JP5281271B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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厚み110nm、幅5mm、シート抵抗約12Ω/□のITO膜(陽極1)が図2のパターンのように成膜された、0.7mm厚のガラス製の基板5を用意した。この基板5を、洗剤、イオン交換水、アセトンで各10分間超音波洗浄した後、IPA(イソプロピルアルコール)で蒸気洗浄して乾燥し、さらにUV/O3処理を施した。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3からなる第一層を0.1nmの膜厚で成膜した後、MoO3と下記[化3]に示すルブレンとをモル比95:5の割合での共蒸着した第二層を5nm厚に成膜して形成した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜からなる第一層を0.1nmの膜厚で成膜した後、カーボンナノチューブ(CNT)の蒸着膜からなる第三層を5nm厚に成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3と下記[化4]に示す4,4’−ジメトキシビフェニルとをモル比95:5の割合で含む共蒸着層からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、MoO3の蒸着膜からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3と上記[化4]に示す4,4’−ジメトキシビフェニルとをモル比95:5の割合で含む共蒸着層からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、MoO3とルブレンをモル比95:5の割合で含む共蒸着層からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、ITOとルブレンをモル比95:5の割合で含む共蒸着層からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、ITOとルブレンをモル比95:5の割合で含む共蒸着を厚み5nmに成膜し、続けてMoO3からなる蒸着膜を厚み5nmで成膜して二層構造の第二層を形成した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、ITOとMoO3をモル比1:1の割合で含む共蒸着層からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際にCaCO3(Caの仕事関数2.9eV)の蒸着膜からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、ITOとMoO3をモル比1:1の割合で含む共蒸着層からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際にNa2CO3(Naの仕事関数2.8eV)の蒸着膜からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、ITOとMoO3をモル比1:1の割合で含む共蒸着層からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、LiFの蒸着膜を1nmの膜厚で成膜した後、Alの蒸着膜を1nmの膜厚で成膜し、次いでV2O5の蒸着膜を5nmの膜厚で成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Al(仕事関数:4.6eV)の蒸着膜を1nmの膜厚で成膜した後、MoO3の蒸着膜を5nmの膜厚で成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜を1nmの膜厚で成膜した後、SiO2の蒸着膜を5nmの膜厚で成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜を1nmの膜厚で成膜した後、SiO2とルブレンをモル比95:5の割合で含む共蒸着膜を5nmの膜厚で成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Cs2CO3の蒸着膜を1nmの膜厚で成膜した後、絶縁性のアモルファスカーボンをスパッタで5nmの膜厚で成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際に、Alと4,4’−ジメトキシビフェニルをモル比95:5の割合で含む共蒸着膜を1nmの膜厚で成膜した後、MoO3の蒸着膜を5nmの膜厚で成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
実施例1において、中間層3を形成する際にAg2CO3(Agの仕事関数4.5eV)の蒸着膜からなる第一層を厚み1nmの膜厚で成膜した後、ITOとMoO3をモル比1:1の割合で含む共蒸着層からなる第二層を厚み5nmに成膜した。それ以外は実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子Aを得た。
上記のようにして得られた各実施例及び比較例の有機エレクトロルミネッセンス素子Aを電源(米国ケースレーインスツルメンツ社製のソースメータ、型番2400)に接続し、10mA/cm2の電流密度で通電した際の電流効率と、この通電時の電流効率と、初期発光輝度を1000(cd/m2)とした場合の発光輝度半減寿命の相対値(実施例1を1として規格化)を評価した。尚、輝度評価にはトプコン株式会社製「BM−5」を使用した。この結果を表1に示す。
2 陰極
3 中間層
4 発光層
4a 発光層
4b 発光層
Claims (5)
- 陽極と陰極の間に、中間層を介して積層された複数の発光層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記中間層が仕事関数3.7eV以下の電子供与性の金属の炭酸化合物を含有する第一層と、金属酸化物半導体を含有する第二層とを積層して形成されたものであり、
上記第一層が、絶縁性化合物を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 上記第二層が、絶縁性化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 上記第一層中の絶縁性化合物の含有率が、この第一層中の電子供与性の金属の炭酸化合物に対して0.1モル%〜50モル%の範囲である請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 上記第一層中の絶縁性化合物が、多環芳香族化合物、絶縁性の非共役芳香族化合物、これらの化合物の誘導体、有機半導体材料ではない有機分子、金属フッ化物、金属酸化物、及び金属窒化物から選択されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 上記第一層中の絶縁性化合物が、ビフェニルであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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