JP5284594B2 - Dram(ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ)セル - Google Patents
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- (a)半導体基板と、(b)半導体基板内のトレンチとを含み、該トレンチは、サイドウォールおよびボトムウォールを含み、サイドウォールは上側壁部および下側壁部を含む、半導体構造を準備するステップと、
第1のドープ半導体領域および第2ドープ半導体領域を形成するステップであって、
第1のドーパンソース層をボトムウォールおよびトレンチの下側壁部の内側に形成し、第2のドーパンソース層をトレンチの上側壁部の内側に形成し、第2のドーパンソース層の厚さが20〜300Åに対して第1のドーパント層の厚さを400Åより大きくして形成して、熱処理において第1のドープ半導体領域および第2ドープ半導体領域を形成し、
第1のドープ半導体領域は、(i)トレンチの下側壁部の回りを包み、(ii)ボトムウォールおよびトレンチの下側壁部に接し、
第2のドープ半導体領域は、トレンチの上側壁部の回りを包むとともに接し、
第2のドープ半導体領域は、第1のドープ半導体領域に自己整合し、第1のドープ半導体領域は、第1のドーピング極性を電気的に示すドーパントを含み、
第2のドープ半導体領域は、第1のドーピング極性に反対の第2ドーピング極性を電気的に示すドーパントを含むステップと、
第1のドープ半導体領域および第2のドープ半導体領域の形成後、トレンチ内に誘電体層および電気導電性領域を形成するステップであって、
誘電体層は、サイドウォールおよびトレンチのボトムウォール上にあり、
誘電体層は、コンデンサ誘電部およびカラー誘電部を含み、
電気導電性領域は、第1のドーピング極性のドーパントを含み、
電気導電性領域は、第1の部分、第2の部分および第3の部分を含み、
第2の部分は、第1の部分上に電気的に接続され、第3の部分は、第2の部分上に電気的に接続されており、
カラー誘電体部と第2のドープ半導体領域の接合面から移行し、カラー誘電体部から離れるにつれて、第2のドープ半導体領域のドーピング濃度は減少するステップとを有する半導体製造方法。 - 前記電気導電性領域を形成するステップは、トレンチ内に電気導電性領域の第1の部分を形成するステップと、
トレンチ内に、第1の部分上に電気的に接続された電気導電性領域の第2の部分を形成するステップと、
トレンチ内に、電気導電性領域の第3の領域を第2の部分上に形成するステップとを有する請求項1の方法。 - 前記第1のドープ半導体領域および第2のドープ半導体領域を形成するステップは、
下側壁部およびトレンチのボトムウォール上に第1のドーピングソース領域を形成するステップであって、第1のドーピングソース領域は、第1のドーピング極性のドーパントを含むステップと、
第1のドーピングソース領域の形成後に、トレンチの上側壁部上に第2ドーピングソース領域を形成するステップであって、第2のドーピングソース領域は、第1のドーピング極性と反対の第2のドーピング極性のドーパントを含むステップと、
第2のドーピングソース領域の形成後、半導体構造をアニールして、第1および第2のドーピングソース領域から半導体基板中にドーパントを同時に拡散し、第1のドープ半導体領域および第2のドープ半導体領域をそれぞれもたらすステップとを有する請求項1の方法。 - 前記誘電体層および電気導電性領域を形成するステップは、
下側壁部およびトレンチのボトムウォール上にコンデンサ誘電体部を形成するステップと、
トレンチ内に電気導電性領域の第1の部分を形成するステップと、
トレンチの上側壁部上にカラー誘電体部を形成するステップと、
トレンチ内の第1の部分上に接続された電気導電性領域の第2の部分を形成するステップであって、カラー誘電体部は、電気導電性領域の第2の部分と第2のドープ半導体領域の間に挟まれるステップと、
トレンチ内の第2の部分上に電気導電性領域の第3の部分を形成するステップとを有する請求項1の方法。 - さらに、埋設ストラップ領域を形成するステップを有し、
埋設ストラップ領域は、電気導電性領域の第3の部分と第2のドープ半導体領域の両方と直接接触しており、
埋設ストラップ領域は、第1のドーピング極性を有するドーパントを含む請求項4の方法。
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