JP5252739B2 - 真空圧力測定装置 - Google Patents
真空圧力測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5252739B2 JP5252739B2 JP2009539582A JP2009539582A JP5252739B2 JP 5252739 B2 JP5252739 B2 JP 5252739B2 JP 2009539582 A JP2009539582 A JP 2009539582A JP 2009539582 A JP2009539582 A JP 2009539582A JP 5252739 B2 JP5252739 B2 JP 5252739B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- measuring device
- pressure measuring
- vacuum pressure
- cathode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
- G01L21/32—Vacuum gauges by making use of ionisation effects using electric discharge tubes with thermionic cathodes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L21/00—Vacuum gauges
- G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
- G01L21/34—Vacuum gauges by making use of ionisation effects using electric discharge tubes with cold cathodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
子源を含んでおり、電子源は電子の通過開口部を介して反応ゾーンと連通するように接続されている。電子源は真空室を備える絶縁性ハウジングで取り囲まれており、真空室を外部領域に対して封止するように分離するとともに少なくとも部分的に電子透過性に構成されたナノ膜を少なくとも1つの部分領域で支持する隔膜支持体として壁部が構成されており、この真空室の中には電子を放出するための陰極が配置されており、ナノ膜の領域および/またはナノ膜の表面には陽極構造が設けられており、それにより電子がナノ膜に向かって案内されて少なくとも部分的に該ナノ膜を通り抜けるように案内されるようになっており、ナノ膜は真空圧力測定装置の真空室に接している。
で構成されることにある。
Zetterer著“Einfuehrung in die Mikrosystemtechnik−Grundlagen und Praxisbeispiele”(マイクロシステム工学概論−基礎と実用例)Friedr.Vieweg & Sohn Verlagsgesellschaft mbH出版社(ブラウンシュヴァイク/ヴィースバーデン所在)2000年8月(ISBN3−528−03891−8)。
ベースもしくはイオンベースの相互作用が防止されることにある。このことは、次の事項のための前提条件である。
−迅速な換気をするときの負荷に対する電子源の防護。
−特にきわめて攻撃性の高いエッチングガスを使用する場合における、真空プロセスの影響に対する電子源の防護。影響を受けやすい白熱陰極や電界エミッタの使用が可能になる。
作用し、電子源1の内部領域および測定セルを望ましくない影響から防護するが、ここでも膜5を介しての反応室30への電子透過性は確保される。電子源1のこのような構成では、電子源内部で真空7を生成・維持するための追加コストが必要ない。ただしその場合、たとえば換気のときなどに電子源1の全面的な防護はもはや成立しない。
本発明による電子源1は、さまざまな型式の質量分析計で有利に利用することができる。図11に示す本明細書の例で説明したように、四重極質量分析計が格別に好適である。電子源1の膜分離は、測定の高い測定解像度と再現性につながる、特別に純粋な条件を保証するからである。
Claims (27)
- 電子源(1)と、衝突電離によってイオン(22)を形成するための反応ゾーン(30)とを備え、前記電子源(1)は電子(21)の通過開口部(40)を介して反応ゾーン(30)と連通するように接続されている真空圧力測定装置において、
前記電子源(1)は、真空室(7)を取り囲む絶縁性ハウジング(6)と、前記イオン(22)およびガスの通過を防止しかつ少なくとも部分的に電子透過性に構成されたナノ膜(5)と、前記真空室(7)を前記反応ゾーン(30)および前記絶縁性ハウジング(6)の外側の外部領域に対して分離しており、かつ、前記ナノ膜(5)を少なくとも1つの部分領域で支持する隔膜支持体(4)とを含み、
当該真空室(7)の中には電子(21)を放出するための陰極(2)が配置されており、前記ナノ膜(5)の領域および/または前記ナノ膜の表面には陽極構造(3)が設けられており、それにより電子(21)が前記ナノ膜(5)に向かって案内されて少なくとも部分的に該ナノ膜を通り抜けるように案内されるようになっており、前記ナノ膜(5)は前記真空圧力測定装置の真空室に接していることを特徴とする真空圧力測定装置。 - 前記真空室(7)は前記ハウジング(6)によって全面的に真空気密に取り囲まれており、その中に独立した真空を有しており、その内部またはその表面には真空条件を維持するためのゲッター(8)が配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の真空圧力測定装置。
- 前記真空室(7)は前記ハウジング(6)によって全面的に真空気密に取り囲まれており、前記ハウジング(6)は接続部または真空弁を備える接続部を有しており、これに真空条件を連続的または非連続的に維持するための真空システムが配置されており、好ましくはターボ分子ポンプが配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ハウジング(6)は前記真空室(7)を前記真空測定装置の真空室と接続する開口部を有していることを特徴とする、請求項1に記載の真空圧力測定装置。
- 前記陰極(2)は熱陰極であることを特徴とする、請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記陰極(2)は間接的に加熱される陰極構造であることを特徴とする、請求項5に記載の真空圧力測定装置。
- 前記陰極は電界放出陰極(2)であることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記電界放出陰極(2)の手前に制御グリッド(12)が配置されていることを特徴とする、請求項7に記載の真空圧力測定装置。
- 前記電界放出陰極(2)はマイクロチップまたはカーボンナノチューブ(CNT)の型式の陰極であり、または好ましくはナノ構造化された電界放出面であることを特徴とする、請求項7または8に記載の真空圧力測定装置。
- 前記電界放出面は電解放出フィルム(2)を有するナノ構造化された面であり、該電界放出フィルムは前記陰極支持体(9)の上に載っていることを特徴とする、請求項9に記載の真空圧力測定装置。
- ナノ構造化された前記電界放出面は前記陰極支持体の金属中実材料の表面で構成されており、好ましくはステンレス鋼でできていることを特徴とする、請求項9に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)はセラミックでできており、好ましくは窒化物セラミックまたは特に酸化物セラミックもしくはこれらの混合形態でできていることを特徴とする、請求項1〜11のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)はSi3N4,SiO2,Al2O3,ZrO2,Y2O3,SiCのセラミックまたはこれらの混合形態でできていることを特徴とする、請求項12に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)は酸化アルミニウムでできており、好ましくはα型酸化アルミニウムおよび特にサファイアもしくはその混合形態でできていることを特徴とする、請求項12または13に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)は金属フィルムでできており、好ましくはニッケルフィルム、アルミニウムフィルム、銅フィルム、または特殊鋼フィルム、もしくはこれらの合金でできていることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)は特殊鋼フィルムでできており、好ましくは前記真空測定装置のハウジング壁(42)と同じ材料でできていることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)の厚み(dn)は25から500nmの範囲内にあり、好ましくは100から200nmの範囲内にあることを特徴とする、請求項1〜16のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)の面積寸法は0.1から40.0mm2の範囲内にあることを特徴とする、請求項1〜17のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)の面積寸法は0.1から1.0mm2の範囲内にあり、好ましくは0.3から0.7mm2の範囲内にあり、前記ナノ膜(5)の最大の寸法公差は前記反応ゾーン(30)の換気時に大気圧に対して耐えるために1つの方向で0.7mmを超えておらず、好ましくは0.5mmを超えていないことを特徴とする、請求項1〜18のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)の面形状は実質的に前記陰極(2)の形状に合わせて適合化されていることを特徴とする、請求項1〜19のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)を少なくとも部分的に通り抜けるように電子(21)を加速させるために5KVから50KV、好ましくは10KVから50KVの範囲内の値をもつ電圧が前記陰極(2)と前記陽極構造(3)の間で印加されることを特徴とする、請求項1〜20のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 加速電圧が10kV以上であるとき、前記ナノ膜(5)を備える前記電子源構造(1)はナノ単位の薄さの当該膜の90%以上の電子透過性を有していることを特徴とする、請求項1〜21のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記電子源(1)の前記真空室(7)の中では10−1mbarから10−8mbarの範囲内の値の真空が生じており、好ましくは10−3から10−6mbarの範囲内の値の真空が生じていることを特徴とする、請求項1〜22のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記真空測定装置は全圧測定セルまたは全圧測定管であり、好ましくはベイアード・アルバートの型式または抽出式マノメータの型式であることを特徴とする、請求項1〜23のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記真空測定装置は分圧測定装置であり、好ましくは質量分析計であり、好ましくは四重極質量分析計の型式であることを特徴とする、請求項1から19までのいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
- 前記熱陰極(2)は、陰極線管のための陰極であることを特徴とする、請求項5に記載の真空圧力測定装置。
- 前記ナノ膜(5)の後には該ナノ膜(5)と前記真空測定装置の前記反応ゾーン(30)の間に抑制グリッド(43)が配置されていることを特徴とする、請求項1〜26のうちいずれか1項に記載の真空圧力測定装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1983/06 | 2006-12-06 | ||
CH19832006 | 2006-12-06 | ||
PCT/CH2007/000588 WO2008067681A1 (de) | 2006-12-06 | 2007-11-23 | Elektronenquelle für vakuumdruckmessgerät |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010511875A JP2010511875A (ja) | 2010-04-15 |
JP2010511875A5 JP2010511875A5 (ja) | 2010-12-16 |
JP5252739B2 true JP5252739B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=37840464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009539582A Expired - Fee Related JP5252739B2 (ja) | 2006-12-06 | 2007-11-23 | 真空圧力測定装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8018234B2 (ja) |
JP (1) | JP5252739B2 (ja) |
DE (1) | DE112007002399B4 (ja) |
GB (1) | GB2457831B (ja) |
WO (1) | WO2008067681A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7845235B2 (en) | 2007-11-06 | 2010-12-07 | Costin Sandu | Non-invasive system and method for measuring vacuum pressure in a fluid |
DE102008003676B4 (de) * | 2008-01-09 | 2011-07-21 | Bruker Daltonik GmbH, 28359 | Ionenmobilitätsspektrometer mit einer nicht radioaktiven Elektronenquelle |
DE102008032333A1 (de) * | 2008-07-09 | 2010-06-10 | Drägerwerk AG & Co. KGaA | Miniaturisierter nicht-radioaktiver Elektronenemitter |
WO2012091715A1 (en) | 2010-12-30 | 2012-07-05 | Utc Fire & Security Corporation | Ionization window |
DE102011055089B4 (de) * | 2011-11-07 | 2014-10-09 | Gsi Helmholtzzentrum Für Schwerionenforschung Gmbh | Messvorrichtung |
US11406415B2 (en) | 2012-06-11 | 2022-08-09 | Tenex Health, Inc. | Systems and methods for tissue treatment |
WO2014014742A1 (en) * | 2012-07-17 | 2014-01-23 | Fergenson David Phillip | System for and techniques of manufacturing a monolithic analytical instrument |
US9962181B2 (en) | 2014-09-02 | 2018-05-08 | Tenex Health, Inc. | Subcutaneous wound debridement |
US10692692B2 (en) * | 2015-05-27 | 2020-06-23 | Kla-Tencor Corporation | System and method for providing a clean environment in an electron-optical system |
US10545258B2 (en) * | 2016-03-24 | 2020-01-28 | Schlumberger Technology Corporation | Charged particle emitter assembly for radiation generator |
EP3998467B1 (en) * | 2019-09-13 | 2024-01-03 | Canon Anelva Corporation | Ionization vacuum gauge and cartridge |
JP7462033B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2024-04-04 | インフィコン・アーゲー | 真空気密電気フィードスルー |
CN110702301A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-01-17 | 川北真空科技(北京)有限公司 | 一种薄膜真空计 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60139241U (ja) * | 1984-02-27 | 1985-09-14 | 日本原子力研究所 | 荷電粒子分析器の電離真空計 |
JP3324395B2 (ja) * | 1995-10-31 | 2002-09-17 | 富士電機株式会社 | 電界型真空管とそれを用いた圧力センサ、加速度センサおよびそれらの製造方法 |
JP2003149069A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計 |
ITTO20030627A1 (it) * | 2003-08-08 | 2005-02-09 | Varian Spa | Vacuometro a ionizzazione. |
ITTO20030626A1 (it) * | 2003-08-08 | 2005-02-09 | Varian Spa | Vacuometro a ionizzazione. |
US7030619B2 (en) * | 2004-02-19 | 2006-04-18 | Brooks Automation, Inc. | Ionization gauge |
JP2008540070A (ja) * | 2005-04-29 | 2008-11-20 | ユニバーシティー オブ ロチェスター | 超薄多孔質ナノスケール膜、その製造方法および使用 |
-
2007
- 2007-11-23 WO PCT/CH2007/000588 patent/WO2008067681A1/de active Application Filing
- 2007-11-23 GB GB0907151A patent/GB2457831B/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-23 DE DE112007002399.6T patent/DE112007002399B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-23 US US12/516,375 patent/US8018234B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-23 JP JP2009539582A patent/JP5252739B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE112007002399B4 (de) | 2014-02-06 |
GB2457831A (en) | 2009-09-02 |
US8018234B2 (en) | 2011-09-13 |
GB0907151D0 (en) | 2009-06-03 |
WO2008067681A1 (de) | 2008-06-12 |
JP2010511875A (ja) | 2010-04-15 |
DE112007002399A5 (de) | 2009-10-22 |
US20100066380A1 (en) | 2010-03-18 |
GB2457831B (en) | 2011-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5252739B2 (ja) | 真空圧力測定装置 | |
JP2010511875A5 (ja) | ||
JP4981720B2 (ja) | 電離真空計 | |
US9404827B2 (en) | Ionization gauge with operational parameters and geometry designed for high pressure operation | |
JP5539801B2 (ja) | ガス採取装置、およびそれを使用したガス分析器 | |
US8785874B2 (en) | Ionization window | |
JP5054226B2 (ja) | 酸素の検出方法,空気リークの判別方法,ガス成分検出装置,及び真空処理装置 | |
US6566884B2 (en) | Ionization vacuum pressure gauge | |
JP5809890B2 (ja) | イオンビーム装置 | |
JP2008262886A (ja) | 走査型電子顕微鏡装置 | |
WO2017168557A1 (ja) | 真空装置及び真空ポンプ | |
US6474171B1 (en) | Vacuum gauge | |
CN108091529B (zh) | 一种场发射阴极电子源及其应用 | |
CN101138066A (zh) | 冷阴极压力传感器 | |
Grzebyk et al. | MEMS-type self-packaged field-emission electron source | |
US10614995B2 (en) | Atom probe with vacuum differential | |
CN104252006A (zh) | 探测器的气密封装 | |
US6116974A (en) | Spacers, display devices containing the same, and methods for making and using the same | |
JP2000353492A (ja) | 電界放出冷陰極の高圧動作 | |
JPH0969347A (ja) | 真空気密容器 | |
CN111971779A (zh) | Imr-ms反应室 | |
US10804084B2 (en) | Vacuum apparatus | |
CN217544539U (zh) | 一种离子源高压放电现象观察装置 | |
KR950005662Y1 (ko) | 플라즈마 에칭 챔버의 공정 감시장치 | |
Grzebyk et al. | Preliminary characterization of the ion-sorption micropump |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101021 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101021 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101029 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121022 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121026 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130415 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |