示す。
Claims (4)
- 基板上に金属膜を形成した薄膜配線において、前記金属膜はMoと添加元素の総量を100原子%とした時、該添加元素としてNbを2〜15原子%、Wを2〜20原子%、Nb+Wで30原子%以下含有し、残部Moおよび不可避的不純物でなることを特徴とする電子部品用薄膜配線。
- 比抵抗が30μΩcm以下であることを特徴とする請求項1に記載の電子部品用薄膜配線。
- 前記金属膜の膜厚が100nm〜400nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の電子部品用薄膜配線。
- Moと添加元素の総量を100原子%とした時、該添加元素としてNbを2〜15原子%、Wを2〜20原子%、Nb+Wで30原子%以下含有し、残部Moおよび不可避的不純物でなることを特徴とする薄膜配線形成用スパッタリングターゲット材。
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JP2005307226A (ja) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Hitachi Metals Ltd | Mo系ターゲット材 |
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