JP5282568B2 - 排気ガス浄化方法及び排気ガス浄化システム - Google Patents
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Description
3 排気通路
4 排気ガス浄化装置
4a 酸化触媒ユニット(DOC)
4b NOx吸蔵還元型触媒ユニット(LNT)
4c 触媒付きDPFユニット(DPF)
5 バイパス通路
6 HC吸着装置
7 流路切替バルブ(排気流路切替手段)
8 燃焼器
11 第1温度センサ
12 第2温度センサ
13 第3温度センサ
14 第1λセンサ
15 第2λセンサ
A2 二次空気
G 排気ガス
G1 HC吸着装置を通過しない排気ガス
G2 HC吸着装置を通過する排気ガス
G3 排気ガス浄化装置に流入する排気ガス
Gc 排気ガス浄化装置から流出する排気ガス
Tg1、Tg2、Tg3 排気ガス温度
T1 第1閾値
T2 第2閾値
Tscr 第1指標温度
Tdoc 第2指標温度
Claims (4)
- 内燃機関の排気通路に排気ガス浄化装置を設け、この排気通路に排気ガス浄化装置の上流側で分岐して再び合流するバイパス通路を設け、このバイパス通路に未燃炭化水素を低温で吸着する炭化水素吸着装置を配置し、更に、このバイパス通路の分岐部位より上流側の前記排気通路に、燃料供給配管から供給される燃料を燃焼して前記分岐部位より上流側の前記排気通路を流れる排気ガスを昇温させる、又は、前記分岐部位より上流側の前記排気通路に前記燃料と二次空気供給配管から供給される二次空気を供給する燃焼器を備えた排気ガス浄化システムの排気ガス浄化方法において、
前記炭化水素吸着装置の温度を指標する第1指標温度が、前記炭化水素吸着装置が吸着した炭化水素を放出し始める温度よりも予め設定した温度だけ低い第1閾値より低く、かつ、前記排気ガス浄化装置の温度を指標する第2指標温度が、前記排気ガス浄化装置の触媒が活性化する温度よりも予め設定した温度だけ高い第2閾値より低いときは、前記燃焼器における着火装置による着火操作で前記燃料を着火することで前記排気ガスを昇温させ、この昇温した排気ガスを前記バイパス通路に流し、
前記第1指標温度が前記第1閾値よりも低く、かつ、前記第2指標温度が前記第2閾値より高いときは、前記燃焼器における着火装置による前記燃料の着火操作を停止すると共に、前記排気ガスを前記バイパス通路に流さずに、前記燃焼器の上流側の前記排気ガスの温度と空気過剰率と前記排気ガス浄化装置の状態に基づいて、前記燃焼器経由で前記排気通路に供給する前記燃料の流量と前記二次空気の流量を調整し、
前記第1指標温度が前記第1閾値以上で、かつ、前記第2指標温度が前記第2閾値より低いときは、前記燃焼器における着火装置による着火操作で前記燃料を着火することで前記排気ガスを昇温させ、この昇温した排気ガスを前記バイパス通路に流さず、
前記第1指標温度が前記第1閾値以上で、かつ、前記第2指標温度が前記第2閾値以上のときは、前記燃焼器における着火装置による前記燃料の着火操作を停止すると共に、前記排気ガスを前記バイパス通路に流さずに、前記燃焼器の上流側の前記排気ガスの温度と空気過剰率と前記排気ガス浄化装置の状態に基づいて、前記燃焼器経由で前記排気通路に供給する前記燃料の流量と前記二次空気の流量を調整することを特徴とする排気ガス浄化方法。 - 前記排気ガス浄化装置がDPF又は触媒付きDPFを備えて、捕集した微粒子状物質の除去のためのPM再生処理を行う場合、又は、前記排気ガス浄化装置が脱硫処理を必要とする触媒装置を備えて脱硫処理を行う場合に、前記燃焼器における着火装置による着火操作で前記燃料を着火して燃焼ガスを前記排気通路に供給することを特徴とする請求項1記載の排気ガス浄化方法。
- 内燃機関の排気通路に排気ガス浄化装置を設け、この排気通路に排気ガス浄化装置の上流側で分岐して再び合流するバイパス通路を設け、このバイパス通路に未燃炭化水素を低温で吸着する炭化水素吸着装置を配置し、このバイパス通路に排気ガスを流すか否かを制御する排気流路切替手段を設け、更に、このバイパス通路の分岐部位より上流側の前記排気通路に、燃料供給配管から供給される燃料を燃焼して前記分岐部位より上流側の前記排気通路を流れる排気ガスを昇温させる、又は、前記分岐部位より上流側の前記排気通路に前記燃料と二次空気供給配管から供給される二次空気を供給する燃焼器と、前記排気流路切替手段と前記燃焼器を制御する制御装置を備えた排気ガス浄化システムにおいて、
この制御装置が、
前記炭化水素吸着装置の温度を指標する第1指標温度が、前記炭化水素吸着装置が吸着した炭化水素を放出し始める温度よりも予め設定した温度だけ低い第1閾値より低く、かつ、前記排気ガス浄化装置の温度を指標する第2指標温度が、前記排気ガス浄化装置の触媒が活性化する温度よりも予め設定した温度だけ高い第2閾値より低いときは、前記燃焼器における着火装置による着火操作で前記燃料を着火する制御を行うことで前記排気ガスを昇温させ、この昇温した排気ガスを前記バイパス通路に流すように前記排気流路切替手段を制御し、
前記第1指標温度が前記第1閾値よりも低く、かつ、前記第2指標温度が前記第2閾値より高いときは、前記燃焼器における着火装置による前記燃料の着火操作を停止する制御を行うと共に、前記排気ガスを前記バイパス通路に流さないように前記排気流路切替手段を制御し、前記燃焼器の上流側の前記排気ガスの温度と空気過剰率と前記排気ガス浄化装置の状態に基づいて、前記燃焼器経由で前記排気通路に供給する前記燃料の流量と前記二次空気の流量をする制御を行い、
前記第1指標温度が前記第1閾値以上で、かつ、前記第2指標温度が前記第2閾値より低いときは、前記燃焼器における着火装置による着火操作で前記燃料を着火する制御を行うことで前記排気ガスを昇温させ、この昇温した排気ガスを前記バイパス通路に流さないように前記排気流路切替手段を制御し、
前記第1指標温度が前記第1閾値以上で、かつ、前記第2指標温度が前記第2閾値以上のときは、前記燃焼器における着火装置による前記燃料の着火操作を停止する制御を行うと共に、前記排気ガスを前記バイパス通路に流さないように前記排気流路切替手段を制御し、更に、前記燃焼器の上流側の前記排気ガスの温度と空気過剰率と前記排気ガス浄化装置の状態に基づいて、前記燃焼器経由で前記排気通路に供給する前記燃料の流量と前記二次空気の流量を調整する制御を行うことを特徴とする排気ガス浄化システム。 - 前記制御装置が、前記排気ガス浄化装置がDPF又は触媒付きDPFを備えて捕集した微粒子の除去によるPM再生処理を行う場合、又は、前記排気ガス浄化装置が脱硫処理を必要とする触媒装置を備えて脱硫処理を行う場合に、前記燃焼器における着火装置による着火操作で前記燃料を着火して燃焼ガスを前記排気通路に供給する制御を行うことを特徴とする請求項3記載の排気ガス浄化システム。
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