JP2011165847A - 分割加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 切削したウエーハの裏面側の欠けを確認する手段を具備した分割加工装置を提供することである。
【解決手段】 ウエーハを収容する開口部を有する環状フレームにダイシングテープを介して配設されたウエーハを分割加工する分割加工装置であって、分割加工時にウエーハを保持する加工用チャックテーブルと、該加工用チャックテーブルに保持されたウエーハを分割加工する加工手段と、分割加工されたウエーハを保持する透明保持部を有する撮像用チャックテーブルと、該撮像用チャックテーブルの該透明保持部に保持されたウエーハを該透明保持部越しに裏面から撮像する裏面撮像手段と、該加工用チャックテーブルから該撮像用チャックテーブルへ該環状フレームを保持して分割加工後のウエーハを搬送する搬送手段と、を具備したことを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウエーハ等のウエーハを分割加工する分割加工装置に関する。
半導体デバイス製造プロセスでは、半導体ウエーハの表面にストリートと呼ばれる分割予定ラインによって格子状に区画された各領域に半導体デバイスが形成され、半導体ウエーハを個々のデバイスに分割することで、IC、LSI等の半導体デバイスを製造している。
この分割工程では、ダイシングソーによるダイシング加工や、レーザーソーと呼ばれるレーザによるグルービング又はウエーハ内部に変質層を形成して割断するレーザ加工が用いられている。これらの加工方法において最も重要となるのが、加工によって生じるチッピングと呼ばれる微細な欠けや切削位置の変動(蛇行等)が半導体デバイスに及んでいるか否かである。
特開平4−99607号公報
例えば、ダイシング加工は破砕加工による切断であるため、チッピングが生じることを完全には防止することができない。そのため、多少のチッピングが発生することを考慮の上ストリートの幅や切削ブレードの太さを調整しているが、ストリートや半導体デバイスが形成されていないウエーハの裏面側にも、表面側に発生するより更に大きな欠け(チッピング)が発生する。
ウエーハの裏面側には半導体デバイスが形成されていないとはいえ、大きなチッピングは大きな切削屑を発生させる一因となり、切削屑はダイシング後の工程で半導体デバイス上面に落下したりして問題となる。
また、チッピングの大きさや数が増えれば分割された半導体デバイスのチップの強度低下に直結する。そこで、裏面に発生する微細な欠けもできるだけ小さく押さえたいという要求が常に存在する。
また、大量のウエーハを分割して半導体デバイスを製造する過程では、一度決定された加工条件であっても定期的に仕上がりをチェックし、安定した加工が続いているか否かを確認する必要がある。
レーザーソーによる加工においても、何らかの不具合による加工位置の誤り等が発生しないとは言いかねない為、確認作業は必要である。そのため、従来から加工中のウエーハの上面側の欠けを確認する方法がいくつか提案され、実際に使用されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、加工したウエーハの裏面側の欠けを検出し、加工条件等を変更可能な加工装置は現在までのところ提案されていない。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、分割加工したウエーハの裏面側の欠けを検出可能な分割加工装置を提供することである。
本発明によると、ウエーハを収容する開口部を有する環状フレームにダイシングテープを介して配設されたウエーハを分割加工する分割加工装置であって、分割加工時にウエーハを保持する加工用チャックテーブルと、該加工用チャックテーブルに保持されたウエーハを分割加工する加工手段と、分割加工されたウエーハを保持する透明保持部を有する撮像用チャックテーブルと、該撮像用チャックテーブルの該透明保持部に保持されたウエーハを該透明保持部越しに裏面から撮像する裏面撮像手段と、該加工用チャックテーブルから該撮像用チャックテーブルへ該環状フレームを保持して分割加工後のウエーハを搬送する搬送手段と、を具備したことを特徴とする分割加工装置が提供される。
本発明の分割加工装置によれば、作業者は分割加工終了後のウエーハの裏面側を裏面撮像手段により撮像し、裏面のチッピングや加工位置等を観察することができるため、ウエーハを装置外部へ取り出す手間が省けるとともに、別途顕微鏡等を用意することが不要となる。
また、ダイシングと裏面チッピングの観察を平行して行うことができる構成となっているため、分割加工直後のウエーハの裏面をすぐさま観察し、もし裏面チッピングが規定以上の大きさだった場合には、現在加工中のウエーハの分割加工を中止するか、或いは加工条件を変更するか等の対応をとることができるため、不良となる半導体デバイスの製造を最小限に抑えることができるという効果を奏する。
本発明実施形態に係る切削装置の斜視図である。 切削装置の平面図である。 切削装置の一部断面側面図である。 ダイシングテープを介して環状フレームに支持された半導体ウエーハの斜視図である。 筐体及び撮像用チャックテーブル部分の斜視図である。 筐体内に収容された裏面撮像手段の斜視図である。 筐体及び撮像用チャックテーブル部分の縦断面図である。 図7のC部分の拡大断面図である。 保持部の平面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態に係る切削装置2の概略構成図が示されている。図2はその平面図であり、図3は一部断面側面図である。
切削装置2は、静止基台4上に搭載されたX軸方向に伸長する一対のガイドレール6を含んでいる。8はX軸移動ブロックであり、X軸移動ブロック8はボール螺子10及びパルスモータ12とから構成されるX軸送り機構14により加工送り方向、即ちX軸方向に移動される。
X軸移動ブロック8上には円筒状支持部材16を介して加工用チャックテーブル18が搭載されている。19はクランパである。円筒状支持部材16中にはチャックテーブル18を回転するモータが収容されている。
特に図示しないが、チャックテーブル18は多孔性セラミックス等から形成された吸着部と、吸着部を囲繞するSUS等の金属から形成された枠体を有している。吸着部の吸着面(保持面)と枠体の上面とは面一に形成されている。20は防水カバーである。
静止基台4上には門型コラム22が立設されている。門型コラム22の前側にはY軸方向に伸長する一対のガイドレール24が固定されている。第1Y軸移動ブロック26が、ボールねじ28及びパルスモータ30から構成される第1Y軸送り機構32によりY軸方向に移動される。
第1Y軸移動ブロック26にはZ軸方向に伸長する一対のガイドレール34が形成されている。一体となった第1撮像手段42及び第1レーザ照射手段44が、ボールねじ36とパルスモータ38とから構成される第1Z軸送り機構40によりZ軸方向に移動される。
一対のガイドレール24に沿って、第2Y軸移動ブロック26aが、ボールねじ28a及びパルスモータ30aから構成される第2Y軸送り機構32aによりY軸方向に移動される。
第2Y軸移動ブロック26aにはZ軸方向に伸長する一対のガイドレール34aが形成されている。一体となった第2撮像手段42a及び第2レーザ照射手段44aが、ボールねじ36aとパルスモータ38aとから構成される第2Z軸送り機構40aによりZ軸方向に移動される。
図3に示すように、門型コラム22の背面側にもY軸方向に伸長する一対のガイドレール48が形成されている。第3Y軸移動ブロック46が、ボールねじ50及びパルスモータとから構成される第3Y軸送り機構(割り出し送り機構)54によりY軸方向に移動される。
第3Y軸移動ブロック46の背面には特に図示しないが一対のガイドレールが形成されており、第1Z軸移動ブロック56が、ボールねじ58とパルスモータ60とから構成される第3Z軸送り機構62によりZ軸方向に移動される。
図3に示すように、第1切削ユニット64が第1Z軸移動ブロック56と一体に形成されており、第1切削ユニット64はY軸方向及びZ軸方向に移動可能である。第1切削ユニット64は、図示しないモータにより回転駆動されるスピンドル66と、スピンドル66の先端部に装着された第1切削ブレード68を含んでいる。
門型コラム22の背面側に形成された一対のガイドレール48に沿って、第4Y軸移動ブロック46aが、ボールねじ及びパルスモータ52aとから構成される第4Y軸送り機構(割り出し送り機構)54aによりY軸方向に移動される。
第4Y軸移動ブロック46aの背面には特に図示しないが一対のガイドレールが形成されており、第2Z軸移動ブロック56aが、ボールねじとパルスモータ60aとから構成される第4Z軸移動機構62aによりZ軸方向に移動される。
第1切削ユニット64と同様な第2切削ユニットが、第2Z軸移動ブロック56aと一体に形成されており、第2切削ユニットはY軸方向及びZ軸方向に移動可能である。第2切削ユニットは、モータにより回転駆動されるスピンドルと、スピンドルの先端部に装着された第2切削ブレードとを含んでいる。パルスモータ12,12a,30,30a,60,60aは図3に示す制御手段70に接続されており、制御手段70により制御される。
図1では省略されているが、図3に示すようにチャックテーブル18の防水カバー20にはX軸送り機構14のボールねじ10をカバーする蛇腹74が取り付けられている。チャックテーブル18と防水カバー20との間にはシール76が挿入されている。
本実施形態の切削装置2では、一体となった第1撮像手段42及び第1レーザ照射手段44と、第1切削ユニット64とが、それぞれ独立してY軸方向及びZ軸方向に移動される。更に、一体となった第2撮像手段42a及び第2レーザ照射手段44aと、第2切削ユニットとが、それぞれ独立してY軸方向及びZ軸方向に移動される。
特に図示しないが、第1撮像手段42及び第2撮像手段42aは対物レンズを有する顕微鏡と、顕微鏡の拡大像を撮像するCCDカメラをそれぞれ含んでいる。顕微鏡は高倍率と低倍率との間で切替可能に制御される。
図1を参照すると、51は図4に示されたウエーハWを収容するカセットであり、カセット51内に複数のウエーハWが収容されている。静止基台4上には門型フレーム53が立設されている。
この門型フレーム53の前面にはガイドレール55が取り付けられており、ガイドレール55に沿ってウエーハ搬送手段57がY軸方向に移動可能に取り付けられている。59は切削加工の終了したウエーハWを洗浄するスピンナ洗浄装置である。
スピンナ洗浄装置59に隣接して、撮像用チャックテーブル84が配設されている。撮像用チャックテーブル84は、静止基台4上に固定された基台78と、基台78上に搭載された円筒状支持部材80と、円筒状支持部材80に支持された筐体82とを含んでいる。
図4に示すように、切削装置2の加工対象である半導体ウエーハWの表面においては、第1のストリートS1と第2のストリートS2とが直交して形成されており、第1のストリートS1と第2のストリートS2とによって区画された領域にそれぞれデバイスDが形成されている。
ウエーハWは粘着テープであるダイシングテープTに貼着され、ダイシングテープTの外周部は環状フレームFに貼着されている。これにより、ウエーハWはダイシングテープTを介して環状フレームFに支持された状態となり、この状態で加工用チャックテーブル18に吸引保持される。
次に、図5乃至図9を参照して、撮像用チャックテーブル84の詳細構造について説明する。図5に示すように、撮像用チャックテーブル84は筐体82上に搭載されている。筐体82の側面にはモータ86が固定されており、モータ86の出力軸に連結されたプーリー88と撮像用チャックテーブル84の枠体91の外周に渡りベルト92が巻回されている。モータ86を回転すると、プーリー88及びベルト90を介して撮像用チャックテーブル84が回転される。
撮像用チャックテーブル84は、例えばSUS等の金属から形成された円筒状枠体91と、例えばガラス等から形成された透明な保持部(保持パッド)92とから構成される。透明な保持部92には、後で詳細に説明する真空吸引源に接続された多数の吸引溝が形成されている。85は後で説明する環状フレームを載置するフレーム載置台である。
図6に示すように、筐体82内には撮像用チャックテーブル84の透明な保持部92を通してワークを撮像する裏面撮像手段94が配設されている。撮像手段94は、筐体82の底面82a上にX軸方向に移動可能に搭載されたスライドブロック96を含んでいる。スライドブロック96は、ボールネジ98及びパルスモータ100から構成されるX軸移動手段102により一対のガイドレール104に沿ってX軸方向に移動される。
スライドブロック96上には、スライドブロック106がY軸方向に移動可能に搭載されている。即ち、スライドブロック106はボールネジ108及びパルスモータ110から構成されるY軸送り手段112により、一対のガイドレール114に沿ってY軸方向に移動される。
スライドブロック106にはコラム116が立設されている。コラム116にはカメラユニット118がZ軸方向に移動可能に搭載されている。即ち、カメラユニット118はボールネジ120及びパルスモータ122から構成されるZ軸移動手段124により一対のガイドレール126に沿ってZ軸方向に移動される。
X軸移動手段102、Y軸移動手段112及びZ軸移動手段124により撮像機構送り手段125を構成する。本実施形態の変形例として、カメラユニット118がスライドブロック106上に直接搭載されている場合には、X軸移動手段102及びY軸移動手段112により撮像機構送り手段125を構成する。
図7を参照すると、図5に示した筐体82及びチャックテーブル84部分の縦断面図が示されている。この図では、撮像機構送り手段125は概略的に示されている。図8は図7のC部分の拡大断面図であり、半導体ウエーハWはその表面を上側にしてダイシングテープTに貼着され、環状フレームFがフレーム載置台85上に搭載されている。
撮像用チャックテーブル84の保持部(保持面)92はガラス等の透明物質から形成されており、複数の吸引溝130を有している。吸引溝130はバキューム配管128に接続されている。
図9に示すように、保持部92は、細孔または吸引溝等の複数の吸引路が形成された吸引路形成領域92aと、吸引路の形成されていない十字形状の吸引路非形成領域92bと、吸引路の形成されていない外周領域92cとを有している。
以下、上述した切削装置2の作用について説明する。カセット51中に収容されたウエーハWは搬送手段57によりカセット51中から取り出されて、加工用チャックテーブル18上に載置される。
次いで、第1撮像手段42又は第2撮像手段42aの何れかを使用して、ウエーハWの切削すべき領域を撮像して、よく知られたパターンマッチング等の方法により切削すべきストリートを検出するアライメントを実施する。
アライメント実施後、第1切削ユニット64の第1切削ブレード68又は第2切削ユニットの第2切削ブレードを使用して、加工用チャックテーブル18に吸引保持されたウエーハWのストリートS1,S2を切削して、ウエーハWを個々のデバイスDに分割する。切削終了後のウエーハWは、搬送手段57によりスピンナ洗浄装置59に搬送されて、スピンナ洗浄装置59により洗浄及び乾燥される。
洗浄終了後のウエーハWは、搬送手段57により撮像用チャックテーブル84に搬送され、透明体から形成された保持部92に吸引保持される。このように吸引保持されたウエーハWの裏面は裏面撮像手段94により撮像されて、ウエーハWの裏面のチッピングや加工位置が所定位置にあるか否かを切削装置2内で直ちに確認できる。
また、加工用チャックテーブル18と撮像用チャックテーブル84を備えているため、切削ブレードによるウエーハWのダイシングと裏面撮像手段94による裏面チッピングの観察とを平行して行うことができる。
分割加工直後のウエーハWを裏面撮像手段94で直ちに撮像して、もし裏面チッピングが規定以上の大きさだった場合等には、現在切削中のウエーハWの切削を中止するか、或いは加工条件の変更等の対応を取ることができるため、不良となる半導体デバイスDの製造を最小限に抑えることができる。
更に、本実施形態の切削装置2は、二つの切削ユニットを備えているので、各切削ユニットにそれぞれ異なる厚さの切削ブレードを装着して切削加工するステップカットを行うことができ、高精度、高品質が要求される半導体デバイスを製造することができる。
尚、上述した実施形態では、裏面撮像手段を有する撮像用チャックテーブルを切削装置2に搭載した例について説明したが、本発明の分割加工装置は切削装置に限定されるものではなく、レーザによるグルービング又はウエーハ内部に変質層を形成してウエーハを割断するレーザ加工装置も含むものである。
2 切削装置
14 X軸送り機構
18 加工用チャックテーブル
32 第1Y軸送り機構
32a 第2Y軸送り機構
42 第1撮像手段
42a 第2撮像手段
54 第3Y軸送り機構
54a 第4Y軸送り機構
62 第1Z軸送り機構
62a 第2Z軸送り機構
64 第1切削ユニット
68 第1切削ブレード
84 撮像用チャックテーブル
92 透明保持部
94 裏面撮像手段

Claims (1)

  1. ウエーハを収容する開口部を有する環状フレームにダイシングテープを介して配設されたウエーハを分割加工する分割加工装置であって、
    分割加工時にウエーハを保持する加工用チャックテーブルと、
    該加工用チャックテーブルに保持されたウエーハを分割加工する加工手段と、
    分割加工されたウエーハを保持する透明保持部を有する撮像用チャックテーブルと、
    該撮像用チャックテーブルの該透明保持部に保持されたウエーハを該透明保持部越しに裏面から撮像する裏面撮像手段と、
    該加工用チャックテーブルから該撮像用チャックテーブルへ該環状フレームを保持して分割加工後のウエーハを搬送する搬送手段と、
    を具備したことを特徴とする分割加工装置。
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