JP5291335B2 - トリシンの製造方法 - Google Patents
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Description
従来、フラボン類の製造方法としてはいくつかの方法が知られている。例えば、下記の基本骨格で表されるフラボンの製造方法としては、以下のような方法が挙げられる。
(1)一般式(III)で表されるベンゾエイト化合物と一般式(IV)で表されるアセトフェノン化合物を塩基存在下、溶媒中で反応させて一般式(II)で表される化合物を得、次いでこれを酸により閉環し、必要により脱保護することを特徴とする一般式(I)で表されるフラボノイド化合物の製造方法。
(2)R1が、メチル基である上記1記載の方法。
(3)R2〜R4が、メチル基である上記1又は2記載の方法。
特に、塩基として金属水酸化物以外の塩基を用いる場合には、従来、水酸化アルカリ金属の溶解性から溶媒がアルコール類、水等に限定されていたが、本発明では、ハロゲン系溶媒やエーテル系溶媒、アルカン類、エステル類なども用いることが可能である。
保護基の導入反応は、原料である4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンゾエイト又は2',4',6'-トリヒドロキシアセトフェノンをジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒に溶解し、例えば、アシルハライド、エーテルハライド、シリルエーテルハライド、アセタールハライド等を保護されるヒドロキシ基1モルに対して、好ましくは1.0〜1.5モル程度反応させれば良い。ハライドは典型的にはクロライドである。この際、特に限定されるものはないが、脱ハロゲン化水素剤として塩基、例えば、アミンなどを存在させることが好ましく、反応温度は5〜80℃、例えば、室温、反応時間は2〜4時間程度が適当である。反応雰囲気は、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下が好ましい。
本発明において一般式(III)の化合物と一般式(IV)の化合物の反応に用いられる塩基は、特に限定されるものではない。例えば、アミン(例えば、トリメチルアミン、N,N'-ジイソプロピルエチルアミン)、アミド(例えば、リチウムジイソプロピルアミド)などが用いられる。
一般式(III)の化合物と一般式(IV)の化合物の反応モル比は好ましくは1.0〜1.5:1.5〜2.0である。
また使用する塩基の量は、一般式(III)で表される化合物1モルに対して好ましくは4.0〜8.0モル程度である。反応液中の反応温度は0℃〜室温、反応時間は12〜24時間が適当である。
一般式(II)で表される化合物の閉環に使用する酸としては硫酸、塩酸、フルオロ酢酸等が挙げられる。溶媒としては、酢酸等が挙げられる。酸の濃度は好ましくは1.0〜2.0質量%であり、反応温度は80〜100℃、反応時間は1.0〜2.0時間程度が適当である。
反応物を酢酸エチル、クロロホルム、ブタノール等の溶媒で抽出し、溶媒相を水洗し、乾燥し、溶媒を留去し、さらに必要により、シリカゲルを充填したカラムを通過させるなどの精製手段により精製することにより、一般式(I)で表されるフラボノイド化合物を得ることができる。
これをさらに必要により、用いた保護基に適した手法で脱保護することによりトリシン(5,7,4'-トリヒドロキシ-3',5'-ジメトキシフラボン)を得ることができる。
実施例1
ジエチルエーテル 5 mL に4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンゾエイト (200 mg, 0.94 mmol) とトリメチルシリルクロライド (102 mg, 0.94 mmol) を溶解させ、そこにトリエチルアミン (0.2 mL, 1.88 mmol) を加え、アルゴン雰囲気下室温で2時間攪拌した。その後、反応混合物を酢酸エチルで抽出、水洗、硫酸ナトリウムによる乾燥、溶媒留去を行い、シリカゲルを充填したカラムで精製し、4-トリメチルシリル-3,5-ジメトキシベンゾエイト92 mg を得た。収率は、34 % であった。
ジエチルエーテル 10 mL に2',4',6'-トリヒドロキシアセトフェノン (500 mg, 2.97 mmol) とトリメチルシリルクロライド (323mg, 2.97 mmol) を溶解させ、そこにトリエチルアミン (0.6 mL, 5.94 mmol) を加え、アルゴン雰囲気下室温で4時間攪拌した。その後、上記と同様に抽出、水洗、乾燥、溶媒留去、精製し、2',4'-ジ(トリメチルシリル)-6'-ヒドロキシアセトフェノン 281 mg を得た。収率は、30 % であった。
ジエチルエーテル 10 mL に4-トリメチルシリル-3,5-ジメトキシベンゾエイト (200 mg, 0.70 mmol) と2',4'-ジ(トリメチルシリル)-6'-ヒドロキシアセトフェノン (483 mg, 1.55 mmol) を溶解させ、そこにリチウムジイソプロピルアミド1 M溶液 (2.8 mL, 2.8 mmol) を加え、アルゴン雰囲気下室温で24時間攪拌した。その後、上記と同様に抽出、水洗、乾燥、溶媒留去し、終夜真空ポンプで吸引し、溶媒を留去し、乾固させた。これを酢酸10 mLに溶解させ、濃硫酸0.1 mLを加え、アルゴン雰囲気下100 ℃で1時間攪拌した。その後、上記と同様に抽出、水洗、乾燥、溶媒留去、精製し、トリシン 41 mg を得た。収率は、20 % であった。
ジエチルエーテル 5 mL に4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンゾエイト (200 mg, 0.94 mmol) とt-ブチルジメチルシリルクロライド (283 mg, 1.88 mmol) を溶解させ、そこにN,N'-ジイソプロピルエチルアミン (0.4 mL, 2.82 mmol) を加え、アルゴン雰囲気下室温で2時間攪拌した。その後、反応混合物を酢酸エチルで抽出、水洗、硫酸ナトリウムによる乾燥、溶媒留去を行い、シリカゲルを充填したカラムで精製し、4-t-ブチルジメチルシリル-3,5-ジメトキシベンゾエイト188 mg を得た。収率は、61 % であった。
ジエチルエーテル 10 mL に2',4',6'-トリヒドロキシアセトフェノン (500 mg, 2.97 mmol) とt-ブチルジメチルシリルクロライド (1343 mg, 8.91 mmol) を溶解させ、そこにN,N'-ジイソプロピルエチルアミン (2.3 mL, 8.91 mmol) を加え、アルゴン雰囲気下室温で4時間攪拌した。その後、上記と同様に抽出、水洗、乾燥、溶媒留去、精製し、2',4'-ジ-t-ブチルジメチルシリル-6'-ヒドロキシアセトフェノン 471 mg を得た。収率は、40 % であった。
ジエチルエーテル 10 mL に4-t-ブチルジメチルシリル-3,5-ジメトキシベンゾエイト (200 mg, 0.61 mmol) と2',4'-ジ-t-ブチルジメチルシリル-6'-ヒドロキシアセトフェノン (483 mg, 1.22 mmol) を溶解させ、そこにリチウムジイソプロピルアミド1 M溶液 (4.88 mL, 4.88 mmol) を加え、アルゴン雰囲気下室温で24時間攪拌した。その後、上記と同様に抽出、水洗、乾燥、溶媒留去し、終夜真空ポンプで乾固させた。これを酢酸10 mLに溶解させ、濃硫酸0.1 mLを加え、アルゴン雰囲気下100 ℃で1時間攪拌した。その後、上記と同様に抽出、水洗、乾燥、溶媒留去、精製し、トリシン 41 mg を得た。収率は、20 % であった。
核磁気共鳴吸収スペクトル ((CD3)2CO 溶媒、TMS 内部標準)
1H NMR (500 MHz): δ 3.97 (s, 6H), 6.26 (d, J = 2.3 Hz, 1H), 6.56 (d, J = 2.3 Hz, 1H), 6.74 (s, 1H), 7.39 (s, 2H)
13C NMR (125 MHz): δ56.9, 94.9, 99.7, 104.7, 105.2, 105.4, 122.4, 140.9, 149.1, 158.8, 163.4, 164.9, 165.1, 183.1
IR (KBr): 3357, 1615 cm-1
mp : 276-277℃
MS (FAB) : m/z = 331 [M++1]
Claims (3)
- 前記式(III)で表されるベンゾエイト化合物と前記式(IV)で表されるアセトフェノン化合物との反応モル比が1.0〜1.5:1.5〜2.0である請求項1記載の方法。
- R 1 がメチル基であり、かつR2〜R4がトリメチルシリル又はt−ブチルジメチルシリル基である請求項1又は2記載の方法。
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