JP5293473B2 - 半導体パワーモジュール - Google Patents
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Description
一般的な半導体パワーモジュール101は、第1の直流配線パターン1、第2の直流配線パターン2、および3つの交流配線パターン31,32,33が絶縁性のセラミック基板4の同一主面に形成され、それぞれ所定位置に複数の半導体チップ11s,11dなどが実装されたものである。また、セラミック基板4の裏面には、放熱体接続用パターンを介して放熱体5が接続されている。
いま、引き出しワイヤ57Pおよび57Nには、外部直流電源を接続して直流電圧が印加されるものとする。ここで、上アーム側の半導体チップ11s,11dは、直流配線パターン1上で互いに逆並列に接続されている。すなわち、IGBTのコレクタとFWDのカソードが直流配線パターン1によって正極側の引き出しワイヤ57Pに接続され、直流配線パターン1によって浮遊インダクタンスL1,L2が生じる。また、IGBTのエミッタとFWDのアノードは、半導体チップ11s,11dの上面から交流配線用のワイヤ62Uによって交流配線パターン31に接続され、浮遊インダクタンスL3,L4,L5が生じる。同様に、下アーム側の半導体チップ31s,31dと負極側の引き出しワイヤ57Nなどとの入出力端子間でも、浮遊インダクタンスL6〜L9が生じる。
図32は、従来の半導体パワーモジュールの別の一例を示す平面図である。また、図33には、図32の半導体パワーモジュールのX−X断面構成を示している。
図34は、従来の半導体パワーモジュールの異なる例を示す平面図、図35は、図34の半導体パワーモジュールのX−X断面構成を示す断面図である。
図36は、従来の半導体パワーモジュールのさらに別の一例を示す断面図である。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、半導体チップの放熱構造を変えることなくチップ実装部分の浮遊インダクタンスの低減が可能な半導体パワーモジュールを提供することを目的とする。
[第1の実施形態]
図1は、この発明の第1の実施形態である半導体パワーモジュールの主要部分の断面構成を示す断面図である。
図2は、第1の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図であり、図3は、図2の半導体パワーモジュールのY−Y断面構成を示す断面図である。
図4に示す半導体パワーモジュール111の等価回路は、9つの浮遊インダクタンスL1〜L9を含み、図2の破線部分60に相当するU相分の交流信号の出力回路要素が示されている。浮遊インダクタンスL1は、各相に共通のものであって、その大きさは引き出しワイヤ57Pが接続される直流配線パターン部10によって決まる。浮遊インダクタンスL2は、直流配線パターン部10から延びる直流配線パターン部11の大きさによって決まる。浮遊インダクタンスL2を介して接続されたFWD11dは、そのアノード電極側に第1の接続導体71による浮遊インダクタンスL3が形成される。このFWD11dとは逆並列に接続されたIGBT11sは、そのエミッタ電極側に第3の接続導体72による浮遊インダクタンスL4が形成される。
第2の経路:引き出しワイヤ57P−直流配線パターン部10−直流配線パターン部11−IGBT11s−第3の接続導体72−交流配線パターン31−FWD31d−第4の接続導体82−第2の直流配線パターン2−引き出しワイヤ57N
IGBT12s,13s,32s,33sを含む他の相の交流信号出力回路においても同様の関係で、IGBT12s,13s,32s,33sのスイッチング時には、それらに対向するFWD12d,13d,32d,33dには急変する大きさで電流が流れる。そこで、これらのIGBT11s〜13sと31s〜33sに対向配置されたFWD11d〜13dと31d〜33dに流れる電流の経路に着目して、それらの配線を近接して配置することによって、浮遊インダクタンスを低減するようにしている。
[第2の実施形態]
図5は、第2の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図であり、図6は、図5の半導体パワーモジュールのY−Y断面構成を示す断面図である。
[第3の実施形態]
図7は、第3の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図であり、図8は、図7の半導体パワーモジュールのY−Y断面構成を示す断面図である。
[第4の実施形態]
図9は、第4の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図であり、図10は、図9の半導体パワーモジュールのX−X断面構成を示す断面図である。
[第5の実施形態]
図11は、この発明の第5の実施形態である半導体パワーモジュールの主要部分の断面構成を示す断面図、図12は、第5の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図である。
ここでは、半導体パワーモジュール115における直流配線用の導体8と負極側の直流配線パターン2との接続状態を示す。すなわち、第2の接続導体81,83,85が負極側の直流配線パターン2と導電性の支持部材81b,83b,85bによって接続され、第4の接続導体82,84,86が負極側の直流配線パターン2と導電性の支持部材82b,84b,86bによって接続されている。
半導体パワーモジュール115の第2の接続導体81,83,85は、それぞれ第2の絶縁基板91,93,95を挟んで接合された第1の接続導体71,73,75と並行して配置され、第2の絶縁基板91,93,95によって第1の絶縁基板4に対して垂直に保持されている。第4の接続導体82,84,86も、それぞれ第2の絶縁基板92,94,96を挟んで接合された第3の接続導体72,74,76と並行して配置され、同様に垂直に保持されている。ここに示すスリット(切込み)S1とS2は、第1の絶縁基板4の表面に配置された直流配線パターン部11〜13の間に設けられており、同様のスリットが交流配線パターン31〜33の間にも設けられている。
ここでは、半導体パワーモジュール115における交流配線用の導体7と交流配線パターン31〜33との接続状態を示す。すなわち、第1の接続導体71,73,75が交流配線パターン31〜33と導電性の支持部材71b,73b,75bによって接続され、第3の接続導体72,74,76が交流配線パターン31〜33と導電性の支持部材72b,74b,76bによって接続されている。
図16は、図11の半導体パワーモジュールのZ4−Z4断面構成を示す断面図である。
この等価回路は、浮遊インダクタンスL1〜L6,L71,L72,L81,L82およびL9を含み、図2の破線部分60に相当するU相分の交流信号の出力回路要素が示されている。
第2の経路:引き出しワイヤ57P−直流配線パターン部10−直流配線パターン部11−IGBT11s−第3の接続導体72−交流配線パターン31−FWD31d−第4の接続導体82−第2の直流配線パターン2−引き出しワイヤ57N
IGBT12s,13s,32s,33sを含む他の相の交流信号出力回路においても同様の関係で、IGBT12s,13s,32s,33sのスイッチング時には、それらに対向するFWD12d,13d,32d,33dには急変する大きさで電流が流れる。そこで、これらのIGBT11s〜13sと31s〜33sに対向配置されたFWD11d〜13dおよび31d〜33dを流れる電流経路に着目して、それらの配線を近接して配置することによって、浮遊インダクタンスを低減するようにしている。
[第6の実施形態]
図18は、この発明の第6の実施形態である半導体パワーモジュールの主要部分の断面構成を示す断面図であり、図19は、第6の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図である。
ここでは、半導体パワーモジュール116における直流配線用の導体8と負極側の直流配線パターン2との接続状態を示す。すなわち、第2の接続導体81が負極側の直流配線パターン2と導電性の支持部材81b,82bによって左右側で接続され、第2の接続導体83が負極側の直流配線パターン2と導電性の支持部材83b,84bによって左右側で接続され、第2の接続導体85が負極側の直流配線パターン2と導電性の支持部材85b,86bによって左右側で接続されている。
第2の接続導体81,83,85は、それぞれ第2の絶縁基板91と92,93と94,95と96によって挟まれた状態で第1の絶縁基板4に対して垂直に保持され、さらに絶縁体901〜903によってそれぞれ直流配線パターン部11〜13と確実に絶縁されている。
ここでは、半導体パワーモジュール116における交流配線用の導体7と交流配線パターン31〜33との接続状態を示す。すなわち、第1の接続導体71,73,75が交流配線パターン31〜33と導電性の支持部材71b,73b,75bによって接続され、第3の接続導体72,74,76が交流配線パターン31〜33と導電性の支持部材72b,74b,76bによって接続されている。第1の接続導体71,73,75と第3の接続導体72,74,76の間には、それぞれ第2の絶縁基板91〜96を介して第2の接続導体81,83,85が保持されている。
ここでは、半導体パワーモジュール116における直流配線用の導体8として各相で共通に設けられた第2の接続導体81,83,85と、交流配線パターン31〜33上の半導体チップ31s〜33sおよび31d〜33dとの接続状態を示している。
[第7の実施形態]
図24は、この発明の第7の実施形態である半導体パワーモジュールの主要部分の断面構成を示す断面図である。
[第8の実施形態]
図25は、この発明の第8の実施形態に対応する半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図であり、図26は、図25の半導体パワーモジュールのY−Y断面構成を示す断面図である。
[第9の実施形態]
図27は、第9の実施形態に係る半導体パワーモジュールの全体構成を示す平面図である。
[第10の実施形態]
つぎに、第6、第7、第8の実施形態で説明したような、第2の接続導体81,83,85と第1の接続導体71,73,75および第3の接続導体72,74,76を一体化した配線部材について、その製作工程を説明する。
図28(A)に示す形状に切断された板状の導体80を、同図(B)に示すように折り曲げ加工をする。これにより、導体80が第2の接続導体81と導電性の支持部材81a,81bとして一体に成型できる。
図29は、別の導体バーの組立て工程を説明する図である。
2 第2の直流配線パターン
3,31〜33 交流配線パターン
4 第1の絶縁基板(セラミック基板)
5 放熱体
6 放熱体接続用パターン
7,71,73,75 第1の接続導体(交流配線用の導体)
8,81,83,85 第2の接続導体(直流配線用の導体)
9,91〜96 第2の絶縁基板(セラミック基板)
10,11〜13 直流配線パターン部
11s〜13s,31s〜33s IGBT(半導体チップ)
11d〜13d,31d〜33d FWD(半導体チップ)
51〜56 制御信号用の配線ワイヤ
57N,57P,57U,57V,57W 引き出しワイヤ
61U,62U 交流配線用のワイヤ
63U,64U 直流配線用のワイヤ
71a〜76a,71b〜76b,81a〜86a,81b〜86b 導電性の支持部材
72,74,76 第3の接続導体(交流配線用の導体)
82,84,86 第4の接続導体(直流配線用導体)
L1〜L9 モジュール内の浮遊インダクタンス
Claims (1)
- 第1の直流配線パターンの所定位置に第1のスイッチング素子および第1のダイオードの半導体チップが実装され、交流配線パターンの所定位置に第2のスイッチング素子および第2のダイオードの半導体チップが実装され、前記半導体チップの放熱用基板を有する半導体パワーモジュールにおいて、
前記第1の直流配線パターンと前記交流配線パターンとが同一平面に接合された第1の絶縁基板と、
前記第1の絶縁基板上であって前記第1の直流配線パターンに近接して配置された第2の直流配線パターンと、
前記第1の直流配線パターンに実装された前記第1のダイオードを前記交流配線パターンと電気的に接続する第1の接続導体と、
前記交流配線パターンに実装された前記第2のスイッチング素子を前記第2の直流配線パターンと電気的に接続する第2の接続導体と、
前記第1の直流配線パターンに実装された前記第1のスイッチング素子を前記交流配線パターンと電気的に接続する第3の接続導体と、
前記交流配線パターンに実装された前記第2のダイオードを前記第2の直流配線パターンと電気的に接続する第4の接続導体と、
一方の平面には前記第1または第3の接続導体が接合されるとともに、他方の平面に前記第2または第4の接続導体が接合された第2の絶縁基板と、
を備え、
前記第2の直流配線パターンは、前記第1の直流配線パターンの上面に配置された第3の絶縁基板に接合され、
前記第1の直流配線パターンおよび前記交流配線パターンが配置される方向に対して直交する一の方向に前記第1の直流配線パターンでは前記第1のダイオードおよび前記第1のスイッチング素子がこの順に配置されるとともに、前記交流配線パターンでは前記第2のスイッチング素子および前記第2のダイオードがこの順に配置されており、
前記第2の絶縁基板は、その表面および裏面に前記第1の接続導体および前記第2の接続導体が近接して配置されるとともに、前記第3の接続導体および前記第4の接続導体が近接して配置されていることを特徴とする半導体パワーモジュール。
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