JP5311176B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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Description
20 固定テーブル
20A 待機部
20B レーザ加工部
20C パンチ加工部
21 開口部
22 集屑手段
23 吸着穴
30 保持体
31 移動部
32 保持部
32A 保持手段
40 平面移動機構
50 パンチ加工機
W ワーク
W1 ワークホルダ
Claims (1)
- セラミックグリーンシートなどの薄膜部材であるワークの一面に向けて加工用のレーザ光を照射するレーザ光照射部と、
加工時に前記レーザ光が照射される照射範囲を少なくとも開口した開口部を有する固定テーブルと、
前記ワーク又は該ワークが予め保持されたワークホルダを前記固定テーブル上に移動可能に保持する保持体と、
前記保持体を前記固定テーブルの表面上に沿って平面移動させる平面移動機構とを備え、
前記固定テーブルの開口部には集屑手段が接続されており、
前記固定テーブル上の一部に、前記ワークを搬入又は搬出するための待機部を形成し、
前記開口部内に、前記集屑手段の集屑受けになると共に前記ワークの支持面に当接する当接面を有する内枠体を、前記支持面に対して離間可能に配備し、前記当接面に前記ワークを吸着させる吸着穴を形成し、
前記固定テーブル上の一部に、前記ワークにパンチ加工を施すパンチ加工部を形成したことを特徴とするレーザ加工装置。
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JP2007234231A JP5311176B2 (ja) | 2007-09-10 | 2007-09-10 | レーザ加工装置 |
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JP5311176B2 true JP5311176B2 (ja) | 2013-10-09 |
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