JP5295889B2 - レベル変換回路 - Google Patents

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    • H03K3/00Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
    • H03K3/02Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
    • H03K3/353Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of field-effect transistors with internal or external positive feedback
    • H03K3/356Bistable circuits
    • H03K3/356104Bistable circuits using complementary field-effect transistors
    • H03K3/356113Bistable circuits using complementary field-effect transistors using additional transistors in the input circuit
    • H03K3/35613Bistable circuits using complementary field-effect transistors using additional transistors in the input circuit the input circuit having a differential configuration

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Description

本発明は、レベル変換回路に関する。
従来のレベル変換回路には、第1および第2NチャネルMOSトランジスタのドレイン
にそれぞれ負荷として接続され、互いのゲートとドレインが交差接続された第1および第
2PチャネルMOSトランジスタを有し、正帰還動作を用いたものがある。このレベルシ
フト回路は、レベルシフト前の電圧と、レベルシフト後の電圧との差が大きくなると、入
力信号が反転しても出力信号が完全に反転せず、動作が不安定になる問題がある。
この問題を解消するには、反転動作の初期段階において、第1および第2N−MOSト
ランジスタのうち、反転してオンになる方のドレイン電流を、第1および第2P−MOS
トランジスタのうち、反転してオフになるほうに流れるドレインよりも十分大きくする必
要がある。
そこで、第1および第2N−MOSトランジスタのゲート幅を大きくして、ドライブ能
力を上げる工夫が施されているが、寄生容量が増加するので、大幅な高速化は難しい。ま
た、消費電流が増大し、回路面積の増大を招くという問題がある。
これに対して、レベルシフト前の電圧と、レベルシフト後の電圧の比を大きくしても十
分に動作するレベルシフト回路を有する半導体集積装置が知られている(例えば、特許文
献1参照。)。
特許文献1に開示された半導体集積装置は、第1振幅を持つ入力信号が入力される入力
ノード、および第1振幅とは異なる第2振幅を持つ出力信号が出力される出力ノードを有
し、第1振幅を持つ入力信号を、第2振幅を持つ出力信号にレベルシフトするレベルシフ
ト回路と、出力ノードを充電するカレントミラー回路と、入力信号が反転してから出力信
号が反転するまでの間、カレントミラー回路を動作させるスイッチ回路と、を具備してい
る。
然しながら、特許文献1に開示された半導体集積装置は、カレントミラー回路の動作を
停止させるのに時間がかかるので、入力信号の周波数が高くなると出力信号が完全に反転
しなくなり、十分に動作しなくなる問題がある。
特開2002−76882号公報
本発明は、入力信号の振幅とレベルシフト後の出力信号の振幅との比が大きい場合でも
、十分に高速動作するレベル変換回路を提供する。
本発明の一態様のレベル変換回路は、ゲートに第1電圧が入力されるPチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタと、前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインに接続された定電流源と、入力端子が前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインと前記定電流源との接続ノードに接続され、出力端子が前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、前記第1電圧より高い第2電圧が供給される反転増幅器を有し、前記第1電圧と前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート・ソース間電圧との和に等しい中間電圧を出力する中間電圧生成部と、前記中間電圧で動作し、前記第1電圧レベルに応じた第1振幅を有する第1信号および前記第1信号を反転した第1反転信号を受けて、前記中間電圧レベルに応じた第2振幅を有する第2信号および前記第2信号を反転した第2反転信号を出力するバッファ部と、前記第2電圧で動作し、前記第2信号および前記第2反転信号を受けて、前記第2電圧レベルに応じた第3振幅を有する第3信号および前記第3信号を反転した第3反転信号を出力するレベルシフト部と、
を具備することを特徴としている。
本発明によれば、入力信号の振幅とレベルシフト後の出力信号の振幅との比が大きい場
合でも、十分に高速動作するレベル変換回路が得られる。
本発明の実施例に係るレベル変換回路を示す回路図。 本発明の実施例に係るレベル変換回路の要部を示す回路図。 本発明の実施例に係るレベル変換回路の動作を示すタイミングチャート。 本発明の実施例に係る比較例のレベル変換回路を示す回路図。 本発明の実施例に係るレベル変換回路の別の要部を示す回路図。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
本実施例に係るレベル変換回路について図1乃至図3を用いて説明する。図1は本実施
例のレベル変換回路を示す回路図、図2はレベル変換回路の要部を示す回路図、図3はレ
ベル変換回路の動作を示すタイミングチャートである。
図1に示すように、本実施例のレベル変換回路10は、第1電源11から供給される第
1電圧LVddおよび第2電源12から供給される第1電圧LVddより高い第2電圧H
Vddを受けて、第1電圧LVddと第2電圧HVddとの中間の電圧MVddを生成す
る中間電圧生成部13と、中間電圧MVddで動作し、第1電圧LVddレベルに応じた
第1振幅を有する第1信号V1および第1信号V1を反転した第1反転信号V1rを受け
て、前記中間電圧レベルに応じた第2振幅を有する第2信号V2および前記第2信号V2
を反転した第2反転信号V2rを出力するバッファ部14と、第2電圧HVddで動作し
、第2信号V2および第2反転信号V2rを受けて、第2電圧HVddレベルに応じた第
3振幅を有する第3信号V3および第3信号V3を反転した第3反転信号V3rを出力す
るレベルシフト部15と、を具備している。
更に、レベル変換回路10は、第1電圧LVddで動作し、第1振幅を有する入力信号
Vinを受けて、第1信号V1および第1反転信号V1rを出力するバッファ部16を具
備している。
ここで、第1電圧LVddは、例えばデジタルICの動作電圧である1.2V、第2電
圧HVddは、例えばアナログICの動作電圧である3.3V、中間電圧MVddは、1
.2Vと3.3Vの中間の電圧で、例えば2Vである。低電位LVss、MVss、HV
ssは、例えば基準電位GNDである。
第1信号V1および第1反転信号V1rの第1振幅は(LVdd−LVss)レベルで
、例えば1.2Vある。入力信号Vinの第1振幅は第1信号V1および第1反転信号V
1rの第1振幅と同じである。第2信号V2および第2反転信号V2rの第2振幅は(M
Vdd−MVss)レベルで、例えば2Vである。第3信号V3および第3反転信号V3
rの第3振幅は(HVdd−HVss)レベルで、例えば3.3Vある。
バッファ部16は、入力信号Vinが入力され、第1反転信号V1rを出力する第1イ
ンバータ21と、第1インバータ21に直列接続され、第1信号V1を出力する第2イン
バータ22と、を具備している。
バッファ部14は、第1信号V1が入力され、第2反転信号V2rを出力する第3イン
バータ23と、第1反転信号V1rが入力され、第2信号V2を出力する第4インバータ
24と、を具備している。
インバータ21、22は、それぞれしきい値が0.4V程度で、耐圧は低いが高速スイ
ッチングが可能なP−MOSトランジスタとN−MOSトランジスタとを有するCMOS
インバータである。
インバータ23、24は、それぞれしきい値が0.6V程度のP−MOSトランジスタ
とN−MOSトランジスタとを有するCMOSインバータである。
レベルシフト部15は、ゲートにそれぞれ第2信号V2、第2反転信号V2rが入力さ
れ、ソースが低電位HVssに共通接続された一対のエンハンスメントNチャネル絶縁ゲ
ート電界効果トランジスタ(以後N−MOSトランジスタという)25、26と、N−M
OSトランジスタ25、26のドレインにそれぞれ負荷として接続され、互いのゲートと
ドレインが交差接続され、ソースが第2電源12に共通接続された一対のエンハンスメン
トPチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタ(以後P−MOSトランジスタという)2
7、28とを具備している。
第3信号V3がN―MOSトランジスタ26のドレインとP―MOSトランジスタ28
のドレインとが接続された第1出力ノードN1から出力され、第3反転信号V3rがN―
MOSトランジスタ25のドレインとP―MOSトランジスタ27のドレインとが接続さ
れた第2出力ノードN2から出力される。
図2に示すように、中間電圧生成部13は、第2電圧HVddで動作し、ゲートが第1
電源11に接続され、ドレインが定電流源30に接続されたP−MOSトランジスタ31
と、入力端子32aがP−MOSトランジスタ31のドレインと定電流源30との接続ノ
ードN3に接続され、出力端子32bがP−MOSトランジスタ30のソースに接続され
た反転増幅器32と、を具備している。
中間電圧生成部13は負帰還増幅回路を構成している。P−MOSトランジスタ31の
ゲートに一定の第1電圧LVddを与えておき、P−MOSトランジスタ31のソースに
所定のバイアス電流Ib1が流れるようなソース電圧を反転増幅器32の出力で与えてい
る。
これにより、P−MOSトランジスタ31のソースと反転増幅器32の出力端子32b
との接続ノードN4に、第1電圧LVddとP―MOSトランジスタ31のゲート・ソー
ス間電圧Vgsとの和の中間電圧MVddが得られる。
具体的には、反転増幅器32は、例えばゲートを入力端子32aとし、ソースが低電位
MVssに接続され、ドレインが定電流源33に接続されたN−MOSトランジスタ34
と、ソースを出力端子32bとし、ドレインが第2電源12に接続され、ゲートがN−M
OSトランジスタ34のドレインと定電流源33との接続ノードN5に接続されたN−M
OSトランジスタ35と、を具備している。
中間電圧MVddは、第1電圧LVddに対し次式で表わされる。
MVdd=LVdd+Vthp+ΔVoff (1)
ΔVoff=√(Ib1/(μoxWp/(2Lp))) (2)
ここで、VthpはP―MOSトランジスタ31のしきい値の絶対値、Wpはそのゲー
ト幅、Lpはそのゲート長、μはそのチャネルの移動度、Coxはそのゲート絶縁膜の
単位容量である。
Wp/Lpを大きくし、Ib1を小さく設定することにより、ΔVoffをしきい値V
thpより十分小さくできるので、中間電圧MVddは次式で表わされる。
MVdd≒LVdd+Vthp (3)
しきい値Vthpを0.8Vとすると、中間電圧MVddは2Vとなり、第1電圧LV
ddと第2電圧HVddの中間値(2.25V)に近い値が得られる。
これにより、後述する中間電圧MVddで動作するバッファ部14のインバータ23、
24に定常的な電流が流れないための条件(第1電圧LVddとインバータ23、24に
用いられるP−MOSトランジスタのしきい値の絶対値との和が中間電圧MVddより大
きい)をほぼ満たすことができる。
次に、レベル変換回路10の動作を比較例と対比して説明する。ここで比較例とは、図
4に示すように、中間電圧生成部13およびバッファ部14を有しないレベル変換回路5
0のことである。始めに、比較例のレベル変換回路50について説明する。
比較例のレベル変換回路50は、通常の動作においては第1振幅(LVdd−LVss
)を有する入力信号Vinを入力し、第1振幅より大きい第3振幅(HVdd−HVss
)を有する第3信号V3および第3反転信号V3rの論理を確定し出力する。ここで、低
電位LVss、HVssはともに基準電位GNDである。
図3に示すように、比較例のレベル変換回路50は、入力信号VinがLレベル(LV
ss)状態のとき、第1信号V1がLレベル(LVss)、第1反転信号V1rがHレベ
ル(LVdd)、第3信号V3がLレベル(HVss)、第3反転信号V3rがHレベル
(HVdd)となり、論理状態が確定している(状態1)。
次に、入力信号VinがLレベルからHレベルに遷移した瞬間、第1信号V1がLレベ
ルからHレベル(LVdd)になり、N―MOSトランジスタ25はゲート・ソース間に
LVddが印加されオン状態になる。また、第1反転信号V1rがHレベルからLレベル
(LVss)に遷移するため、N―MOSトランジスタ26はカットオフ状態となる(状
態2)。
この状態では、P―MOSトランジスタ27のゲート・ソース間電圧|Vgs27|はH
Vddで、P―MOSトランジスタ27はオンしているため、N―MOSトランジスタ2
5にもP―MOSトランジスタ27にもドレイン電流が流れる。
N―MOSトランジスタ25を流れる電流I25とP―MOSトランジスタ27を流れ
る電流I27との差分電流(I25−I27)により、第2出力ノードN2に付随する寄
生容量C2にチャージされていた電荷が放出されるので、第2出力ノードN2の電位が下
がっていく(状態3)。
第2出力ノードN2の電位が下がると、P―MOSトランジスタ28のゲート電圧が下
がり、P―MOSトランジスタ28がオン状態になり電流が流れ出す。N―MOSトラン
ジスタ26はカットオフ状態のため、第1出力ノードN1に付随する寄生容量C1が、P
―MOSトランジスタ28を流れる電流によって充電されるので、第1出力ノードN1の
電位が上昇する(状態4)。
第1出力ノードN1の電位が上がってくると、P―MOSトランジスタ27のゲート・
ソース間電圧|Vgs27|は小さくなってくる。その結果、差分電流(I25−I27)
は大きくなり、第2出力ノードN2の電位をより高速に引き下げるような一連の正帰還動
作を行う。最終的に第2出力ノードN2の電位はLレベル(HVss)、第1出力ノード
N1の電位はHレベル(HVdd)になる(状態5)。
比較例のレベルシフト回路50は、第1電圧LVddが低く、第2電圧HVddが高く
、即ち入力信号Vinの振幅とレベルシフト後の第3信号V3、第3反転信号V3rの振
幅との比が大きい場合に、以下の理由により高速動作が困難になる。
上述した状態3において、第2出力ノードN2の電位を引き下げる速度は差分電流(I
25−I27)の大きさにより決まる。電流I25、I27は次式で表わされる。
I25=μox(Wn1/Ln1)(LVdd−Vthn25)/2 (4)
I27=μox(Wp1/Lp1)(HVdd−Vthp27)/2 (5)
ここで、μ、μはそれぞれN―MOSトランジスタ25、P−MOSトランジスタ
27のチャネルの移動度、Coxはそれぞれのゲート絶縁膜の単位容量、Wn1/Ln1
、Wp1/Lp1はそれぞれのゲート幅とゲート長の比、Vthn25、Vthp27は
それぞれのしきい値である。
差分電流(I25−I27)が大きいほど第2出力ノードN2の電位引き下げが高速に
なるが、第2電圧HVddと第1電圧LVddとの差が大きいほど差分電流(I25−I
27)が大きくできなくなるので、高速動作が困難になる。
その結果、図3の破線41、42に示すように、第3信号V3、第3反転信号V3rは
立ち上がり/立ち下がり速度および振幅が低下するので、論理値が確定できなくなる。
即ち、比較例のレベル変換回路50は、レベルシフト前の電圧(V1、V1r)とレベ
ルシフト後の電圧(V3、V3r)の比が大きくなるほど、高速動作が困難になる。低電
圧側から高電圧側に信号を伝えるときに、立ち上がりと立下り速度の両方を同時に高速化
することができないからである。
一方、本実施例のレベルシフト回路10は、第1電圧LVddと第2点圧HVddの中
間の中間電圧MVddで動作するバッファ部14を有している。その結果、レベルシフト
部15において、レベルシフト前の電圧(V2、V2r)とレベルシフト後の電圧(V3
、V3r)の比が比較例よりも小さくなるので、実線43、44に示すようにバッファ部
14からレベルシフト部15への信号伝達を高速化することが可能である。
バッファ部14のインバータ23、24はCMOSインバータなので、正帰還動作を用
いたレベルシフト部15に比べて論理反転動作が高速である。従って、バッファ部14は
レベルシフト回路10の動作速度にほとんど影響を及ぼさない。
ただし、インバータ23、24の動作電圧である中間電圧MVddが第1電圧LVdd
とCMOSインバータに用いられるP−MOSトランジスタのしきい値の絶対値との和よ
り大きいと、インバータ23、24に直流電流が流れるので、むだな電力が消費される。
そのため、中間電圧MVddが第1電圧LVddとCMOSインバータに用いられるP
−MOSトランジスタのしきい値の絶対値との和より小さいという条件を満たすことが望
ましい。具体的には、式2に示したΔVoffをしきい値Vthpより十分小さくする。
インバータ23、24に用いられるP−MOSトランジスタのしきい値の絶対値を、レ
ベルシフト部15に用いられるP−MOSトランジスタ27、28のしきい値の絶対値よ
り大きく設定すれば更に望ましい。
通常、ICやLSIレベルの半導体集積回路の電源電圧は回路仕様で決まっているので
、間を取り持つレベル変換回路の第1電圧LVddおよび第2電圧HVddは固定されて
いる。従って、中間電圧MVddは、レベルシフト部15が第1、第2出力ノードN1、
N2に付随する寄生容量C1、C2で決まる動作速度を確保し、且つバッファ部14がむ
だな電力を消費しないような値に設定すれば良い。
以上説明したように、本実施例のレベル変換回路10は、第1電圧LVddで動作する
バッファ部16と、第1電圧LVddより高い第2電圧HVddで動作するレベルシフト
部15との間に、第1電圧LVddと第2電圧HVddとの中間の中間電圧MVddで動
作するバッファ部14を介在させている。
その結果、レベルシフト部15におけるレベルシフト前の電圧(V2、V2r)とレベ
ルシフト後の電圧(V3、V3r)の比が比較例より小さくなるので、バッファ部14か
らレベルシフト部15への信号伝達を高速化することができる。
従って、入力信号Vinの振幅とレベルシフト後の第3信号V3、第3反転信号V3r
の振幅との比が大きい場合でも、十分に高速動作するレベル変換回路10が得られる。
更に、中間電圧生成部13およびバッファ部14は回路規模が小さいので、レベル変換
回路10を第1電圧LVddで動作するデジタル回路と第2電圧HVddで動作するアナ
ログ回路とともに集積化するに際して、チップサイズに及ぼす影響は僅かである。
ここでは、レベル変換回路10がバッファ部16を具備する場合について説明したが、
外部より第1信号V1、第1反転信号V1rが与えられるような構成にしても構わない。
図5は別の中間電圧生成部を示す回路図である。図5に示すように、中間電圧生成部6
0は、第2電圧HVddで動作し、ゲートが第1電源11に接続され、ソースが定電流源
61に接続されたP−MOSトランジスタ62と、正入力端子63aがP−MOSトラン
ジスタ62のソースと定電流源61との接続ノードN6に接続され、負入力端子63bと
出力端子63cとが接続された差動増幅器63と、を具備している。
中間電圧生成部60は、P−MOSトランジスタ62のゲートに一定の第1電圧LVd
dを与え、P−MOSトランジスタ62に所定のバイアス電流Ib3を流し、差動増幅器
63の正入力端子63aの電圧と負入力端子63bとの電圧が等しくなるように動作する
接続ノードN6の電圧Vinは、式1および式2と同様に第1電圧LVddとP―MO
Sトランジスタ31のゲート・ソース間電圧Vgsとの和の電圧になるので、電圧Vin
に等しい中間電圧MVddが得られる。バイアス電流Ib3をバイアス電流Ib1に等し
くすると、中間電圧生成部13と等しい中間電圧MVddを生成できる。
但し、中間電圧生成部13は回路構成上、中間電圧MVddが第2電圧HVddとN−
MOSトランジスタ35のしきい値の差より大きくなると、N−MOSトランジスタ35
がカットオフされるため、中間電圧MVddは第2電圧HVddとN−MOSトランジス
タ35のしきい値の差に等しい電圧以下に制限される。
一方、中間電圧生成部60は回路構成上、中間電圧MVddはバイアス電流Ib3に応
じて第1電圧LVddとP―MOSトランジスタ31のしきい値との和に等しい電圧から
第2電圧HVddに等しい電圧まで自由に設定することができる。
中間電圧生成部60は、バッファ部14が、第一電圧LVddと第2電圧HVddの電
圧差が小さい場合など、第2電圧HVddとN−MOSトランジスタ35のしきい値の差
より大きい中間電圧MVddを必要とする場合に適している。
本発明は、以下の付記に記載されているような構成が考えられる。
(付記1) 第1信号および第1反転信号を出力するバッファ部は、入力信号が入力され
、第1反転信号を出力する第1インバータと、第1インバータに直列接続され、第1信号
を出力する第2インバータと、を具備するレベルシフト回路。
(付記2) 第2信号および第2反転信号を出力するバッファ部は、第1信号が入力され
、第2反転信号を出力する第3インバータと、第1反転信号が入力され、第2信号を出力
する第4インバータと、を具備するレベルシフト回路。
(付記3) 第1および第2インバータが、Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタ
と、Nチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタとを有するCMOSインバータであるレ
ベルシフト回路。
(付記4) 第3および第4インバータが、Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタ
と、Nチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタとを有するCMOSインバータであるレ
ベルシフト回路。
(付記5) 反転増幅器は、ゲートを入力端子とし、ソースが基準電位に接続され、ドレ
インが定電流源に接続されたNチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
ソースを出力端子とし、ドレインが第2電源電圧に接続され、ゲートがNチャネル絶縁ゲ
ート電界効果トランジスタのドレインと定電流源との接続ノードに接続されたNチャネル
絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
を具備するレベル変換回路。
10、50 レベルシフト回路
11 第1電源
12 第2電源
13、60 中間電圧生成回路
14、16 バッファ部
15 レベルシフト部
21 第1インバータ
22 第2インバータ
23 第3インバータ
24 第4インバータ
25、26、34、35 N−MOSトランジスタ
27、28、31、62 P−MOSトランジスタ
30、33、61 定電流源
32 反転増幅器
63 差動増幅器
LVdd 第1電圧
MVdd 中間電圧
HVdd 第2電圧
Vin 入力信号
V1 第1信号
V2 第2信号
V3 第3信号
V1r 第1反転信号
V2r 第2反転信号
V3r 第3反転信号
N1 第1出力ノード
N2 第2出力ノード
N3、N4、N5、N6 接続ノード

Claims (4)

  1. ゲートに第1電圧が入力されるPチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタと、前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインに接続された定電流源と、入力端子が前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインと前記定電流源との接続ノードに接続され、出力端子が前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、前記第1電圧より高い第2電圧が供給される反転増幅器を有し、前記第1電圧と前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート・ソース間電圧との和に等しい中間電圧を出力する中間電圧生成部と、
    前記中間電圧で動作し、前記第1電圧レベルに応じた第1振幅を有する第1信号および前記第1信号を反転した第1反転信号を受けて、前記中間電圧レベルに応じた第2振幅を有する第2信号および前記第2信号を反転した第2反転信号を出力するバッファ部と、
    前記第2電圧で動作し、前記第2信号および前記第2反転信号を受けて、前記第2電圧レベルに応じた第3振幅を有する第3信号および前記第3信号を反転した第3反転信号を出力するレベルシフト部と、
    を具備することを特徴とするレベル変換回路。
  2. ゲートに第1電圧が入力されるPチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタと、一端が前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、他端に前記第1電圧より高い第2電圧が供給される定電流源と、一方の入力端子が前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースと前記定電流源との接続ノードに接続され、他方の入力端子と出力端子が接続された差動増幅器を有し、前記第1電圧と前記Pチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート・ソース間電圧との和に等しい中間電圧を出力する中間電圧生成部と、
    前記中間電圧で動作し、前記第1電圧レベルに応じた第1振幅を有する第1信号および前記第1信号を反転した第1反転信号を受けて、前記中間電圧レベルに応じた第2振幅を有する第2信号および前記第2信号を反転した第2反転信号を出力するバッファ部と、
    前記第2電圧で動作し、前記第2信号および前記第2反転信号を受けて、前記第2電圧レベルに応じた第3振幅を有する第3信号および前記第3信号を反転した第3反転信号を出力するレベルシフト部と、
    を具備することを特徴とするレベル変換回路。
  3. 前記第1電圧で動作し、前記第1振幅を有する入力信号を受けて、前記第1信号および前記第1反転信号を出力するバッファ部を具備することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のレベル変換回路。
  4. 前記レベルシフト部は、
    ゲートに前記第2信号および前記第2反転信号がそれぞれ入力され、ソースが基準電位に共通接続された一対のNチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
    前記一対のNチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインにそれぞれ負荷として接続され、互いのゲートとドレインが交差接続され、ソースが前記第2電源に共通接続された一対のPチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタとを具備し、
    前記第3信号および前記第3反転信号が、前記一対のNチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタと前記一対のPチャネル絶縁ゲート電界効果トランジスタとの接続ノードの一方および他方から出力されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のレベル変換回路。
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