JP5272218B2 - セミフィニッシュレンズの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、セミフィニッシュレンズの製造方法、この製造方法により製造したセミフィニッシュレンズ、セミフィニッシュレンズを原料とするプラスティックレンズの製造方法に関する。

従来、プラスティックレンズは、メガネレンズ、カメラレンズ、ピックアップレンズ等の光学素子等に広く用いられている。
プラスティックレンズは、一般に、注型成形または射出成形等により製造される。このような方法により製造されるレンズには、第１面、第２面ともに光学面を有しているフィニッシュレンズと、第１面のみ光学面を有し、第２面は後に所望の形状に加工されることを前提に予めレンズを厚くしてあるセミフィニッシュレンズと、がある。
特に、顧客の処方に合わせて数千種類のレンズを製造するメガネレンズにおいては、第２面の加工のみで簡易かつ短時間に所望のレンズが得られることから、セミフィニッシュレンズが用いられることが多い。

しかし、セミフィニッシュレンズは、第２面側に厚く形成されているため、フィニッシュレンズと比べ、成形時の加熱、冷却、重合収縮等による内部応力が残留しやすい。
内部応力が残留したセミフィニッシュレンズは、徐々に内部応力を開放あるいは緩和する方向へ変形し、光学面を有しているべき第１面の形状精度が低下する。
第１面の形状精度が不十分な場合、後工程で第２面を加工してもレンズとして十分な光学精度を得られない。
そこで、セミフィニッシュレンズを、そのガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で加熱し、残留する内部応力を開放して、形状精度の高い第１面を得るアニール処理が必須とされている。

一方、特許文献１〜３等には、屈折率（ｎｄ）１．７以上の樹脂材料を与える重合性組成物が提案されており、高屈折率で光学特性に優れたプラスティックレンズを形成するための基材組成物として注目されている。

特開２００６−１６９１９０号公報（第３頁〜第８頁） 特開２００６−８３３１３号公報（第４頁〜第１０頁） 特開２００６−１８２９０８号公報（第４頁〜第１０頁）

しかしながら、特許文献１〜３に記載の重合性組成物を重合させて得られる樹脂材料は、熱可塑の性質を備えている。このため、これらの樹脂材料で形成されたプラスティックレンズに、樹脂材料のＴｇを超える温度でのアニール処理を施すと、プラスティックレンズが変形し第１面および第２面の形状精度が失われるおそれがある。
特に、セミフィニッシュレンズでは成形後のアニール処理が必須であるため、特許文献１〜３に記載の重合性組成物を用いて、高屈折率で形状精度の高いセミフィニッシュレンズを得ることは、実質上不可能であった。
また、このような課題は、特許文献１〜３に記載の樹脂材料に限定されず、熱可塑性を有する樹脂材料に共通するものであった。つまり、熱可塑性の樹脂材料を用いて形状精度の高いセミフィニッシュレンズを形成することは、一般に不可能とされていた。

本発明の目的は、熱可塑性を有する樹脂材料で形成され、形状精度に優れた第１面を有するセミフィニッシュレンズの製造方法、形状精度に優れた第１面を有するセミフィニッシュレンズ、このセミフィニッシュレンズを原料とし、第２面が所望の形状に加工されたプラスティックレンズの製造方法を提供することである。

本発明のセミフィニッシュレンズの製造方法は、光学的に仕上げられた第１面と、所望の形状に後加工される第２面と、を有するセミフィニッシュレンズの製造方法であって、型の内部に基材組成物を注入した後、前記基材組成物を重合させ、片面が光学的に仕上げられた光学面とされている光学基材を得る基材形成工程と、前記基材形成工程で得られた前記光学基材から前記型を外す離型工程と、前記型から外された前記光学基材の前記光学面に、前記光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化するコーティング材料を塗布した後、前記コーティング材料を硬化させてコーティング層を形成するコーティング層形成工程と、前記コーティング層が形成された前記光学基材を、前記光学基材のガラス転移点以上の温度で加熱するアニール工程と、を備え、ＴＭＡ（Thermomechanical Analyzer）を用い、荷重５０ｇ、直径１ｍｍの針入プローブ、初期温度２５℃、昇温スピード１０℃／ｍｉｎの条件で、前記光学基材の熱機械分析を実施した場合において、前記光学基材のガラス転移点＋１０℃の測定温度における前記光学基材の厚みの変化量は、前記初期温度における前記光学基材の厚みの１０％以上であることを特徴とする。

この発明によれば、基材形成工程において、測定温度（Ｔｇ＋１０℃）における変形量が大きい材料、つまり熱可塑性を有する材料によって、光学基材が形成される。
コーティング層形成工程では、離型工程で型から外された光学基材の光学面に、光学基材のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で硬化するコーティング材料を塗布し、コーティング材料を硬化させてコーティング層を形成する。
アニール工程では、コーティング層が形成された光学基材を、光学基材のＴｇ以上の温度で加熱する。

ここで、コーティング層が、光学基材のＴｇ以下の温度で硬化するコーティング材料により形成されるので、光学基材の光学面においてコーティング材料を硬化させる際に、光学基材がそのＴｇ以上に加熱されることがない。したがって、コーティング層形成工程においては、熱可塑性を有する光学基材が変形する可能性が低い。

そして、硬化したコーティング層は、光学基材のＴｇ以上に加熱されたとしても、軟化することなく、その形状を維持することができる。
すなわち、アニール工程において、光学基材は軟化するが、光学基材の光学面に設けられたコーティング層は軟化しない。
コーティング層が、Ｔｇ以上の加熱によって軟化した光学基材および光学面の変形を防ぐので、形状精度の高い第１面を有するセミフィニッシュレンズを得ることができる。
したがって、本発明のセミフィニッシュレンズの製造方法によれば、熱可塑性を有する樹脂材料で形成され、形状精度に優れた第１面を有するセミフィニッシュレンズを得ることができる。

また、本発明において、コーティング材料が「光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化する」とは、コーティング材料を硬化させる際に、外部から加える温度が、光学基材のＴｇ以下であることを意味する。
例えば、加熱重合によりコーティング材料を硬化させる場合には、外部から加えられる熱が光学基材のＴｇ以下であることが必要である。
また、例えば、紫外線などのエネルギー照射によってコーティング材料を硬化させる場合にも、重合中におけるコーティング材料の温度が光学基材のＴｇ以下となるように調整することが必要である。

本発明のセミフィニッシュレンズの製造方法では、前記基材組成物は、下記式（１）で表される化合物を含有することが好ましい。

式（１）中、Ｍは、Ｓｎ原子、Ｓｉ原子、Ｚｒ原子、Ｔｉ原子、またはＧｅ原子である。Ｒ_１は、炭素数１〜４のアルキレン基であり、Ｘ_１は、Ｓ原子またはＯ原子であり、ｎは０〜４の整数を示す。Ｙは、下記の式（１−１）、または式（１−２）、または式（１−３）のいずれかである。

一般式（１）で示される化合物は、屈折率が高く、光学特性に優れた光学基材を与える一方、熱可塑性を有するためアニール工程において変形を生じるという問題点があった。
これに対し、本発明の製造方法では、光学基材の光学面に形成されたコーティング層が、アニール工程において、光学基材および光学面の変形を防止するので、高屈折率で形状精度が高く、光学特性に優れたセミフィニッシュレンズを製造することができる。

本発明のセミフィニッシュレンズの製造方法では、前記コーティング層形成工程は、前記光学基材の前記光学面に変形防止層を形成する工程を兼ねることが好ましい。
この発明では、変形防止層であるコーティング層が、光学基材の光学面に形成されているので、アニール工程において、光学基材および光学面の形状変化を防止することができる。これにより、熱可塑性を有する樹脂材料で形成され、形状精度に優れた第１面を有するセミフィニッシュレンズを得ることができる。

本発明のセミフィニッシュレンズの製造方法において、前記コーティング層形成工程では、前記光学基材の前記光学面と対向する対向面にも前記コーティング層を形成することが好ましい。
この発明では、光学基材の光学面に加え、対向面にもコーティング層が形成されるので、より確実にアニール工程における光学基材の変形を防止することができる。

本発明のセミフィニッシュレンズは、上述のセミフィニッシュレンズの製造方法によって製造されたことを特徴とする。
本発明のセミフィニッシュレンズは、上述の製造方法により製造されるので、熱可塑性を有する樹脂材料で形成されていながら、形状精度に優れた第１面を有する。
特に、上記式（１）で表される化合物を用いたセミフィニッシュレンズは、高屈折率で形状精度が高く、光学特性に優れる。

本発明のプラスティックレンズの製造方法は、上述のセミフィニッシュレンズの製造方法によって製造されたセミフィニッシュレンズの前記第２面を研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後、前記セミフィニッシュレンズの前記第２面側に、前記光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化する第２コーティング材料を塗布し、前記第２コーティング材料を硬化させて第２コーティング層を形成する後コーティング層形成工程と、前記後コーティング層形成工程の後、前記セミフィニッシュレンズを前記光学基材のガラス転移点以上の温度で焼成する焼成工程と、を備えることを特徴とする。

この発明によれば、研磨工程において、上述のセミフィニッシュレンズの製造方法によって製造されたセミフィニッシュレンズの第２面を研磨し、光学的に仕上げられた所望の形状とする。
後コーティング層形成工程では、セミフィニッシュレンズの第２面側に、光学基材のＴｇ以下の温度で硬化する第２コーティング材料を塗布し、第２コーティング材料を硬化させて第２コーティング層を形成する。
焼成工程では、セミフィニッシュレンズを光学基材のＴｇ以上の温度で焼成する。

ここで、第２コーティング層が、光学基材のＴｇ以下の温度で硬化する第２コーティング材料により形成されるので、セミフィニッシュレンズの第２面側において第２コーティング材料を硬化させる際に、光学基材がそのＴｇ以上に加熱されることがない。したがって、後コーティング層形成工程においては、熱可塑性を有する光学基材が変形する可能性が低い。

そして、硬化した第２コーティング層は、光学基材のＴｇ以上に加熱されたとしても、軟化することなく、その形状を維持することができる。
すなわち、焼成工程において、光学基材は軟化するが、セミフィニッシュレンズの第２面側に設けられた第２コーティング層は軟化しない。また、光学基材の光学面に設けられたコーティング層も軟化しない。
よって、コーティング層および第２コーティング層が、Ｔｇ以上の加熱によって軟化した光学基材の変形を防ぐので、形状精度の高い第１面および第２面を有するプラスティックレンズを得ることができる。
したがって、本発明のプラスティックレンズの製造方法によれば、熱可塑性を有する樹脂材料で形成されたセミフィニッシュレンズを原料とし、第２面が所望の形状に加工された形状精度の高いプラスティックレンズを得ることができる。

本発明では、前記後コーティング層形成工程は、前記セミフィニッシュレンズの前記第２面側に変形防止層を形成する工程を兼ねることが好ましい。
この発明では、変形防止層である第２コーティング層が、セミフィニッシュレンズの第２面側に形成されているので、焼成工程において、光学基材の形状変化を防止することができる。これにより、熱可塑性を有する樹脂材料で形成されたセミフィニッシュレンズを原料とし、第２面が所望の形状に加工された形状精度の高いプラスティックレンズを得ることができる。

本発明では、前記後コーティング層形成工程は、前記セミフィニッシュレンズの前記第２面にプライマ層を形成するプライマ層形成工程と、前記第２面もしくは前記プライマ層の表面にハードコート層を形成するハードコート層形成工程と、前記第２面もしくは前記ハードコート層の表面もしくは前記プライマ層の表面に反射防止層を形成する反射防止層形成工程と、の少なくとも一つを兼ねることが好ましい。
この発明では、後コーティング層形成工程が、プライマ層形成工程と、ハードコート層形成工程と、反射防止層形成工程との少なくとも一つを兼ねることにより、焼成工程の後の工程が短縮する。このことから、簡略化されたプラスティックレンズの製造方法を提供することができる。

本発明のプラスティックレンズの製造方法において、前記後コーティング層形成工程では、前記セミフィニッシュレンズの前記第１面側にも前記第２コーティング層を形成することが好ましい。
この発明では、セミフィニッシュレンズの第２面側に加え、第１面側にもコーティング層が形成されるので、より確実に焼成工程における光学基材の変形を防止することができる。

本発明では、コーティング層形成工程において、熱可塑性を有する光学基材の光学面に、光学基材のＴｇ以下の温度で硬化する材料から形成されるコーティング層を形成するので、光学基材のＴｇ以上の温度でのアニール工程を実施した場合にも、コーティング層の存在によって光学基材の変形を防ぐことができ、熱可塑性を有する樹脂材料で形成されていながら、形状精度に優れた第１面を有するセミフィニッシュレンズを得ることができる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明のセミフィニッシュレンズ、プラスティックレンズ、および、これらの製造方法は、以下の実施形態に限定されるものではない。
図１は、本発明の各実施形態のセミフィニッシュレンズおよびプラスティックレンズの概略構成を示す断面図である。
図２は、セミフィニッシュレンズの製造方法を示すフローチャート図である。
図３〜５は、セミフィニッシュレンズの製造方法を示す概略図である。
図６〜９は、それぞれプラスティックレンズの製造方法の実施形態１〜４を示すフローチャート図である。
図１０は、研磨工程の概略を示すフローチャート図である。
図１１は、実施例に係るアニール工程を示す概略断面図である。

［セミフィニッシュレンズおよびプラスティックレンズ］
図１（Ａ）は、本実施形態のセミフィニッシュレンズ１を示す。
本実施形態では、セミフィニッシュレンズ１はメガネレンズ用である。ただし、本発明はメガネレンズ用のセミフィニッシュレンズに限定されるものではない。
図１（Ａ）において、セミフィニッシュレンズ１は、光学基材１０と、光学基材１０の光学面１０Ａおよび対向面１０Ｂに形成されたコーティング層２とを備え、光学的に仕上げられた第１面１Ａと、所望の形状に後加工される第２面１Ｂと、を有する。

図１（Ｂ）は、本実施形態のプラスティックレンズ１００を示す。
本実施形態では、プラスティックレンズ１００はメガネレンズである。ただし、本発明はメガネレンズに限定されるものではない。
図１（Ｂ）において、プラスティックレンズ１００は、上述のセミフィニッシュレンズ１と、セミフィニッシュレンズ１の第１面１Ａおよび研磨面１Ｃに形成された第２コーティング層３と、を備える。
ここで、研磨面１Ｃは、セミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂを研磨して得られた面である。
なお、第２コーティング層３の表面には、２点鎖線で示す層Ｐを備えていてもよい。

ここで、ＴＭＡを用い、荷重５０ｇ、直径２ｍｍの針入プローブ、初期温度２５℃、昇温スピード１０℃／ｍｉｎの条件で、光学基材１０の熱機械分析を実施した場合において、光学基材１０のＴｇ＋１０℃の測定温度における光学基材１０の厚みの変化量は、初期温度における光学基材１０の厚みの１０％以上である。
つまり、光学基材１０は、熱可塑性を有する。

光学基材１０は、一般式（１）で示される化合物を含有する基材組成物１１から形成されることが好ましい。

一般式（１）において、Ｍは、Ｓｎ原子、Ｓｉ原子、Ｚｒ原子、Ｔｉ原子、またはＧｅ原子である。Ｒ_１は、炭素数１〜４のアルキレン基であり、Ｘ_１は、Ｓ原子またはＯ原子であり、ｎは０〜４の整数を示す。Ｙは、下記の式（１−１）、または（１−２）、または（１−３）のいずれかである。

通常、プラスティックレンズ１００は、セミフィニッシュレンズ１の表面に、プライマ層、ハードコート層、および反射防止層が、内側から外側に向けて積層されているが、場合によっては、プライマ層や反射防止層が省略されることがある。
本実施形態の第２コーティング層３は、プライマ層、ハードコート層、および反射防止層の少なくとも一つである。
つまり、第２コーティング層３は、図１（Ｂ）において、一層構成に描画しているが、一層構成もしくは複数の層からなる複層構成である。
コーティング層２についても、一層構成または複層構成が可能である。コーティング層２は、プライマ層、ハードコート層、および反射防止層のいずれか、または複数の組合せであってもよい。
そして、コーティング層２および第２コーティング層３は、光学基材１０の変形防止用であって、光学基材１０のＴｇ以下の温度で硬化するコーティング材料を硬化させることにより形成される。
なお、コーティング層２および第２コーティング層３は、同一のコーティング材料から形成されてもよく、異なるコーティング材料から形成されてもよい。

第２コーティング層３および層Ｐとしては、例えば、以下に示す構成が挙げられる。
「構成１」
第２コーティング層３は、プライマ層およびハードコート層からなる二層構成である。層Ｐは、反射防止層である。
「構成２」
第２コーティング層３は、ハードコート層からなる一層構成である。層Ｐは、反射防止層である。
「構成３」
第２コーティング層３は、プライマ層、ハードコート層および反射防止層からなる三層構成である。層Ｐは、形成されていない。
「構成４」
第２コーティング層３は、複数の無機層が積層された反射防止層からなる多層構成である。層Ｐは、形成されていない。

プライマ層は、例えば、ウレタン樹脂などで形成される。
ハードコート層は、例えば、シリコーン系材料、アクリル系材料などで形成される。
反射防止層は、一層構成もしくは複数の層からなる複層構成を備える。複層構成の反射防止層としては、例えば、ＳｉＯ_２からなる層と、ＺｒＯ_２またはＴｉＯ_２からなる層と、が交互に積層された構成が挙げられる。

［セミフィニッシュレンズの製造方法］
図２は、本実施形態のセミフィニッシュレンズ１の製造方法を示すフローチャート図である。
本実施形態のセミフィニッシュレンズ１の製造方法は、図２に示すように、基材形成工程Ｓ１００と、離型工程Ｓ１０４と、コーティング層形成工程Ｓ１０５と、アニール工程Ｓ１０６と、を備える。

［基材形成工程および離型工程］
基材形成工程Ｓ１００は、前記式（１）で示される化合物を含有する基材組成物を重合させ、片面が光学的に仕上げられた光学面１０Ａとされている光学基材１０を形成する工程である。
基材形成工程Ｓ１００は、図２に示すように、基材組成物を調製する原料調合工程Ｓ１０１と、原料調合工程Ｓ１０１で得られた基材組成物をガラスモールドに注入するガラスモールド注入工程Ｓ１０２と、ガラスモールドに注入した基材組成物を重合、硬化させる硬化工程Ｓ１０３と、を備える。
離型工程Ｓ１０４は、基材形成工程Ｓ１００で得られた光学基材１０からガラスモールドを外す工程である。

図３は、基材形成工程Ｓ１００および離型工程Ｓ１０４の一例を示す概略図である。
図３（Ａ）は、基材形成工程Ｓ１００に用いる成型用ガラスモールド２０の断面図である。
成型用ガラスモールド２０は、隙間を介して対向配置された一対のガラスモールド２１，２２と、一対のガラスモールド２１，２２の外周面に巻きつけられた粘着テープ２３と、を備え、ガラスモールド２１，２２と粘着テープ２３により形成されたキャビティ２４を有している。
キャビティ２４は、度数が約−３Ｄの光学基材１０を形作るように形成されている。

図３（Ｂ）は、ガラスモールド注入工程Ｓ１０２における成型用ガラスモールド２０の断面図である。
ガラスモールド注入工程Ｓ１０２では、図３（Ｂ）に示すように、注入ノズル２５を用いて、キャビティ２４に、原料調合工程Ｓ１０１において得られた基材組成物１１を注入する。
図３（Ｃ）は、硬化工程Ｓ１０３における成型用ガラスモールド２０の断面図である。
硬化工程Ｓ１０３では、図３（Ｃ）に示すように、加熱や紫外線照射などの手段により、成型用ガラスモールド２０内の基材組成物１１を重合、硬化させ、光学基材１０を形成する。
図３（Ｄ）は、離型工程Ｓ１０４における光学基材１０の断面図である。
離型工程Ｓ１０４では、図３（Ｄ）に示すように、粘着テープ２３を一対のガラスモールド２１，２２および光学基材１０から取り外し、ガラスモールド２１，２２を光学基材１０から離間させて、光学基材１０を取り出す。

［コーティング層形成工程］
コーティング層形成工程Ｓ１０５は、光学基材１０の光学面１０Ａおよび対向面１０Ｂに、所定のコーティング材料を塗布した後、コーティング材料を硬化させてコーティング層２を形成する工程である。
コーティング層形成工程Ｓ１０５は、浸漬法などのウェットプロセスや、真空蒸着法などのドライプロセスにより実施することができる。
図４，５は、それぞれ、コーティング層形成工程Ｓ１０５の一例を示す概略図である。

［浸漬法によるコーティング層形成工程］
図４は、浸漬法によるコーティング層形成工程Ｓ１０５に用いる浸漬装置３０を示す概略斜視図である。
浸漬装置３０は、タンク３４と昇降部３１とを備える。
タンク３４内には、コーティング組成物Ｌが収納されている。
昇降部３１は、ロッド３２およびロッド３２に連結された把持具３３を有する。昇降部３１は、図４に示す矢印の方向に昇降する構造になっている。
把持具３３は、光学基材１０の外周面部を把持する。

コーティング層形成工程Ｓ１０５では、まず、把持具３３が光学基材１０の外周面部を把持した状態で、昇降部３１を降下させ、タンク３４内のコーティング組成物Ｌに、光学基材１０を浸漬させる。
浸漬後、昇降部３１を上昇させることにより、タンク３４内から光学基材１０を引き上る。これにより、コーティング組成物Ｌが光学基材１０に塗布された状態となる。
続いて、光学基材１０に塗布されたコーティング組成物Ｌを、加熱や紫外線照射などの手段により硬化させる。これにより、光学基材１０の表面にコーティング層２が形成される。
なお、引き上げ速度および硬化手段、条件などについては、適宜決定することができる。

このようなコーティング層形成工程Ｓ１０５において、コーティング層２としてプライマ層を形成する場合、コーティング組成物Ｌとしては、例えば、ウレタン樹脂などからなるプライマ組成物が利用できる。
また、コーティング層２としてハードコート層を形成する場合、コーティング組成物Ｌとしては、例えば、シリコーン系材料やアクリル系材料などからなるハードコート組成物が利用でき、反射防止層を形成する場合、例えば、シリコーン系などの反射防止層組成物が利用できる。

［真空蒸着法によるコーティング層形成工程］
図５は、真空蒸着法によるコーティング層形成工程Ｓ１０５に用いる真空蒸着装置４０を示す概略断面図である。
真空蒸着装置４０は、いわゆる電子ビーム真空蒸着装置であり、真空容器４１、排気装置４２、ガス供給装置４３、圧力計４４を備える。

真空容器４１は、蒸着材料としてコーティング組成物Ｌがセットされた蒸発源４６，４７と、蒸発源４６，４７の蒸着材料を加熱溶解し蒸発させるフィラメント４８と、光学基材１０が支持される基材支持台４５と、光学基材１０を加熱するためのヒータ４９と、を備える。
また、真空容器４１には、必要に応じて、真空容器４１内に残留した水分を除去するためのコールドトラップ、酸素などのガスをイオン化し加速して光学基材１０に照射する照射装置、蒸着の膜厚を管理するための管理装置などが設けられていてもよい。
例えば、コーティング層２として反射防止層を形成する場合の蒸着材料としては、無機物であるＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、またはＴｉＯ_２などが挙げられる。

蒸発源４６，４７は、蒸着材料がセットされたるつぼであり、真空容器４１内の下部に配置されている。
コーティング層形成工程Ｓ１０５では、フィラメント４８が発熱することによって発生する熱電子を、電子銃により加速、偏向して、蒸発源４６，４７にセットされた蒸着材料に照射し蒸発させる。
ここで、電子ビームの電流値を変動させることで、蒸着速度を適宜調整することができる。
なお、蒸着材料を蒸発させる他の方法として、タングステンなどの抵抗体に通電して、蒸着材料を溶融気化する、いわゆる抵抗加熱蒸着法や、高エネルギーのレーザー光を蒸発材料に照射する方法なども利用できる。

基材支持台４５は、所定数の光学基材１０を支持する支持台であり、蒸発源４６，４７と対向した真空容器４１内の上部に配置されている。
基材支持台４５は、光学基材１０に形成されるコーティング層２の均一性を確保し、かつ量産性を高めるために回転機構を有することが好ましい。

ヒータ４９は、例えば、赤外線ランプからなり、基材支持台４５の上部に配置されている。
ヒータ４９は、光学基材１０を加熱することにより光学基材１０のガス出しあるいは水分をとばし、光学基材１０の表面に形成されるコーティング層２の密着性を確保する。
なお、ヒータ４９としては、赤外線ランプの他に抵抗加熱ヒータなどを用いることができるが、光学基材１０の材質がプラスチックまたは樹脂の場合には、赤外線ランプを用いることが好ましい。

排気装置４２は、真空容器４１内を高真空に排気する装置であり、ターボ分子ポンプと、真空容器４１内の圧力を一定に保つ圧力調節バルブと、を備える。
ガス供給装置４３は、Ａｒ，Ｎ_２，Ｏ_２などのガスを内蔵するガスシリンダと、ガスの流量を制御する流量制御装置と、を備えている。ガスシリンダに内蔵されたガスは、流量制御装置を介して真空容器４１内に導入される。

圧力計４４は、真空容器４１内の圧力を検出する。
圧力計４４によって検出された圧力値に基づき、排気装置４２の圧力調節バルブが、制御部（図示せず）からの制御信号により制御されて、真空容器４１内の圧力が所定の圧力値に保たれる。
圧力の調整方法としては、排気口のコンダクタンスを変化させる方法や、ガスの導入量を変化させる方法などが挙げられる。
例えば、ガス供給装置４３の流量制御装置により、ガスの導入量を変動させ、真空容器４１内の圧力を調整することができる。
また、特に圧力調整をせず、排気後の残圧において蒸着を実施する場合、屈折率が変化するおそれがあるので膜厚の調整が必要になる。圧力制御を行わない場合には、蒸着中に大きく圧力が変化する場合がある。

［アニール工程］
アニール工程Ｓ１０６は、コーティング層２が形成された光学基材１０を、光学基材１０のＴｇ以上の温度で加熱する工程である。
アニール工程Ｓ１０６は、電気炉などの加熱装置を用いて実施することができ、アニール工程Ｓ１０６によってセミフィニッシュレンズ１が完成する。

［プラスティックレンズの製造方法］
図６〜図９は、本発明の第１〜第４実施形態のプラスティックレンズ１００の製造方法を示すフローチャート図である。

［第１実施形態］
図６は、第１実施形態のプラスティックレンズ１００の製造方法を示すフローチャート図である。
本実施形態において、プラスティックレンズ１００の製造方法は、研磨工程Ｓ２０１と、後コーティング層形成工程Ｓ２０２と、焼成工程Ｓ２０３と、を備える。

［研磨工程］
研磨工程Ｓ２０１は、セミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂを研磨して、光学的に仕上げられた所望の形状とする工程である。
図１０に、研磨工程Ｓ２０１の概略構成を示す。なお、図１０に示す研磨工程Ｓ２０１は、一例であって、本発明はこれに限定されない。
図１０に示すように、研磨工程は、レイアウト工程と、ブロッキング工程と、形状創成工程と、鏡面仕上げ工程と、デブロック工程と、洗浄工程と、検査工程と、を備える。

レイアウト工程では、セミフィニッシュレンズ１にブロック治具にセットするための位置決めマークを付する。このレイアウト工程は上下方向が決まっている多焦点レンズのトーリック加工やプリズム加工に必要であり、方向性がない単焦点レンズの場合は省略することができる。

次に、ブロッキング工程で、図１０（Ａ）に示すように、数値制御工作機械に取り付けるためのブロック治具５０にセミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂを低融点金属などのブロック材６０を介して接着する。このとき、セミフィニッシュレンズ１に付した位置決めマークがブロック治具５０に対して所定の位置になるように配置する。

次に、形状創成工程を行う。この形状創成工程は、セミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂを削り出し加工することにより、メガネレンズの処方に基づくレンズ面形状を創成する工程である。
形状創成工程で最終光学面が得られる場合もあるが、表面の細かい凹凸が存在する場合は、形状創成工程後に表面の凹凸を滑らかにする鏡面仕上げ工程を行う。

形状創成工程は、外径加工工程と、近似加工面粗削り工程と、仕上げ削り工程と、面取り工程とを有する。
外径加工工程は、削り出し加工により不要な外周部を削って所定の外径まで縮小する工程で、粗削り工程や仕上げ工程を短時間化するための工程でもある。
近似加工面粗削り工程は、所望のレンズ面形状に近似した近似面形状を速やかに創成すると共に、かなり厚みのあるセミフィニッシュレンズ１の厚みを速やかに削って所定の厚みに仕上げる粗削り工程である。
仕上げ削り工程は、近似面形状から削り出し加工により所望のレンズ面形状を精密に創成する工程である。
面取り工程は、仕上げ削り工程後のレンズのエッジはシャープで危険であり、また、欠けやすいため、縁の面取り加工を行う工程である。

外径加工工程は、通常は近似加工面粗削り工程の前に実施するが、仕上げ削り工程の前後でもよい。なお、外径加工工程は、セミフィニッシュレンズ１の外径が処方の径と一致するときは行わない。また、面取り加工も不要となる場合がある。更に、セミフィニッシュレンズ１の形状がメガネレンズの処方データに基づくレンズ面形状にごく近い場合は、粗削り工程を省いて、直接仕上げ削り工程だけでメガネレンズの処方データに基づくレンズ面形状が得られる場合がある。

形状創成工程を行う装置としては、工程毎に専用の切削装置を用いて行うことができる。それぞれの工程の加工では、バイト（刃具）の種類とバイトの動きがそれぞれ異なることから、それぞれ専用の切削装置を用いることにより、最適なバイトを用いて最適な切削条件で切削を行うことができるため、精度良く効率的な切削加工を行うことができる。

外径加工工程では、図示しない専用の数値制御外径加工切削装置を用いることができる。
この装置のチャックにブロック治具５０をセットし、外径加工データを数値制御外径加工切削装置に入力する。あるいは通信回線でホストコンピュータに外径加工データを要求し、データを伝送させ、内部の記憶装置にデータを記憶させる。
数値制御外径加工切削装置は、外径加工データに基づいてワークをＹ軸で回転させながらＹ軸方向とワークの径方向（Ｘ軸）に対するバイトの位置を制御することによって、セミフィニッシュレンズ１の側面にバイトを当てて外径を削り、図１０（Ｂ）に示すように、所定の径まで削り落としたセミフィニッシュレンズ１２を製造する。

近似加工面粗削り工程では、専用の数値制御工作機械を用いることができる。
この装置のチャックにブロック治具５０をセットし、近似加工面粗削り加工データを数値制御切削装置に直接入力するかホストコンピュータを介して伝送してデータを記憶させる。
数値制御切削装置は、Ｘ軸方向とＹ軸方向のワークと刃具の相対位置を制御し、近似加工面粗削り加工データに基づいて、自由曲面、球面又はトーリック面形状の粗削り面の形状創成を行う。
近似加工面粗削り工程では、図１０（Ｃ）に示すように、面粗さＲ_maxが１００μｍ以下の粗削り面を有するセミフィニッシュレンズ１３を得ることができる。

仕上げ削り工程では、例えば、上述した数値制御切削装置と同様の装置を用い、仕上げ用刃具を用いて仕上げ用切削条件で仕上げ削り加工データに基づいて、粗削り面から所望の最終レンズ面形状まで精密に切削加工する。
仕上げ削り工程で、図１０（Ｄ）に示すように、面粗さＲ_maxが０．１〜１０μｍ程度のセミフィニッシュレンズ１４を得ることができる。

面取り加工工程では、図示しない専用の数値制御面取り切削装置を用いることができる。
この装置のチャックにブロック治具５０をセットし、面取り加工データを面取り切削装置に入力する。あるいは通信回線でホストコンピュータに面取り加工データを要求し、データを伝送させ、内部の記憶装置にデータを記憶させる。
数値制御面取り切削装置は、面取り加工データに基づいてセミフィニッシュレンズ１４を回転させながらセミフィニッシュレンズ１４の端縁にバイトを当ててセミフィニッシュレンズ１４の加工した面の縁の面取りを行う。
面取り加工工程で、図１０（Ｅ）に示すように、面取り済みのセミフィニッシュレンズ１５を得ることができる。

形状創成工程後は、必要により、表面の凹凸を滑らかにする鏡面仕上げ工程を行う。
上述した仕上げ削り加工では表面粗さＲ_maxが０．１〜１０μｍ程度まで加工することができ、鏡面仕上げ工程で、表面粗さＲ_maxが数１０ｎｍ程度の最終光学面に仕上げる。
鏡面仕上げ工程は、単焦点レンズの凹面、あるいは凸面に累進面を有する多焦点レンズの凹面の研磨の場合は、球面やトーリック面であるため、従来の加工皿を用いる研磨方法を採用することができる。

一方、内面累進多焦点レンズの内面の研磨のように複雑な曲面を研磨するときは、上述したように従来の加工皿を用いる研磨方法を採用することができない。
このような内面累進多焦点レンズのような複雑な曲面の研磨は、図１０（Ｆ）に示すような倣い研磨工具７０を用いることが好ましい。
この倣い研磨工具７０は、半球状で柔軟性を有するゴムシート７１が筐体７２との間に密封空間を形成するように筐体７２に取り付けられ、この密封空間に圧力気体又は液体を圧入させてゴムシートを半球状の形態に保つようにゴムシート７１内部から圧力を加えることができる構造を備える。
ゴムシート７１の表面に不織布等の研磨布を張り付け、筐体７２に回転と揺動を与えてセミフィニッシュレンズ１５に押し当てながら、研磨液をゴムシート７１とセミフィニッシュレンズ１５の間に供給して研磨を行う。

この倣い研磨工具７０は、ゴムシート７１がセミフィニッシュレンズ１５の表面に均一の圧力で当接するため、セミフィニッシュレンズ１５の表面が複雑な曲面であってもゴムシート７１がセミフィニッシュレンズ１５の表面の形状に追随して均一に研磨することができる。そのため、内面累進多焦点レンズの内面のような自由曲面の研磨に特に適している。

また、複雑な曲面の研磨には、数値制御研磨機を用いることができる。
レンズの設計形状から予め計算しておいたＮＣ加工用データに基づき、ポリシャヘッドとワークとの相対位置決めを行い、かつワークの加工点における法線方向にポリシャヘッドの表面の任意の部位を一致させ、その方向からポリシャヘッドを強く押し当て研磨加工する。
これにより形状創成工程で創成された曲面形状を崩すことなく最終光学面に研磨することが可能である。

鏡面仕上げ工程により両面が最終光学面となったセミフィニッシュレンズ１６が完成する。
その後、ブロック治具５０は不要になるため、図１０（Ｇ）に示すように、フィニッシュレンズ１６をブロック治具５０から取り外すデブロック工程を行い、更に付着している汚れを除去するため洗浄工程を行い、最後に検査を行って研磨工程Ｓ２０１は終了する。
このような研磨工程Ｓ２０１により、図１（Ｂ）に示すような研磨面１Ｃを有するセミフィニッシュレンズ１が形成される。

［後コーティング層形成工程］
後コーティング層形成工程Ｓ２０２は、セミフィニッシュレンズ１の第１面１Ａ側および第２面１Ｂ側（すなわち、研磨面１Ｃ側）に、所定の第２コーティング材料を塗布した後、第２コーティング材料を硬化させて第２コーティング層３を形成する工程である。
本実施形態では、後コーティング層形成工程Ｓ２０２として、セミフィニッシュレンズ１の第１面１Ａおよび研磨面１Ｃにプライマ層を形成するプライマ層形成工程Ｓ２０２Ａと、形成されたプライマ層上にハードコート層を形成するハードコート層形成工程Ｓ２０２Ｂと、を実施する。
プライマ層形成工程Ｓ２０２Ａおよびハードコート層形成工程Ｓ２０２Ｂは、上述のコーティング層形成工程Ｓ１０５と同様の方法で実施することができる。このため、詳細な説明は省略する。

［焼成工程］
焼成工程Ｓ２０３は、第２コーティング層３が形成されたセミフィニッシュレンズ１を、光学基材１０のＴｇ以上の温度で加熱する工程である。
焼成工程Ｓ２０３は、アニール工程Ｓ１０６と同様に、電気炉などの加熱装置を用いて実施することができる。
［反射防止層形成工程］
反射防止層形成工程Ｓ２０４は、焼成工程Ｓ２０３の後、ハードコート層上に反射防止層を形成する工程である。
反射防止層形成工程Ｓ２０４は、上述のコーティング層形成工程Ｓ１０５と同様の方法で実施することができる。このため、詳細な説明は省略する。
この反射防止層形成工程Ｓ２０４により、プラスティックレンズ１００が完成する。
本実施形態の製造方法により製造したプラスティックレンズ１００は、上述の「構成１」を備える。

［第２実施形態］
図７は、第２実施形態のプラスティックレンズ１００の製造方法を示すフローチャート図である。
本実施形態は、後コーティング層形成工程Ｓ２０２が、プライマ層形成工程Ｓ２０２Ａを備えない点で、上述の第１実施形態と異なる。各工程は、第１実施形態と同様であるから、詳細な説明を省略する。
本実施形態の製造方法により製造したプラスティックレンズ１００は、上述の「構成２」を備える。

［第３実施形態］
図８は、第３実施形態のプラスティックレンズ１００の製造方法を示すフローチャート図である。
本実施形態は、後コーティング層形成工程Ｓ２０２が、プライマ層形成工程Ｓ２０２Ａ、ハードコート層形成工程２０２Ｂに加え、反射防止層形成工程２０２Ｃを備え、反射防止層形成工程２０４が実施されない点で、上述の第１実施形態と異なる。
反射防止層形成工程２０２Ｃは、上述の反射防止層形成工程２０４と同様であり、その他の各工程は、第１実施形態と同様であるから、詳細な説明を省略する。
本実施形態の製造方法により製造したプラスティックレンズ１００は、上述の「構成３」を備える。

［第４実施形態］
図９は、第４実施形態のプラスティックレンズ１００の製造方法を示すフローチャート図である。
本実施形態は、後コーティング層形成工程Ｓ２０２が、プライマ層形成工程Ｓ２０２Ａ、ハードコート層形成工程２０２Ｂを備えない点で、上述の第３実施形態と異なる。各工程は、第１実施形態と同様であるから、詳細な説明を省略する。
本実施形態の製造方法により製造したプラスティックレンズ１００は、上述の「構成４」を備える。

以下に、本実施形態の実施例１〜９を用いて本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に何ら限定されない。

［実施例１］
実施例１では、以下の製造方法により、セミフィニッシュレンズ１を製造した。

［原料調合工程Ｓ１０１］
まず、基材組成物１１を以下の手順で調製する。
テトラキス（２，３−エピチオプロピルチオ）スズ（以下、「Ｓｎ−１」と記す。）を３０ｇ、紫外線吸収剤としてＳＥＥＳＯＲＢ７０１（シプロ化成工業製）０．３ｇを添加し、十分に攪拌して混合する。
さらに、重合触媒としてＮ，Ｎジメチルシクロへキシルアミン０．１ｇを加え、１．５ｋＰａ以下に減圧した状態で攪拌しながら１５分間脱気する。
これにより、前記式（１）で示される化合物を含有する基材組成物１１が得られる。

［ガラスモールド注入工程Ｓ１０２］
こうして得られた基材組成物１１を、注入ノズル２５を用いて、成型用ガラスモールド２０のキャビティ２４に注入する。
ここで、成型用ガラスモールド２０は、凸面が設計曲率半径２００ｍｍ、凹面が設計曲率半径１００ｍｍであり、中心厚５ｍｍ、直径８０ｍｍの光学基材１０を与えるように構成されている。

［硬化工程Ｓ１０３］
次に、成型用ガラスモールド２０および基材組成物１１を、３０℃から１２０℃まで２０時間かけて昇温し、基材組成物１１を重合硬化させることにより、光学基材１０を形成する。

［離型工程Ｓ１０４］
粘着テープ２３を一対のガラスモールド２１，２２および光学基材１０から取り外し、ガラスモールド２１，２２を光学基材１０から離間させて、光学基材１０を取り出す。
ここで、光学基材１０は、度数が約−３Ｄであることを確認した。
また、２枚の鏡面仕上げされたガラスフラット板を用い、基材組成物１１を原料として、上述と同様の条件により厚さ２ｍｍのプラスチック板を作成した。これを、ダイヤモンドカッタで切り出し光学基材１０のサンプルとした。
ＴＭＡを用い、荷重５０ｇ、直径１ｍｍの針入プローブ、初期温度２５℃、昇温スピード１０℃／ｍｉｎの条件で、サンプルの熱機械分析を実施したところ、Ｓｎ−１を含む基材組成物から形成した光学基材１０のＴｇは１１０℃であり、光学基材１０のＴｇ＋１０℃（すなわち１２０℃）におけるサンプルの厚さの変化量は、初期温度におけるサンプルの厚さの３０％以上であった。
また、アッベ屈折率計を用い気温２０℃の条件で、サンプルの５８９．３ｎｍのＤ線に対する屈折率を測定したところ、ｎｄ＝１．７９４であった。

［コーティング層形成工程Ｓ１０５］
続いて、光学基材１０の光学面１０Ａおよび対向面１０Ｂに、コーティング層２を形成する。本実施例では、プライマ層を形成した後、ハードコート層を形成し、プライマ層およびハードコート層をコーティング層２とした。
各層の形成工程を以下に説明する（図４参照）。

［プライマ層の形成］
メチルアルコール２２０ｇに水９１．８ｇを投入し、十分に攪拌して混合する。攪拌混合後、酸化チタン、酸化スズ、および酸化ケイ素を主体とする複合微粒子ゾル（ルチル型結晶構造、メタノール分散、全固形物濃度２０重量％、触媒化成工業株式会社製、商品名「オプトレイク１１２０Ｚ」、以下、「オプトレイク１１２０Ｚ」と記す）を加え、攪拌して混合する。攪拌混合後、水性ポリエステル（伊藤光学株式会社製）７７ｇを加え、攪拌して混合する。シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー株式会社製、商品名「Ｌ−７６０４」）０．１ｇを添加して、２時間攪拌して混合する。これにより、プライマ層を形成するためのコーティング組成物Ｌとして、プライマ組成物を得る。
このプライマ組成物を、図４に示す浸漬装置３０を用い、引き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎの条件で、光学基材１０の表面に塗布した。その後、８０℃で３０分間の加熱処理を施し、光学基材１０の表面にプライマ層を形成した。

［ハードコート層の形成］
ブチルセロソルブ６２．５ｇにγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６７．１ｇを投入し、十分に攪拌して混合する。その後攪拌しながら、０．１モル／リットル塩酸３０．７ｇを滴下し、さらに４時間攪拌する。その後、一昼夜熟成させることにより、シラン加水分解物を得る。このシラン加水分解物の中に、オプトレイク１１２０Ｚを３２５ｇ、ならびにグリセロールジグリシジルエーテル（ナガセ化成株式会社製、商品名「デナコールＥＸ−３１３」）１２．５ｇを添加する。その後、鉄（III）アセチルアセトナート１．３６ｇおよびシリコーン系界面活性剤（日本ユニカー株式会社製、商品名「Ｌ−７００１」、以下、「Ｌ−７００１」と記す）０．１５ｇ、フェノール系酸化防止剤（川口化学工業株式会社製、商品名「アンテージクリスタル」）０．２６ｇを添加して、４時間攪拌する。その後、一昼夜熟成させることにより、コーティング組成物Ｌとして、ハードコート組成物αを得る。
このハードコート組成物αを、図４に示す浸漬装置３０を用い、引き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎの条件で、プライマ層形成工程後の光学基材１０の表面に塗布した。その後、８０℃で３０分間の加熱処理を施し、光学基材１０のプライマ層上にハードコート層αを形成した。
これにより、プライマ層およびハードコート層αからなるコーティング層２が形成された。

［アニール工程Ｓ１０６］
コーティング層２が形成された光学基材１０を、光学基材１０のＴｇ（１１０℃）以上の温度である１２５℃まで加熱し、３時間保持した。このアニール工程Ｓ１０６により、セミフィニッシュレンズ１が完成する。
本実施例のアニール工程Ｓ１０６の概略を図１１に示す。
本実施例のアニール工程Ｓ１０６においては、図１１に示すように、光学基材１０の対向面１０Ｂに沿うように凸面形状を有したガラス型２６の上に、対向面１０Ｂ側を下にして、コーティング層２が形成された光学基材１０を設置した。この状態で電気炉により光学基材１０を加熱し、高温に保持した。
ガラス型２６を用いることにより、光学基材１０の変形を一層確実に防止することができる。
なお、アニール工程Ｓ１０６は、ガラス型２６を用いる方法に限定されず、例えば、光学基材１０の周縁と同様の形状に形成されたリング状治具の上に、コーティング層２が形成された光学基材１０を配置した状態で実施してもよい。

［実施例２］
プライマ層を形成しないこととした以外は、実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
［実施例３］
以下のようにして調整したハードコート組成物βを用い、ハードコート層αに代えてハードコート層βを形成した以外は、実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
ブチルセロソルブ１０００重量部にγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１２００重量部を加えて十分攪拌した後、０．１モル／リットル塩酸３００重量部を添加して一昼夜攪拌を続け、シラン加水分解物を得る。このシラン加水分解物中にＬ−７００１を３０重量部加えて１時間撹拌した後、酸化チタンを主体とする複合微粒子ゾル（オプトレイク１１２０Ｚ）を７３００重量部加え２時間撹拌混合した。次いで、鉄（III）アセチルアセトナート２０重量部を加えて１時間攪拌し、２μｍのフィルターで濾過を行うことで、コーティング組成物Ｌとして、ハードコート組成物βを得る。
このハードコート組成物βを用いて、実施例１と同様にしてハードコート層βを得る。

［実施例４］
原料調合工程Ｓ１０１において、Ｓｎ−１の代わりにテトラキス（３−オキセタニルチオ）スズ（以下、『Ｓｎ−２』と記す。）を用い、Ｎ，Ｎジメチルシクロヘキシルアミンに加えトリフルオロメタンスルホン酸０．３ｇを重合触媒として配合した以外は、上述の実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
本実施例において、光学基材１０のサンプルは、屈折率ｎｄ＝１．７５４であった。また、実施例１と同様にして熱機械分析を実施したところ、光学基材１０のＴｇは１１０℃であり、光学基材１０のＴｇ＋１０℃（すなわち１２０℃）におけるサンプルの厚さの変化量は、初期温度におけるサンプルの厚さの３０％以上であった。
［実施例５］
実施例４と同様の原料調合工程Ｓ１０１を実施した以外は、実施例２と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。

［実施例６］
原料調合工程Ｓ１０１において、テトラキス（２，３−エポキシ−１−プロピルチオ）スズ（以下、『Ｓｎ−３』と記す。）を用い、Ｎ，Ｎジメチルシクロヘキシルアミンに加えトリフルオロメタンスルホン酸０．０１５ｇを重合触媒として配合した以外は、上述の実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
本実施例において、光学基材１０のサンプルは、屈折率ｎｄ＝１．７５８であった。また、実施例１と同様にして熱機械分析を実施したところ、光学基材１０のＴｇは１１０℃であり、光学基材１０のＴｇ＋１０℃（すなわち１２０℃）におけるサンプルの厚さの変化量は、初期温度におけるサンプルの厚さの３０％以上であった。
［実施例７］
実施例６と同様の原料調合工程Ｓ１０１を実施した以外は、実施例２と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。

［実施例８］
基材形成工程Ｓ１００において、市販のＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）ペレットを射出成形法によりレンズ形状に加工して光学基材１０を得た以外は、実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
ＰＭＭＡペレットから作成した光学基材１０のサンプルに対し、実施例１と同様にして熱機械分析を実施したところ、光学基材１０のＴｇは１１０℃であり、光学基材１０のＴｇ＋１０℃（すなわち１２０℃）におけるサンプルの厚さの変化量は、初期温度におけるサンプルの厚さの５０％以上であった。
［実施例９］
実施例８と同様の基材形成工程Ｓ１００を実施した以外は、実施例２と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。

［実施例１０］
基材形成工程Ｓ１００において、市販のＰｓｔ（ポリスチレン）ペレットを射出成形法によりレンズ形状に加工して光学基材１０を得た以外は、実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
Ｐｓｔペレットから作成した光学基材１０のサンプルに対し、実施例１と同様にして熱機械分析を実施したところ、光学基材１０のＴｇは９５℃であり、光学基材１０のＴｇ＋１０℃（すなわち１０５℃）におけるサンプルの厚さの変化量は、初期温度におけるサンプルの厚さの５０％以上であった。
［実施例１１］
実施例１０と同様の基材形成工程Ｓ１００を実施した以外は、実施例２と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。

上述の実施例１〜１１において、光学基材１０のＴｇは１１０℃、９５℃である。
ここで、コーティング層形成工程Ｓ１０５における加熱処理は、８０℃であるから光学基材１０のＴｇ以下である。また、アニール工程Ｓ１０６の温度は、１２５℃であるから光学基材１０のＴｇを超えている。

［比較例１］
コーティング層形成工程Ｓ１０５を実施せず、コーティング層２を形成せずにアニール工程Ｓ１０６を実施することとした以外は、実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
［比較例２］
コーティング層形成工程Ｓ１０５において、ハードコート層αを形成する際に、ハードコート組成物αに鉄（III）アセチルアセトナートを配合しないこととした以外は、実施例１と同様にしてセミフィニッシュレンズ１を製造した。
［比較例３］
熱硬化性樹脂からなるプラスティックレンズ（セイコーエプソン製、商品名セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ）、屈折率１．６７）をセミフィニッシュレンズ１とした。
このレンズと同様の熱硬化性樹脂からなるサンプルに、実施例１と同様にして熱機械分析を実施したところ、サンプルのＴｇは１００℃であり、サンプルのＴｇ＋１０℃（すなわち１１０℃）におけるサンプルの厚さの変化量は、初期温度におけるサンプルの厚さの０．０１％程度であった。

［セミフィニッシュレンズの評価］
上述の実施例１〜１１、ならびに比較例１〜３のセミフィニッシュレンズ１について、以下に示す評価方法により評価を行った。評価項目は、コーティング層２の硬化具合、ならびに光学基材１０の変形具合とした。
以下、各評価項目についての評価方法を説明する。

［硬化具合の評価］
コーティング層形成工程Ｓ１０５後の光学基材１０を手で触ることにより、コーティング層２の硬化具合を次の３段階に分けて評価した。
○：コーティング層２が、ベタベタしない、あるいは崩れない。
×：コーティング層２がベタベタする、あるいはコーティング層２の少なくとも一部が光学基材１０から簡単に取れてしまう。
−：コーティング層２を形成していない。

［変形具合の評価］
アニール工程Ｓ１０６後の光学基材１０の変形具合（つまり、アニール工程Ｓ１０６前の光学基材１０の形状と比べたときの、セミフィニッシュレンズ１完成後における光学基材１０の変形）を目視により観察し、次の３段階に分けて評価した。
◎：光学基材１０が変形していない。
○：光学基材１０がほとんど変形していない。
×：光学基材１０が著しく変形している。
上述の評価結果を下記の表１に示す。

表１から明らかなように、本発明の製造方法により製造した実施例１〜１１のセミフィニッシュレンズ１は、変形防止用のコーティング層２の硬化具合が優れ、光学基材１０のＴｇ以上のアニール工程Ｓ１０６によっても、変形を生じていない。
これに対し、コーティング層２を形成しない比較例１のセミフィニッシュレンズ１では、アニール工程Ｓ１０６によって変形が発生した。
また、鉄（III）アセチルアセトナートを含まないハードコート組成物によりコーティング層形成工程Ｓ１０５を実施した比較例２のセミフィニッシュレンズ１では、コーティング層２の硬化が不十分であり、アニール工程Ｓ１０６による変形もみられた。
比較例３のセミフィニッシュレンズ１は、熱硬化性樹脂により形成されているので、アニール工程Ｓ１０６によっても、変形を生じない。しかし、実施例１〜１１のセミフィニッシュレンズ１と比べ、屈折率が低く、レンズとしての光学特性に劣る。

［実施形態の作用効果］
従って、上述の各実施形態によれば、以下のような優れた作用効果を得ることができる。
コーティング層形成工程Ｓ１０５において、光学基材１０のＴｇ以下の温度で硬化するコーティング材料によってコーティング層２が形成されるので、コーティング材料を硬化させる際に、光学基材１０がそのＴｇ以上に加熱されることがない。したがって、コーティング層形成工程Ｓ１０５においては、熱可塑性を有する光学基材１０が変形する可能性が低い。
そして、硬化したコーティング層２は、光学基材１０のＴｇ以上に加熱されたとしても、軟化することなく、その形状を維持することができる。
すなわち、アニール工程Ｓ１０６において、光学基材１０は軟化するが、光学基材１０の光学面１０Ａに設けられたコーティング層２は軟化しない。
コーティング層２が、Ｔｇ以上の加熱によって軟化した光学基材１０および光学面１０Ａの変形を防ぐので、形状精度の高い第１面１Ａを有するセミフィニッシュレンズ１を得ることができる。
したがって、本発明のセミフィニッシュレンズ１の製造方法によれば、熱可塑性を有する樹脂材料で形成され、形状精度に優れた第１面１Ａを有するセミフィニッシュレンズ１を得ることができる。

また、上述の各実施形態では、前記式（１）の化合物を含む基材組成物を用いて光学基材１０を形成するので、高屈折率で形状精度が高く、光学特性に優れたセミフィニッシュレンズを製造することができる。

上述の各実施形態では、コーティング層形成工程Ｓ１０５は、光学基材１０の光学面１０Ａに変形防止層を形成する工程を兼ねる。すなわち、変形防止層であるコーティング層２が、光学基材１０の光学面１０Ａに形成されているので、アニール工程Ｓ１０６において、光学基材１０および光学面１０Ａの形状変化を防止することができる。これにより、熱可塑性を有する樹脂材料で形成され、形状精度に優れた第１面１Ａを有するセミフィニッシュレンズ１を得ることができる。

上述の各実施形態では、コーティング層形成工程Ｓ１０５において、光学基材１０の光学面１０Ａと対向する対向面１０Ｂにもコーティング層２を形成するので、より確実にアニール工程Ｓ１０６における光学基材１０の変形を防止することができる。

上述の各実施形態では、後コーティング層形成工程Ｓ２０２において、光学基材１０のＴｇ以下の温度で硬化する第２コーティング材料により、第２コーティング層３が形成されるので、第２コーティング材料を硬化させる際に、光学基材１０がそのＴｇ以上に加熱されることがない。したがって、後コーティング層形成工程Ｓ２０２においては、熱可塑性を有する光学基材１０が変形する可能性が低い。
そして、硬化した第２コーティング層３は、光学基材１０のＴｇ以上に加熱されたとしても、軟化することなく、その形状を維持することができる。
すなわち、焼成工程Ｓ２０３において、光学基材１０は軟化するが、セミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂ側に設けられた第２コーティング層３は軟化しない。また、光学基材１０の光学面１０Ａに設けられたコーティング層２も軟化しない。
よって、コーティング層２および第２コーティング層３が、Ｔｇ以上の加熱によって軟化した光学基材１０の変形を防ぐので、形状精度の高い第１面および第２面を有するプラスティックレンズ１００を得ることができる。
したがって、本発明のプラスティックレンズ１００の製造方法によれば、熱可塑性を有する樹脂材料で形成されたセミフィニッシュレンズ１を原料とし、第２面が所望の形状に加工された形状精度の高いプラスティックレンズ１００を得ることができる。

上述の各実施形態では、後コーティング層形成工程Ｓ２０２は、セミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂ側に変形防止層を形成する工程を兼ねる。すなわち、変形防止層である第２コーティング層３が、セミフィニッシュレンズ１の第２面１Ｂ側に形成されているので、焼成工程Ｓ２０３において、光学基材１０の形状変化を防止することができる。これにより、熱可塑性を有する樹脂材料で形成されたセミフィニッシュレンズ１を原料とし、第２面が所望の形状に加工された形状精度の高いプラスティックレンズ１００を得ることができる。

上述の各実施形態では、後コーティング層形成工程Ｓ２０２が、プライマ層形成工程Ｓ２０２Ａと、ハードコート層形成工程Ｓ２０２Ｂと、反射防止層形成工程Ｓ２０２Ｃとの少なくとも一つを兼ねることにより、焼成工程Ｓ２０３の後の工程が短縮する。このことから、簡略化されたプラスティックレンズ１００の製造方法を提供することができる。

上述の各実施形態では、後コーティング層形成工程Ｓ２０２において、セミフィニッシュレンズ１の第１面１Ａ側にも第２コーティング層３を形成する。より確実に焼成工程Ｓ２０３における光学基材１０の変形を防止することができる。

なお、本発明は上述の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
たとえば、上述の各実施形態では、光学基材１０は、凹面および凸面を有した形状としていたが、本発明では、平面を２つ有した形状としてもよく、平面、凹面、および凸面の組み合わせにより、凹面または凸面を２つ有した形状としてもよく、凹面と平面と、凸面と平面とを有した形状としてもよい。

本発明は、セミフィニッシュレンズの製造方法、セミフィニッシュレンズ、セミフィニッシュレンズを原料とするプラスティックレンズの製造方法として利用することができる。

本発明の実施形態にかかるセミフィニッシュレンズおよびプラスティックレンズの概略構成を示す断面図。 本発明の実施形態にかかるセミフィニッシュレンズの製造方法を示すフローチャート図。 本発明の実施形態にかかる基材形成工程および離型工程を示す概略図。 本発明の実施形態にかかるコーティング層形成工程に用いる浸漬装置を示す概略斜視図。 本発明の実施形態にかかるコーティング層形成工程に用いる真空蒸着装置を示す概略断面図。 本発明の第１実施形態にかかるプラスティックレンズの製造方法を示すフローチャート図。 本発明の第２実施形態にかかるプラスティックレンズの製造方法を示すフローチャート図。 本発明の第３実施形態にかかるプラスティックレンズの製造方法を示すフローチャート図。 本発明の第４実施形態にかかるプラスティックレンズの製造方法を示すフローチャート図。 本発明の実施形態にかかる研磨工程の概略を示すフローチャート図。 本発明の実施例に係るアニール工程を示す概略断面図。

符号の説明

１…セミフィニッシュレンズ、１Ａ…第１面、１Ｂ…第２面、２…コーティング層、３…第２コーティング層、１０…光学基材、１０Ａ…光学面、１０Ｂ…対向面、１１…基材組成物、２０…成型用ガラスモールド、２１，２２…ガラスモールド、２３…粘着テープ、２４…キャビティ、２５…注入ノズル、２６…ガラス型、３０…浸漬装置、３１…昇降部、３２…ロッド、３３…把持具、３４…タンク、４０…真空蒸着装置、４１…真空容器、４２…排気装置、４３…ガス供給装置、４４…圧力計、４５…基材支持台、４６，４７…蒸発源、４８…フィラメント、４９…ヒータ、１００…プラスティックレンズ、Ｌ…コーティング組成物、Ｐ…層

Claims (3)

1. 型の内部に基材組成物を注入することと、
   前記基材組成物を重合させて、片面が光学的に仕上げられた光学面とされている光学基材を得ることと、
   前記光学基材から前記型を外すことと、
   前記型から外された前記光学基材の前記光学面に、前記光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化し、かつ、前記ガラス転移点＋１５℃以下の温度では軟化しないコーティング材料を塗布することと、
   前記コーティング材料を前記ガラス転移点以下の温度で硬化させてコーティング層を形成することと、
   前記コーティング層が形成された前記光学基材を、前記ガラス転移点以上、前記ガラス転移点＋１５℃以下の温度で加熱することと、
   を備え、
   ＴＭＡ（Thermomechanical Analyzer）を用い、荷重５０ｇ、直径１ｍｍの針入プローブ、初期温度２５℃、昇温スピード１０℃／ｍｉｎの条件で、前記光学基材の熱機械分析を実施した場合において、前記ガラス転移点＋１０℃の測定温度における前記光学基材の厚みの変化量は、前記初期温度における前記光学基材の厚みの１０％以上である、
   セミフィニッシュレンズの製造方法。
2. 請求項１に記載のセミフィニッシュレンズの製造方法において、
   前記基材組成物は、下記式（１）で表される化合物を主原料として含有する、
   セミフィニッシュレンズの製造方法。
   （式（１）中、Ｍは、Ｓｎ原子、Ｓｉ原子、Ｚｒ原子、Ｔｉ原子、またはＧｅ原子である。Ｒ１は、炭素数１〜４のアルキレン基であり、Ｘ１は、Ｓ原子またはＯ原子であり、ｎは０〜４の整数を示す。Ｙは、下記の式（１−１）、または式（１−２）、または式（１−３）のいずれかである。）
   
3. 請求項１または請求項２に記載のセミフィニッシュレンズの製造方法において、
   前記コーティング層を形成することは、前記光学基材の前記光学面と対向する対向面に前記コーティング層を形成することをさらに含む、
   セミフィニッシュレンズの製造方法。