JP2003149069A - 真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計 - Google Patents
真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計Info
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- Switches Operated By Changes In Physical Conditions (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 所定の真空度に達したときに動作できる真空
スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式
真空計を提供する。 【解決手段】 大気圧から真空に変化する環境に臨ん
で、固定側接点１６と可動側接点１７からなるスイッチ
素子１８を設けると共に、可動側接点１７を形状記憶合
金又はバイメタルで形成し、その可動側接点１７に加熱
手段２０を設け、可動側接点１７を、固定側接点１６に
対して常開にし、大気圧環境下において対流による排熱
で動作温度以下に保持し、真空環境下において排熱が絶
たれて動作温度以上にされて可動側接点１７が変形し、
これによりスイッチ素子１８を閉とするようにしたもの
である。
スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式
真空計を提供する。 【解決手段】 大気圧から真空に変化する環境に臨ん
で、固定側接点１６と可動側接点１７からなるスイッチ
素子１８を設けると共に、可動側接点１７を形状記憶合
金又はバイメタルで形成し、その可動側接点１７に加熱
手段２０を設け、可動側接点１７を、固定側接点１６に
対して常開にし、大気圧環境下において対流による排熱
で動作温度以下に保持し、真空環境下において排熱が絶
たれて動作温度以上にされて可動側接点１７が変形し、
これによりスイッチ素子１８を閉とするようにしたもの
である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空スイッチに係
り、特に、所定の真空度に達したときに自動的に作動す
る真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイ
オン式真空計に関するものである。
り、特に、所定の真空度に達したときに自動的に作動す
る真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイ
オン式真空計に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造過程で、ＰＶＤやＣＶＤなど
を行う真空チャンバは、１０-6Ｔｏｒｒの高真空にする
ためには、ロータリーポンプにて粗引きし、１０-3Ｔｏ
ｒｒ程度の真空度となっていることを真空度計測装置で
オペレータが黙視確認した後、ターボ分子ポンプを起動
して精排気し、真空チャンバ内を１０-6Ｔｏｒｒの高真
空度にしている。
を行う真空チャンバは、１０-6Ｔｏｒｒの高真空にする
ためには、ロータリーポンプにて粗引きし、１０-3Ｔｏ
ｒｒ程度の真空度となっていることを真空度計測装置で
オペレータが黙視確認した後、ターボ分子ポンプを起動
して精排気し、真空チャンバ内を１０-6Ｔｏｒｒの高真
空度にしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、大型の
真空チャンバであると、大気圧から１０-3Ｔｏｒｒ程度
の真空度となるまで数時間かかり、且つ真空チャンバの
シール状態により、この時間は大きく変わるため、オペ
レータが付きっ切りで、監視する必要がある。
真空チャンバであると、大気圧から１０-3Ｔｏｒｒ程度
の真空度となるまで数時間かかり、且つ真空チャンバの
シール状態により、この時間は大きく変わるため、オペ
レータが付きっ切りで、監視する必要がある。
【０００４】また、真空度を測定するためには、先ず低
真空を計測するピラニ式真空計で、真空度を検出し、そ
の後、高真空状態になったらイオン式真空計をＯＮさせ
るが、この切り換えもオペレータが常時付きっ切りで行
う必要がある。
真空を計測するピラニ式真空計で、真空度を検出し、そ
の後、高真空状態になったらイオン式真空計をＯＮさせ
るが、この切り換えもオペレータが常時付きっ切りで行
う必要がある。
【０００５】また、これら切り換えを自動で行うとする
と、計測装置と切換制御装置が高価なものとなってしま
う問題がある。
と、計測装置と切換制御装置が高価なものとなってしま
う問題がある。
【０００６】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、所定の真空度に達したときに動作できる真空スイッ
チ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計
を提供することにある。
し、所定の真空度に達したときに動作できる真空スイッ
チ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、大気圧から真空に変化する環境
に臨んで、固定側接点と可動側接点からなるスイッチ素
子を設けると共に、可動側接点を形状記憶合金又はバイ
メタルで形成し、その可動側接点に加熱手段を設けた真
空スイッチである。
に、請求項１の発明は、大気圧から真空に変化する環境
に臨んで、固定側接点と可動側接点からなるスイッチ素
子を設けると共に、可動側接点を形状記憶合金又はバイ
メタルで形成し、その可動側接点に加熱手段を設けた真
空スイッチである。
【０００８】請求項２の発明は、可動側接点は、所定の
動作温度で変形する形状記憶合金又はバイメタルからな
る板部材で形成され、加熱手段は、上記板部材に電流を
流してジュール熱を発生させるための通電手段からなる
請求項１記載の真空スイッチである。
動作温度で変形する形状記憶合金又はバイメタルからな
る板部材で形成され、加熱手段は、上記板部材に電流を
流してジュール熱を発生させるための通電手段からなる
請求項１記載の真空スイッチである。
【０００９】請求項３の発明は、可動側接点は、固定側
接点に対して常開にされ、大気圧環境下において対流に
よる排熱で動作温度以下に保持され、真空環境下におい
て排熱が絶たれて動作温度以上にされて板部材が変形
し、これによりスイッチ素子が閉とされる請求項１記載
の真空スイッチである。
接点に対して常開にされ、大気圧環境下において対流に
よる排熱で動作温度以下に保持され、真空環境下におい
て排熱が絶たれて動作温度以上にされて板部材が変形
し、これによりスイッチ素子が閉とされる請求項１記載
の真空スイッチである。
【００１０】請求項４の発明は、真空チャンバ内をロー
タリーポンプ等の低真空度ポンプで大気圧状態から粗排
気し、所定の真空度に達したとき、ターボ分子ポンプ等
の高真空度ポンプを作動して高真空度にするための真空
排気装置において、真空チャンバ内に請求項１の真空ス
イッチを配置し、その真空スイッチで、上記高真空度ポ
ンプを作動するようにした真空排気装置である。
タリーポンプ等の低真空度ポンプで大気圧状態から粗排
気し、所定の真空度に達したとき、ターボ分子ポンプ等
の高真空度ポンプを作動して高真空度にするための真空
排気装置において、真空チャンバ内に請求項１の真空ス
イッチを配置し、その真空スイッチで、上記高真空度ポ
ンプを作動するようにした真空排気装置である。
【００１１】請求項５の発明は、真空環境内に設けられ
る真空計本体内に、アノード電極とカソード電極を設け
ると共にカソード電極を加熱するヒータを設け、アノー
ド電極とカソード電極間に真空度を検出する電流検出器
を接続したイオン式真空計において、真空計本体のヒー
タへの電源供給ラインに請求項１の真空スイッチを接続
したイオン式真空計である。
る真空計本体内に、アノード電極とカソード電極を設け
ると共にカソード電極を加熱するヒータを設け、アノー
ド電極とカソード電極間に真空度を検出する電流検出器
を接続したイオン式真空計において、真空計本体のヒー
タへの電源供給ラインに請求項１の真空スイッチを接続
したイオン式真空計である。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適実施の形態を
添付図面に基づいて詳述する。
添付図面に基づいて詳述する。
【００１３】先ず、図２により本発明の真空スイッチＡ
を説明する。
を説明する。
【００１４】図２（ａ）に示すように、真空スイッチＡ
は、例えば、機器１０を駆動する商用電源１１の電源ラ
イン１２に直列に接続され、その開閉で機器１０を作動
するようになっている。
は、例えば、機器１０を駆動する商用電源１１の電源ラ
イン１２に直列に接続され、その開閉で機器１０を作動
するようになっている。
【００１５】真空スイッチＡは、筒状に形成したスイッ
チボックス１３の端部に、電源ライン１２に接続するタ
ーミナル１４，１５が設けられ、そのターミナル１４，
１５に、スイッチボックス１３内に臨んで、固定側接点
１６と可動側接点１７からなるスイッチ素子１８が設け
られて構成される。
チボックス１３の端部に、電源ライン１２に接続するタ
ーミナル１４，１５が設けられ、そのターミナル１４，
１５に、スイッチボックス１３内に臨んで、固定側接点
１６と可動側接点１７からなるスイッチ素子１８が設け
られて構成される。
【００１６】スイッチボックス１３は、その内部が大気
環境乃至真空環境に臨むように適宜穴等で開放されてい
る。
環境乃至真空環境に臨むように適宜穴等で開放されてい
る。
【００１７】可動側接点１７は、形状記憶合金又はバイ
メタルからなる板部材で形成され、常時は、固定側接点
１６と離れて、スイッチ素子１８が開となるようにされ
ている。
メタルからなる板部材で形成され、常時は、固定側接点
１６と離れて、スイッチ素子１８が開となるようにされ
ている。
【００１８】この可動側接点１７には、可動側接点１７
を加熱する加熱手段２０が設けられる。この加熱手段２
０は、可動側接点１７にヒータを取り付け、そのヒータ
に通電して加熱しても、或いは、図２（ｂ）に示すよう
に可動側接点１７を、例えばＵ字状に形成し、その両端
部に加熱用電源２１を接続して構成し、その加熱用電源
２１からの通電によるジュール熱で可動側接点１７を加
熱するようにしてもよい。
を加熱する加熱手段２０が設けられる。この加熱手段２
０は、可動側接点１７にヒータを取り付け、そのヒータ
に通電して加熱しても、或いは、図２（ｂ）に示すよう
に可動側接点１７を、例えばＵ字状に形成し、その両端
部に加熱用電源２１を接続して構成し、その加熱用電源
２１からの通電によるジュール熱で可動側接点１７を加
熱するようにしてもよい。
【００１９】この真空スイッチＡは、図１に示すよう
に、ＰＶＤやＣＶＤ等の処理を行う半導体製造装置の真
空チャンバ２４内に臨んで設けられ、真空チャンバ２４
内を大気圧から真空引きして高真空にする際の真空排気
装置に用いられる。
に、ＰＶＤやＣＶＤ等の処理を行う半導体製造装置の真
空チャンバ２４内に臨んで設けられ、真空チャンバ２４
内を大気圧から真空引きして高真空にする際の真空排気
装置に用いられる。
【００２０】真空チャンバ２４には、真空チャンバ２４
内を大気圧から１０-3Ｔｏｒｒ程度に真空引きするロー
タリーポンプ等の低真空度ポンプ２５が接続されると共
に真空チャンバ２４内を１０-5〜１０-6Ｔｏｒｒの高真
空度にするターボ分子ポンプ等の高真空度ポンプ２６が
接続される。
内を大気圧から１０-3Ｔｏｒｒ程度に真空引きするロー
タリーポンプ等の低真空度ポンプ２５が接続されると共
に真空チャンバ２４内を１０-5〜１０-6Ｔｏｒｒの高真
空度にするターボ分子ポンプ等の高真空度ポンプ２６が
接続される。
【００２１】この高真空度ポンプ２６の起動ライン２７
に真空スイッチＡが接続される。
に真空スイッチＡが接続される。
【００２２】また、真空チャンバ２４には、真空度計測
装置２８が設けられる。
装置２８が設けられる。
【００２３】次に本発明の作用を、図１に示した真空チ
ャンバの真空排気装置を例に説明する。
ャンバの真空排気装置を例に説明する。
【００２４】真空チャンバ２４内を大気圧状態から１０
-5〜１０-6Ｔｏｒｒの高真空度にするには、低真空度ポ
ンプ２５を作動して大気圧から１０-3Ｔｏｒｒ程度に真
空引きし、その真空チャンバ２４内の真空度を真空度計
測装置２８で確認した後、高真空度ポンプ２６を作動す
るが、低真空度ポンプ２５での真空引き作業は、数時間
かかり、且つ真空チャンバのシール状態により、この時
間は大きく変わるため、オペレータが、真空度計測装置
２８を付きっ切りで監視して行う必要がある。
-5〜１０-6Ｔｏｒｒの高真空度にするには、低真空度ポ
ンプ２５を作動して大気圧から１０-3Ｔｏｒｒ程度に真
空引きし、その真空チャンバ２４内の真空度を真空度計
測装置２８で確認した後、高真空度ポンプ２６を作動す
るが、低真空度ポンプ２５での真空引き作業は、数時間
かかり、且つ真空チャンバのシール状態により、この時
間は大きく変わるため、オペレータが、真空度計測装置
２８を付きっ切りで監視して行う必要がある。
【００２５】本発明においては、高真空度ポンプ２６を
起動する起動ライン２７に真空スイッチＡを接続するこ
とで、所定の真空度に達したときに真空スイッチＡが、
開から閉になり、これにより、起動ライン２７に接続し
たリレー（図示せず）をＯＮして高真空度ポンプ２６を
自動的に作動するものである。
起動する起動ライン２７に真空スイッチＡを接続するこ
とで、所定の真空度に達したときに真空スイッチＡが、
開から閉になり、これにより、起動ライン２７に接続し
たリレー（図示せず）をＯＮして高真空度ポンプ２６を
自動的に作動するものである。
【００２６】すなわち、真空スイッチＡは、図２（ａ）
に示すようにそのスイッチ素子１８が常開であり、この
状態では、機器１０（高真空度ポンプ２６）は、ＯＦＦ
状態になっていると共に、スイッチ素子１８の可動側接
点１７は、加熱手段２０により加熱されている。
に示すようにそのスイッチ素子１８が常開であり、この
状態では、機器１０（高真空度ポンプ２６）は、ＯＦＦ
状態になっていると共に、スイッチ素子１８の可動側接
点１７は、加熱手段２０により加熱されている。
【００２７】真空スイッチＡの周囲は、大気圧状態にあ
り、可動側接点１７が加熱されていても、対流により放
熱され、可動側接点１７の温度は、動作温度以下に保た
れた状態にある。
り、可動側接点１７が加熱されていても、対流により放
熱され、可動側接点１７の温度は、動作温度以下に保た
れた状態にある。
【００２８】その後、真空度が上がり、１０-3Ｔｏｒｒ
に達したとき、可動側接点１７は、対流による放熱がな
くなり、その温度が動作温度に達し、形状記憶合金であ
れば、記憶された形状になって、固定側接点１６と接
し、またバイメタルで、可動側接点１７を形成した場合
には、その線膨張差により屈曲して、固定側接点１６と
接する。
に達したとき、可動側接点１７は、対流による放熱がな
くなり、その温度が動作温度に達し、形状記憶合金であ
れば、記憶された形状になって、固定側接点１６と接
し、またバイメタルで、可動側接点１７を形成した場合
には、その線膨張差により屈曲して、固定側接点１６と
接する。
【００２９】このように、本発明では、真空環境では、
対流現象による排熱がなくなることを利用して可動側接
点１７を、形状記憶合金やバイメタルで形成し、その可
動側接点１７を加熱手段２０で加熱し、対流による空気
への排熱を利用し、所定の真空度に達したときに、可動
側接点１７を動作温度以上になるようにすることで、自
動的にスイッチ素子１８を閉として、機器１０や高真空
度ポンプ２６を自動的に起動することが可能となる。
対流現象による排熱がなくなることを利用して可動側接
点１７を、形状記憶合金やバイメタルで形成し、その可
動側接点１７を加熱手段２０で加熱し、対流による空気
への排熱を利用し、所定の真空度に達したときに、可動
側接点１７を動作温度以上になるようにすることで、自
動的にスイッチ素子１８を閉として、機器１０や高真空
度ポンプ２６を自動的に起動することが可能となる。
【００３０】可動側接点１７の動作温度は、形状記憶合
金やバイメタルの種類により、また加熱手段２０や加熱
用電源２１による加熱の程度により自在に調整できる。
また加熱は、常時加熱すると、真空度が上がるに従って
可動側接点１７に熱が溜まる場合には、可動側接点１７
を間欠的に所定時間加熱し、その真空度の違いによる温
度上昇の違いから動作温度を調整するようにしてもよ
い。
金やバイメタルの種類により、また加熱手段２０や加熱
用電源２１による加熱の程度により自在に調整できる。
また加熱は、常時加熱すると、真空度が上がるに従って
可動側接点１７に熱が溜まる場合には、可動側接点１７
を間欠的に所定時間加熱し、その真空度の違いによる温
度上昇の違いから動作温度を調整するようにしてもよ
い。
【００３１】図３は、本発明の真空スイッチＡを用いる
他の実施の形態を示したものである。
他の実施の形態を示したものである。
【００３２】従来例で説明したようにイオン式真空計を
動作させるためには、別に低真空を計測するピラニ式真
空計を装備し、高真空になったならばイオン式真空をＯ
Ｎさせるようにしているが、本来、ピラニ式真空計は、
高真空度環境では不要である。
動作させるためには、別に低真空を計測するピラニ式真
空計を装備し、高真空になったならばイオン式真空をＯ
Ｎさせるようにしているが、本来、ピラニ式真空計は、
高真空度環境では不要である。
【００３３】そこで、本発明の真空スイッチＡをイオン
式真空計３０に組み込み、所定の真空度になったときに
イオン式真空計３０を作動するようにしたものである。
式真空計３０に組み込み、所定の真空度になったときに
イオン式真空計３０を作動するようにしたものである。
【００３４】すなわち、３１は、真空チャンバなどに配
置される真空計本体で、その真空計本体３１内に、キャ
ップ状のアノード電極３２とカソード電極３３とが配置
され、中心にカソード電極３３を加熱するヒータ３４が
配置され、そのヒータ３４に通電する電源３５の電源供
給ライン３６に真空スイッチＡが接続され、アノード電
極３２とカソード電極３３間に熱電子による電流検出器
３７が接続されてイオン式真空計３０が構成される。
置される真空計本体で、その真空計本体３１内に、キャ
ップ状のアノード電極３２とカソード電極３３とが配置
され、中心にカソード電極３３を加熱するヒータ３４が
配置され、そのヒータ３４に通電する電源３５の電源供
給ライン３６に真空スイッチＡが接続され、アノード電
極３２とカソード電極３３間に熱電子による電流検出器
３７が接続されてイオン式真空計３０が構成される。
【００３５】このイオン式真空計３０において、真空ス
イッチＡの可動側接点１７を加熱手段２０にて加熱した
状態とし、真空計本体３１内の真空度が上がり、排熱が
無くなり、所定の真空度になったとき、可動側接点１７
が変形して固定側接点１６と接して、真空スイッチＡが
閉じ、電源３５から電源供給ライン３６を通じてヒータ
３４に通電される。これにより、カソード電極３３が加
熱され、熱電子がアノード電極３２に放出され、電流検
出器３７で、その電流を検出することで、真空度が計測
できる。
イッチＡの可動側接点１７を加熱手段２０にて加熱した
状態とし、真空計本体３１内の真空度が上がり、排熱が
無くなり、所定の真空度になったとき、可動側接点１７
が変形して固定側接点１６と接して、真空スイッチＡが
閉じ、電源３５から電源供給ライン３６を通じてヒータ
３４に通電される。これにより、カソード電極３３が加
熱され、熱電子がアノード電極３２に放出され、電流検
出器３７で、その電流を検出することで、真空度が計測
できる。
【００３６】このように、本発明の真空スイッチＡをイ
オン式真空計３０に用いることで、低真空度計を用いず
に、所定の真空度になったときにイオン式真空計３０を
作動させることが可能となる。
オン式真空計３０に用いることで、低真空度計を用いず
に、所定の真空度になったときにイオン式真空計３０を
作動させることが可能となる。
【００３７】以上、本実施の形態を説明したが、本発明
の真空スイッチは、真空環境のみならず対流がない環境
であれば、例えば宇宙船内など無重力空間になった場合
には対流が生じないため、無重力となったときに動作す
るスイッチとして使用することが可能である。
の真空スイッチは、真空環境のみならず対流がない環境
であれば、例えば宇宙船内など無重力空間になった場合
には対流が生じないため、無重力となったときに動作す
るスイッチとして使用することが可能である。
【００３８】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、大気圧か
ら真空の環境に変わる際に、対流の有無を利用して自動
的に動作できる真空スイッチとすることができ、これを
真空排気装置やイオン式真空計の動作回路に組み込むこ
とで、安価で、簡易なＯＮ／ＯＦＦスイッチとすること
ができる。
ら真空の環境に変わる際に、対流の有無を利用して自動
的に動作できる真空スイッチとすることができ、これを
真空排気装置やイオン式真空計の動作回路に組み込むこ
とで、安価で、簡易なＯＮ／ＯＦＦスイッチとすること
ができる。
【図１】本発明が適用される半導体製造装置の真空排気
装置の概略を示す図である。
装置の概略を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態を示す図である。
【図３】本発明が適用されるイオン式真空計の概略を示
す図である。
す図である。
１６ 固定側接点
１７ 可動側接点
１８ スイッチ素子
２０ 加熱手段
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｈ 35/26 Ｈ０１Ｈ 35/26 Ｚ
Ｆターム(参考） 2F055 AA40 BB08 CC47 DD20 EE40
FF49 GG49 HH19
3H029 AA01 AB06 AB08 BB53 BB60
CC24 CC53 CC83
3H031 DA02 EA01 EA12 FA35 FA37
5G056 DA01 DB01 DC07 DD12 DD17
DD21 DD32 DF51 DG04
Claims (5)
- 【請求項１】 大気圧から真空に変化する環境に臨ん
で、固定側接点と可動側接点からなるスイッチ素子を設
けると共に、可動側接点を形状記憶合金又はバイメタル
で形成し、その可動側接点に加熱手段を設けたことを特
徴とする真空スイッチ。 - 【請求項２】 可動側接点は、所定の動作温度で変形す
る形状記憶合金又はバイメタルからなる板部材で形成さ
れ、加熱手段は、上記板部材に電流を流してジュール熱
を発生させるための通電手段からなる請求項１記載の真
空スイッチ。 - 【請求項３】 可動側接点は、固定側接点に対して常開
にされ、大気圧環境下において対流による排熱で動作温
度以下に保持され、真空環境下において排熱が絶たれて
動作温度以上にされて板部材が変形し、これによりスイ
ッチ素子が閉とされる請求項１記載の真空スイッチ。 - 【請求項４】 真空チャンバ内をロータリーポンプ等の
低真空度ポンプで大気圧状態から粗排気し、所定の真空
度に達したとき、ターボ分子ポンプ等の高真空度ポンプ
を作動して高真空度にするための真空排気装置におい
て、真空チャンバ内に請求項１の真空スイッチを配置
し、その真空スイッチで、上記高真空度ポンプを作動す
るようにしたことを特徴とする真空排気装置。 - 【請求項５】 真空環境内に設けられる真空計本体内
に、アノード電極とカソード電極を設けると共にカソー
ド電極を加熱するヒータを設け、アノード電極とカソー
ド電極間に真空度を検出する電流検出器を接続したイオ
ン式真空計において、真空計本体のヒータへの電源供給
ラインに請求項１の真空スイッチを接続したことを特徴
とするイオン式真空計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001347754A JP2003149069A (ja) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | 真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001347754A JP2003149069A (ja) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | 真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003149069A true JP2003149069A (ja) | 2003-05-21 |
Family
ID=19160710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001347754A Pending JP2003149069A (ja) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | 真空スイッチ及びこれを用いた真空排気装置並びにイオン式真空計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003149069A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010511875A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-15 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 真空圧力測定装置のための電子源 |
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2001
- 2001-11-13 JP JP2001347754A patent/JP2003149069A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010511875A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-15 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 真空圧力測定装置のための電子源 |
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