JP5250201B2 - 真空ポンプ - Google Patents
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Description
この高真空の環境を実現する真空ポンプは、吸気口及び排気口を備えた外装体を形成するケーシングを備えている。そして、このケーシングの内部には、当該真空ポンプに排気機能を発揮させる構造物が収納されている。この排気機能を発揮させる構造物は、大きく分けて回転自在に軸支された回転部(ロータ部)とケーシングに対して固定された固定部(ステータ部)から構成されている。
また、回転軸を高速回転させるためのモータが設けられており、このモータの働きにより回転軸が高速回転すると、ロータ翼とステータ翼との作用により気体が吸気口から吸引され、排気口から排出されるようになっている。
パーティクルは、例えば、真空ポンプの内部において、高速回転しているロータ翼に衝突した場合、真空容器側へ跳ね返され、即ち吸気口から真空容器側へ逆流してしまう。
真空ポンプから逆流したパーティクルは、真空容器の内部の汚染原因となるおそれがある。
そこで従来、このような真空容器側へのパーティクルの逆流を抑制する技術が下記の特許文献に提案されている。
また、特許文献2には、ターボ分子ポンプの吸気口の内方に異物を捕捉するトラップを設ける技術が提案されている。
しかしながら、上述したような、微小塵逆流防止用の静翼ディスクやトラップによるパーティクルの逆流防止対策を施す場合、ポンプを分解する必要があった。そのため、納品後のポンプに対して、容易に上述したような逆流防止対策を施すことはできなかった。
請求項2記載の発明では、請求項1記載の真空ポンプにおいて、前記逆流防止構造は、複数の貫通細孔を有することを特徴とする。
なお、請求項2における前記逆流防止構造は、例えば、前記回転体の回転軸方向と平行な向きに伸びる複数の貫通細孔を有することが好ましい。
また、請求項2における前記逆流防止構造は、例えば、ハニカム構造を有することが好ましい。
請求項3記載の発明では、請求項1記載の真空ポンプにおいて、前記逆流防止構造は、前記気体の下流方向を向いた逆流防止面を有するバッフルを備えたことを特徴とする。
請求項4記載の発明では、請求項3記載の真空ポンプにおいて、前記逆流防止構造は、複数の前記バッフルが、前記回転体の円周方向または半径方向に沿って配列されていることを特徴とする。
なお、請求項4記載の発明における前記逆流防止構造は、例えば、前記回転体の同心円状の円周方向に沿って配列されている場合、内側面、即ち、中心方向を向く側面が気体の下流方向を向いていることが好ましい。
請求項5記載の発明では、請求項3または請求項4記載の真空ポンプにおいて、前記逆流防止構造は、前記気体移送機構から飛来するパーティクルの入射方向における、隣接する前記バッフルの逆流防止面の投影像の少なくとも一部が重なり合うことを特徴とする。
請求項6記載の発明では、請求項3から請求項5のいずれか1の請求項に記載の真空ポンプにおいて、前記回転体は、側面に突設して設けられた翼角度を有する動翼列を備え、前記逆流防止構造は、前記動翼列の前記吸気口方向への投影領域のみに前記バッフルが配設されていることを特徴とする。
なお、請求項6における前記逆流防止構造は、例えば、前記動翼列が配設されていない領域を覆う部位には、貫通孔またはバッフルが設けられていないことが好ましい。
請求項7記載の発明では、請求項2から請求項6のいずれか1の請求項に記載の真空ポンプにおいて、前記貫通細孔の内側面、または、前記バッフルの逆流防止面は、低反発部材によってコーティングされていることを特徴とする。
なお、請求項7における前記低反発部材は、例えば、高い粘性を有する部材であることが好ましい。
請求項8記載の発明では、請求項1から請求項7のいずれか1の請求項に記載の真空ポンプにおいて、前記吸気口から前記排気口まで移送される気体の流路を形成するステータ部のうち、軸線方向に平行な側面を有する領域に、前記気体の下流方向を向いた逆流防止面が形成されていることを特徴とする。
詳しくは、本実施形態では、ターボ分子ポンプの一例としてターボ分子ポンプ部Tとネジ溝式ポンプ部Sを備えた、いわゆる複合翼タイプの分子ポンプを例にとり説明する。なお、本実施の形態は、ターボ分子ポンプ部Tのみを有するポンプやネジ溝が回転体側に設けられたポンプに適用してもよい。
図1は、第1の実施形態に係るターボ分子ポンプ1の概略構成を示した図である。なお、図1は、ターボ分子ポンプ1の軸線方向の断面図を示している。
ターボ分子ポンプ1の外装体を形成するケーシング2は、円筒状の形状をしており、ケーシング2の底部に設けられたベース3と共にターボ分子ポンプ1の外装体を構成している。そして、ターボ分子ポンプ1の外装体の内部には、ターボ分子ポンプ1に排気機能を発揮させる構造物つまり気体移送機構が収納されている。
これら排気機能を発揮する構造物は、大きく分けて回転自在に軸支されたロータ部4とケーシング2に対して固定されたステータ部から構成されている。
また、吸気口5側がターボ分子ポンプ部Tにより構成され、排気口6側がネジ溝式ポンプ部Sから構成されている。
さらに、ロータ部4には、外周面が円筒形状をした部材からなる円筒部材9が排気口6側(ネジ溝式ポンプ部S)に設けられている。
また、ターボ分子ポンプ1には、動翼列8が軸線方向に複数段形成されている。
シャフト7の軸線方向中程には、シャフト7を回転させるモータ部11が配設されている。
また、モータ部11の吸気口5側及び排気口6側には、シャフト7をラジアル方向に軸支するための磁気軸受部12及び磁気軸受部13が設けられている。
さらに、シャフト7の下端には、シャフト7を軸線方向(スラスト方向)に軸支するための磁気軸受部14が設けられている。
なお、シャフト7は、磁気軸受部12、13、14から構成される5軸制御型の磁気軸受によって非接触で支持されている。
また、磁気軸受部12、13の近傍には、それぞれ変位センサ15、16が形成されており、シャフト7のラジアル方向の変位が検出できるようになっている。さらに、シャフト7の下端には変位センサ17が形成されており、シャフト7の軸線方向の変位が検出できるようになっている。
静翼列18は、シャフト7の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜してケーシング2の内周面からシャフト7に向かって伸びた固定ブレードから構成されている。ターボ分子ポンプ部Tでは、これら静翼列18が軸線方向に、動翼列8と互い違いに複数段形成されている。各段の静翼列18は、円筒形状をしたスペーサ20により互いに隔てられている。
これらステータ部はステンレスやアルミニウム合金などの金属で構成されている。
ベース3は、ケーシング2と共にターボ分子ポンプ1の外装体を構成している。ベース3のラジアル方向の中央には、ロータの回転軸線と同心に円筒形状を有するステータコラム21が取り付けられている。
ベース3の底部(ステータコラム21の開口部)には、ステータコラム21を密閉するための裏蓋22が取り付けられている。
本実施の形態に係るターボ分子ポンプ1には、図示されていないがターボ分子ポンプ1を制御するための制御装置が設けられている。
また、ターボ分子ポンプ1は、モータ部11から発生する熱などにより加熱されて高温状態となる。
このようにターボ分子ポンプ1は、気体分子の衝突熱(圧縮熱)やモータ部11からの発熱などにより高温状態となっている。
そこで、高温状態になったターボ分子ポンプ1を冷却するために、ベース3には、冷却管26が埋設されている。
冷却管26は、チューブ状(管状)の部材からなる。冷却管26は、内部に熱媒体である冷却材を流し、この冷却材に熱を吸収させるようにして冷却管26周辺の冷却を行うための部材である。
また、冷却管26に流す冷却材、つまり物体を冷却するための流体は、液体であっても気体であってもよい。液体の冷却材としては、例えば、水、塩化カルシウム水溶液やエチレングリコール水溶液などを用いることができる。気体の冷却材としては、例えば、アンモニア、メタン、エタン、ハロゲン、ヘリウムガスや炭酸ガス、空気などを用いることができる。
なお、本実施形態では、冷却管26がベース3に配設されているが、冷却管26の配設位置はこれに限られるものではない。例えば、ステータコラム21、裏蓋22の内部に直接埋め込むように設けてもよい。
半導体製造装置のプロセスチャンバの内部では、例えば、プロセスガスの反応時の反応生成物からなるパーティクル(微粒子)が生じる。
そのため、ターボ分子ポンプ1では、プロセスチャンバ(真空容器)内の気体だけでなく、プロセスチャンバにおいて生じたパーティクルも吸気口5から取り込まれる。
このようなターボ分子ポンプ1から逆流したパーティクルは、プロセスチャンバの内部の汚染原因となるおそれがある。
そこで本実施の形態に係るターボ分子ポンプ1では、吸気口5から取り込まれたパーティクルの上流側の領域への逆流を抑制するために、吸気口5の部位に、即ち、気体移送機構の上流に逆流防止構造30が設けられている。
第1の実施形態に係るターボ分子ポンプ1では、図1に示すように、ケーシング2の吸気口5側の端部に略円板形状の逆流防止構造30が配設されている。
ケーシング2の吸気口5近傍の内周壁には、ケーシング2の内側へ張り出した突起が、円周方向に延設されることによって形成された固定部31が設けられている。
固定部31は、逆流防止構造30をケーシング2の内部へ嵌め込んだ際に、逆流防止構造30が動翼列8側へ、即ち気体移送機構側への移動を抑止するストッパーとして機能する。
図示されていないが、ネジ33を締め付けるためのネジ穴は、ケーシング2の吸気口5の端面に設けられており、押さえ板32は、ネジ33によって、吸気口5側から容易に締め付け固定することができるように構成されている。
ケーシング2の吸気口5側の開口部から挿入された逆流防止構造30は、その外縁部分が固定部31と押さえ板32によって挟持された状態でケーシング2に固定される。
このように、第1の実施形態に係るターボ分子ポンプ1では、ターボ分子ポンプ1を分解することなく、吸気口5側から容易に逆流防止構造30を着脱することができるように構成されている。
また、図2(b)は、逆流防止構造30へ侵入するパーティクル及び気体分子の様子の一例を示した図である。
逆流防止構造30は、複数の貫通細孔30aを有するハニカム構造体によって形成された、厚みを有する円板状の金属製部材である。
貫通細孔30aは、断面六角形状の回転軸方向と平行な向きに伸びる細孔である。隣接する貫通細孔30aとの間には、隔壁が形成されている。
なお、排気性能の低下を抑制するために、貫通細孔30aの隔壁、即ち、貫通細孔30aを形成する側壁の厚みは薄く形成されている。
また、吸気口5から取り込まれたパーティクルが、ターボ分子ポンプ1の内部において、高速回転している動翼列8(詳しくは、回転ブレード)に衝突した場合、逆流防止構造30側へ跳ね返され、貫通細孔30aの1つに侵入する。
そして、図2(b)の実線矢印で示すように、パーティクルは、貫通細孔30aの側壁への衝突(反射)を何度も繰り返すうちに自身の運動エネルギーが減衰させられる。
つまり、パーティクルは、逆流防止構造30を通過する間に、自身の運動エネルギーが奪われるため、回転ブレードによって跳ね返された場合であっても、吸気口5の上流、即ちプロセスチャンバ(真空容器)まで辿り着くことができなくなる。
なお、上述した第1の実施形態では、逆流防止構造30を六角形の貫通細孔30aの集合体からなるハニカム構造体によって構成しているが、ハニカム構造体を構成する貫通細孔30aの形状は、これに限定されるものではない。貫通細孔30aは、例えば、断面三角形や四角形であってもよい。
また、逆流防止構造30を通過するパーティクルの運動エネルギーの吸収率を上げるために、即ち、パーティクルの運動エネルギーの減衰率を上げるために、貫通細孔30aを形成する側壁(隔壁)を、即ち、貫通細孔30aの内側面を、低反発部材でコーティングすることが望ましい。低反発部材としては、例えば、粘弾性材料、詳しくは、フッ素ゴムなどを用いる。
即ち、逆流防止構造30に入射するパーティクルの速度が遅い場合、例えば、動翼列8の回転速度が遅い場合には、逆流防止構造30の高さ(貫通細孔30aの長さ)を不必要に長く設定しないようにする。これは、逆流防止構造30を設けることによる気体の排気性能の低下を抑制するためである。
次に、ターボ分子ポンプ1の第2の実施形態について説明する。
図3は、第2の実施形態に係るターボ分子ポンプ1の概略構成を示した図である。なお、図3は、ターボ分子ポンプ1の軸線方向の断面図を示している。
この第2の実施形態では、第1の実施形態で用いたハニカム構造の逆流防止構造30の代わりに、バッフル(邪魔板)40aを備えた逆流防止構造40を用いて、パーティクルの真空容器側への逆流を抑制する方法について説明する。
なお、上述した第1の実施形態のターボ分子ポンプ1と重複する部位には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
ケーシング2の吸気口5近傍の内周壁には、ケーシング2の内側へ張り出した突起が、円周方向に延設されることによって形成された固定部41が設けられている。
固定部41の吸気口5側の端面上に、逆流防止構造40の外周縁部が配設されている。そして、図示されていないが、固定部41の吸気口5側に設けられたネジ穴に、ネジ43を締め付けることによって、吸気口5側から容易に逆流防止構造40をケーシング2へ固定できるように構成されている。
なお、図示されていないが、逆流防止構造40の外縁部には、ネジ43の貫入孔が設けられている。
このように、第2の実施形態に係るターボ分子ポンプ1では、第1の実施形態に係るターボ分子ポンプ1と同様に、ターボ分子ポンプ1を分解することなく、吸気口5側から容易に逆流防止構造40を着脱することができるように構成されている。
また、図4(b)は、逆流防止構造40へ侵入するパーティクル及び気体分子の様子の一例を模式的に示した展開図である。
逆流防止構造40は、中心部に設けられた円板状の中央円板部40b、外周側の一部がネジ43によって固定部41に固定される外側円環部40c、及び、中央円板部40bと外側円環部40cとの間の領域に設けられた放射状に所定角度で支持された複数のバッフル40aを備えている。
バッフル40aは、水平面(中央円板部40bの形成面)から気体の下流方向(排気口6方向)へ張り出すように設けられた、逆流防止構造40の外側へ向かって幅が広くなるように形成された略扇形状の反射板である。
なお、バッフル40aの張り出し方向、即ち、折り曲げ方向は、排気口6方向に限定されるものではない。動翼列8とバッフル40aとの間の距離を稼ぐことが好ましい場合には、バッフル40aを吸気口5方向に折り曲げるようにしてもよい。
また、バッフル40aは、気体の下流方向、即ち、排気口6方向を向く側面は、ロータ部4(動翼列8)の回転方向と逆向きに配設されている。
逆流防止構造40は、金属製(例えば、ステンレス鋼製またはアルミニウム製)の薄肉の板から、エッチング法や型抜き法、または、レーザやプラズマなどの切断法を用いて、バッフル40aを形成するためのコの字状のスリットを複数形成する(切り出す)。
そして、スリットにより切り出されたバッフル40aを、プレス加工で所定角度に曲げることにより、逆流防止構造40が形成される。
また、吸気口5から取り込まれたパーティクルが、ターボ分子ポンプ1の内部において、高速回転している動翼列8(詳しくは、回転ブレード)に衝突した場合、逆流防止構造40側へ跳ね返される。
逆流防止構造40側へ跳ね返されたパーティクルは、図4(b)に示すように、バッフル40aの傾斜面に入射し、そして、バッフル40aによって排気口6方向、即ち、動翼列8や静翼列18の配置領域に再度跳ね返される。
なお、バッフル40aにおける下流方向を向いた面、即ち、動翼列8から跳ね返されたパーティクルが入射する面は、逆流防止面として機能する。
パーティクルは、逆流防止構造40を通過することができないため、回転ブレードによって跳ね返された場合であっても、プロセスチャンバ(真空容器)まで辿り着くことができなくなる。
また、パーティクルの逆流防止を強化するために、逆流防止構造40は、図4(b)に示すように、回転ブレードによって跳ね返されたパーティクルの入射方向における、隣接するバッフル40aの投影像の一部が重なり合うように、即ち、オーバーハングするように構成されている。パーティクルの入射方向は、例えば、動翼列8の回転速度、回転ブレードの形状などに基づいて概ね予測される入射角方向を示す。
バッフル40aのオーバーハング量αは、気体の排気性能の低下を抑制するために、できるだけ0に近い値とすることが望ましい。
なお、バッフル40aのオーバーハング量αは、吸気口5方向における、隣接するバッフル40aの投影像が重なり合わない範囲で設定されている。
また、逆流防止構造40におけるバッフル40aの傾き角度や大きさは、動翼列8方向から入射するパーティクルの入射角度に応じて任意に調整することが好ましい。
図5は、図3における破線A部の拡大図である。
詳しくは、図5に示すように、ケーシング2における内周壁面の吸気口5近傍の領域、及び、吸気口5近傍に配置されたスペーサ20の内周壁面(内側面)に、断面V字型の溝50が周方向に沿って延設されている。
このように逆流防止面を有する溝50を設けることにより、動翼列8に衝突したパーティクルを、速やかに排気口6側へ送ることができるため、パーティクルの逆流の防止効果を向上させることができる。
なお、第2の実施形態では、溝50は、ケーシング2における内周壁面の吸気口5近傍の領域、及び、吸気口5近傍に配置されたスペーサ20の内周壁面にのみ設けられているが、溝50の形成部位はこれに限定されるものではない。例えば、全てのスペーサ20の内周壁面に設けるようにしてもよい。
また、第2の実施形態に係るターボ分子ポンプ1に設けられている溝50を、第1の実施形態に係るターボ分子ポンプ1に形成するようにしてもよい。
次に、逆流防止構造40の変形例について説明する。
図6(a)〜(c)は、逆流防止構造40の変形例を示した図である。
逆流防止構造40は、図6(a)に示すように、中央円板部140b、外側円環部140c、及び中央円板部140bの同心円の周方向に沿って配置されたバッフル140aで構成するようにしてもよい。
バッフル140aは、水平面(中央円板部140bの形成面)に対して所定の角度だけ傾斜し、排気口6方向(気体の下流方向)を向く面は、同時に、中央円板部140bの中心方向に向いて傾くように設けられている。
詳しくは、略八角形状の中央円板部140bのそれぞれの外側辺と平行に、複数のバッフル140aが半径方向に沿って等間隔に設けられ、そして、各バッフル140aは、中央円板部140bの中心方向に傾くように形成されている。
バッフル240aは、水平面(中央円板部240bの形成面)に対して所定の角度だけ傾斜し、排気口6方向(気体の下流方向)を向く面は、同時に、中央円板部240bの中心方向に向いて傾くように設けられている。
詳しくは、円板状の中央円板部240bの同心円上に、複数のバッフル240aが半径方向に沿って等間隔に設けられ、そして、各バッフル240aの内側面は、中央円板部240bの中心方向に傾くように形成されている。
なお、回転ブレードで反射された後、ケーシング2やスペーサ20の内面で反射し、バッフル240aの外側の面に入射するパーティクルは、溝50を併用することで低減できる。
そのため、回転ブレードで反射された後、バッフル240aの内面に直接入射するパーティクルの逆流を防止(抑制)できるように、バッフル240aの傾斜角を設定することが望ましい。
バッフル340aは、水平面(中央円板部340bの形成面)に対して所定の角度だけ傾斜し、放射状に設けられている。
なお、上述した図6(a)〜(c)に示す逆流防止構造40の変形例においても、第2の実施形態(図4)と同様に、回転ブレードによって跳ね返されたパーティクルの入射方向における、隣接するバッフル140a、240a、340aの投影像の一部が重なり合うように、即ち、オーバーハングするように構成されている。
変形例に示すバッフル140a、240a、340aのオーバーハング量もまた、気体の排気性能の低下を抑制するために、できるだけ0に近い値とすることが望ましい。
そのため、パーティクルが通過する回転ブレードの上方(吸気口5方向)のみに、即ち、回転ブレードの吸気口5方向への投影領域のみに、逆流防止構造40を配設し、中央円板部40b、140b、240b、340bは、貫通領域を有さない板状部材で構成されている。
同様に、上述した第1の実施形態における逆流防止構造30においても、ロータ部4の上方(吸気口5方向)即ち、中央領域を貫通細孔30a(貫通領域)を有さない板状の部材で構成するようにしてもよい。
また、ケーシング2の内側面等で反射した後のパーティクルの逆流は、上述したように、ケーシング2やスペーサ20の内面に溝50を併設することによって抑制することができる。そこで、中央円板部40b、140b、240b、340bを、板状部材の代わりに、メッシュ状の金網(保護金網)で構成するようにしてもよい。
このように中央円板部40b、140b、240b、340bを、メッシュ状の金網(保護金網)で構成することにより、排気性能の低下を軽減(抑制)することができる。
このような低反発部材でコーティングすることにより、バッフル40a、140a、240a、340aに衝突したパーティクルの運動エネルギーの吸収率を上げることができる。
上述した第2の実施形態及びその変形例に示す逆流防止構造40をターボ分子ポンプ1に設けることにより、パーティクルが真空容器側(吸気口5の上流側)まで逆流してしまうことを適切に抑制することができる。
図7は、接続配管80に設けられた逆流防止構造60の一例を示した図である。
図7に示すように、第1の実施形態で説明した逆流防止構造30と同様の構造を有する逆流防止構造60を、真空容器70の排気口71と、真空容器70の排気処理を行うターボ分子ポンプ1’の吸気口5’とを接続する接続配管80(配管構造体)に設けるようにしてもよい。
逆流防止構造60は、接続配管80の排気口側、即ち、ターボ分子ポンプ1’の吸気口5’側から容易に着脱することができるように構成してもよい。
また、接続配管80は、それ自身が真空容器70およびターボ分子ポンプ1’に対して、着脱可能に設けられているため、逆流防止構造60を接続配管80に対して、着脱可能に設ける必要性はなく、接続配管80に取り外し不能な状態で組み付けられていてもよい。
なお、逆流防止構造60を真空容器70に設ける場合において、逆流防止構造60の配設位置は、真空容器70の排気口71側の端部に限定されるものではない。
例えば、真空容器70の排気口71の近傍に真空容器70の内側から容易に着脱することができるように配設するようにしてもよい。
また、上述した接続配管80や真空容器70に設ける逆流防止構造60は、第2の実施形態で説明した逆流防止構造40と同様の構造を有するように構成してもよい。
このように、逆流防止構造60を真空容器70や接続配管80などターボ分子ポンプ1’の外部に設けることにより、ターボ分子ポンプ1’を分解することなく、容易にパーティクルの逆流防止対策を施すことができる。
2 ケーシング
3 ベース
4 ロータ部
5 吸気口
6 排気口
7 シャフト
8 動翼列
9 円筒部材
10 ボルト
11 モータ部
12〜14 磁気軸受部
15〜17 変位センサ
18 静翼列
19 ネジ溝スペーサ
20 スペーサ
21 ステータコラム
22 裏蓋
26 冷却管
30 逆流防止構造
30a 貫通細孔
31 固定部
32 押さえ板
33 ネジ
40 逆流防止構造
40a バッフル
40b 中央円板部
40c 外側円環部
41 固定部
43 ネジ
50 溝
60 逆流防止構造
70 真空容器
80 接続配管
Claims (8)
- 吸気口と排気口を有する外装体と、
前記外装体に内包された回転体を有する、前記吸気口から前記排気口まで気体を移送する気体移送機構と、
前記気体移送機構の上流に設けられた、前記吸気口の上流側の開口部から着脱可能なパーティクルの逆流防止構造と、
前記逆流防止構造が前記吸気口の上流側の前記開口部から挿入された状態で、前記外装体に固定される固定部と、
前記外装体からの脱落を防止する脱落防止部と、
を備えたことを特徴とする真空ポンプ。 - 前記逆流防止構造は、複数の貫通細孔を有することを特徴とする請求項1記載の真空ポンプ。
- 前記逆流防止構造は、前記気体の下流方向を向いた逆流防止面を有するバッフルを備えたことを特徴とする請求項1記載の真空ポンプ。
- 前記逆流防止構造は、複数の前記バッフルが、前記回転体の円周方向または半径方向に沿って配列されていることを特徴とする請求項3記載の真空ポンプ。
- 前記逆流防止構造は、前記気体移送機構から飛来するパーティクルの入射方向における、隣接する前記バッフルの逆流防止面の投影像の少なくとも一部が重なり合うことを特徴とする請求項3または請求項4記載の真空ポンプ。
- 前記回転体は、側面に突設して設けられた翼角度を有する動翼列を備え、
前記逆流防止構造は、前記動翼列の前記吸気口方向への投影領域のみに前記バッフルが配設されていることを特徴とする請求項3から請求項5のいずれか1の請求項に記載の真空ポンプ。 - 前記貫通細孔の内側面、又は、前記バッフルの逆流防止面は、低反発部材によってコーティングされていることを特徴とする請求項2から請求項6のいずれか1の請求項に記載の真空ポンプ。
- 前記吸気口から前記排気口まで移送される気体の流路を形成するステータ部のうち、軸線方向に平行な側面を有する領域に、前記気体の下流方向を向いた逆流防止面が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1の請求項に記載の真空ポンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006330814A JP5250201B2 (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006330814A JP5250201B2 (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 真空ポンプ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008144630A JP2008144630A (ja) | 2008-06-26 |
JP2008144630A5 JP2008144630A5 (ja) | 2010-01-07 |
JP5250201B2 true JP5250201B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=39605078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006330814A Active JP5250201B2 (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 真空ポンプ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5250201B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5350598B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2013-11-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 排気ポンプ、連通管、排気システム及び基板処理装置 |
JP5460982B2 (ja) * | 2008-07-30 | 2014-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 弁体、粒子進入阻止機構、排気制御装置及び基板処理装置 |
JP5193904B2 (ja) * | 2009-02-27 | 2013-05-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
JP6706553B2 (ja) | 2015-12-15 | 2020-06-10 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ及び該真空ポンプに搭載される回転翼、反射機構 |
FR3101683B1 (fr) * | 2019-10-03 | 2021-10-01 | Pfeiffer Vacuum | Pompe à vide turbomoléculaire |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3444971B2 (ja) * | 1994-06-24 | 2003-09-08 | 株式会社大阪真空機器製作所 | ターボ分子ポンプ |
US7927066B2 (en) * | 2005-03-02 | 2011-04-19 | Tokyo Electron Limited | Reflecting device, communicating pipe, exhausting pump, exhaust system, method for cleaning the system, storage medium storing program for implementing the method, substrate processing apparatus, and particle capturing component |
JP2007046461A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
-
2006
- 2006-12-07 JP JP2006330814A patent/JP5250201B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008144630A (ja) | 2008-06-26 |
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