JP5235627B2 - Multiple wiring board - Google Patents

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本発明は、広面積の母基板中に各々が半導体素子や水晶振動子等の電子部品を搭載するための小型の配線基板となる多数の配線基板領域を縦横の並びに配列してなる多数個取り配線基板に関するものである。   In the present invention, a large number of wiring board regions, each of which is a small wiring board for mounting electronic components such as semiconductor elements and crystal resonators, are arranged in a vertical and horizontal arrangement on a large-area mother board. The present invention relates to a wiring board.

従来、例えば半導体素子や水晶振動子等の電子部品を搭載して電子装置を作製するために用いられる配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスからなる四角平板状のセラミック絶縁層を複数層、上下に積層し、その積層体の表面に電子部品と電気的に接続される配線導体を設けた構造である。   2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a wiring board used for manufacturing an electronic device by mounting an electronic component such as a semiconductor element or a crystal resonator has a plurality of rectangular plate-like ceramic insulating layers made of ceramics such as an aluminum oxide sintered body. It is a structure in which wiring conductors that are stacked in layers and are electrically connected to electronic components are provided on the surface of the stacked body.

このような配線基板は、近年の電子装置の小型化に伴い、その大きさが数mm角程度の極めて小さなものとなってきている。そして、このような小さな配線基板および電子装置の作製を効率よく行なうために、1枚のセラミック材料等からなる母基板から多数個の配線基板を得るようにした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で配線基板や電子装置が作製されている。   Such a wiring board has become extremely small with a size of several millimeters square with the recent miniaturization of electronic devices. In order to efficiently produce such a small wiring board and electronic device, a so-called multi-cavity wiring board configuration in which a large number of wiring boards are obtained from a single mother board made of a ceramic material or the like. Wiring boards and electronic devices are manufactured.

従来の多数個取り配線基板の一例を図7に示す。図7(a)は従来の多数個取り配線基板の一例を示す断面図であり、図7(b)は(a)のP2部分を拡大して示す要部拡大断面図であり、図7(c)は(a)の要部を拡大して示す要部拡大平面図である。なお、図7(c)においては、後述する配線導体およびめっき用接続導体を見やすくするために、これらを覆う母基板の一部をカットして示している。   An example of a conventional multi-piece wiring board is shown in FIG. FIG. 7A is a cross-sectional view showing an example of a conventional multi-cavity wiring board, and FIG. 7B is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an enlarged P2 portion of FIG. c) is an enlarged plan view of the main part of the main part of FIG. In FIG. 7C, in order to make the wiring conductor and the plating connecting conductor described later easier to see, a part of the mother board covering them is shown cut.

この多数個取り配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体等の絶縁材料からなる四角板状の母基板21に複数の配線基板領域22が縦横の並びに配列され、各配線基板領域22(配線基板)の上面に電子部品(図示せず)を収容するための凹部26が形成されている。この凹部26の内側からそれぞれの配線基板領域22の下面にかけて配線導体23が形成されている。配線導体23は、例えば、タングステンやモリブデン,マンガン,銅,銀,パラジウム,金等の金属材料からなるものであり、タングステン等の金属の微粒子とバインダとからなる金属ペーストをスクリーン印刷法等でセラミック絶縁層となるグリーンシートに印刷した後、高温で焼成して導電性の金属膜としたものである。   In this multi-piece wiring board, a plurality of wiring board regions 22 are arranged in a vertical and horizontal arrangement on a square plate-like mother board 21 made of an insulating material such as an aluminum oxide sintered body, and each wiring board area 22 (wiring board) A recess 26 for accommodating an electronic component (not shown) is formed on the upper surface. A wiring conductor 23 is formed from the inside of the recess 26 to the lower surface of each wiring board region 22. The wiring conductor 23 is made of a metal material such as tungsten, molybdenum, manganese, copper, silver, palladium, or gold. For example, a metal paste made of a metal fine particle of tungsten or the like and a binder is made by a screen printing method or the like. After printing on a green sheet to be an insulating layer, it is fired at a high temperature to form a conductive metal film.

そして、凹部26の底面に電子部品(図示せず)を搭載固定するとともに電子部品の電極をボンディングワイヤや半田等の導電性の接続材を介して凹部26内の配線導体23に電気的に接続し、しかる後、配線基板領域22の上面の凹部26を蓋体や封止樹脂等の材料(図示せず)で封止することによって、電子装置となる領域が母基板21に多数個作製される。   Then, an electronic component (not shown) is mounted and fixed on the bottom surface of the recess 26, and the electrode of the electronic component is electrically connected to the wiring conductor 23 in the recess 26 via a conductive connecting material such as a bonding wire or solder. Thereafter, the recesses 26 on the upper surface of the wiring board region 22 are sealed with a material (not shown) such as a lid or a sealing resin, so that a large number of regions serving as electronic devices are produced on the mother board 21. The

なお、かかる多数個取り配線基板の凹部26の底面や下面等の表面に形成された配線導体23には、配線導体23が酸化腐食するのを防止するとともに、配線導体23と電子部品の各電極との電気的接続性を良好なものとするために、その露出する表面にニッケルや金等からなるめっき金属層が電解めっき法により被着されている。   In addition, the wiring conductor 23 formed on the surface such as the bottom surface or the lower surface of the recess 26 of the multi-cavity wiring board prevents the wiring conductor 23 from being oxidatively corroded, and the wiring conductor 23 and each electrode of the electronic component. In order to improve the electrical connectivity to the surface, a plated metal layer made of nickel, gold or the like is applied to the exposed surface by an electrolytic plating method.

この電解めっき法によるめっき金属層の被着のために、隣接する配線基板領域22に形成された配線導体23同士を電気的に接続させるためのめっき用接続導体24が、配線基板領域22の境界27を越えて形成されている。めっき用接続導体24は、セラミック絶縁層の層間において配線導体23との接続が容易にできるように、また、分割後の個片の配線基板において不要となるめっき用接続導体24にめっきが被着されないようにするために、通常、配線基板領域22の内部(母基板21を構成するセラミック絶縁層(符号なし)の層間)に形成されている。   In order to deposit the plated metal layer by this electrolytic plating method, the plating connection conductor 24 for electrically connecting the wiring conductors 23 formed in the adjacent wiring board regions 22 is provided at the boundary of the wiring board region 22. Formed beyond 27. The plating connection conductor 24 can be easily connected to the wiring conductor 23 between the layers of the ceramic insulating layer, and the plating is applied to the plating connection conductor 24 which is not required in the divided wiring board. In order to prevent this from occurring, it is usually formed inside the wiring board region 22 (between the ceramic insulating layers (no symbol) constituting the mother board 21).

めっき用接続導体24は、例えば、一部が母基板21の外周部分に露出するように形成されており、この露出部分にめっき用治具の端子を接続し、めっき用端子を介して外部の電源から電流をめっき用接続導体24および配線導体23に供給することにより電解めっきが行なわれる。この場合、各配線基板領域22の配線導体23同士が順次めっき用接続導体24を介して電気的に接続されているので、めっき用接続導体24の一部に電流を供給することにより、各配線基板領域22の配線導体23に同時にめっき金属層を被着させることが可能となる。   The plating connection conductor 24 is formed, for example, so that a part thereof is exposed to the outer peripheral portion of the mother board 21, and a terminal of a plating jig is connected to the exposed portion, and an external connection is made via the plating terminal. Electrolytic plating is performed by supplying current from the power source to the connecting conductor 24 for plating and the wiring conductor 23. In this case, since the wiring conductors 23 of each wiring board region 22 are sequentially electrically connected via the connecting conductor 24 for plating, by supplying a current to a part of the connecting conductor 24 for plating, A plated metal layer can be applied to the wiring conductor 23 in the substrate region 22 at the same time.

なお、母基板21の主面(上面や下面)には、配線基板領域22の境界27に分割溝25が形成されており、この分割溝25において母基板21の分割が行なわれる。すなわち、分割溝25に沿って母基板21をたわませるように応力を加え、上面側の分割溝25(または下面側の分割溝25)の先端部から対向する下面側の分割溝25(または上面側の分割溝25)の先端部にかけて、母基板21の厚み方向に亀裂を進行させて破断させることにより母基板21が分割される。
特開2006−24878号公報
A dividing groove 25 is formed on the main surface (upper surface and lower surface) of the mother board 21 at the boundary 27 of the wiring board region 22, and the mother board 21 is divided in the dividing groove 25. That is, stress is applied so that the mother substrate 21 is bent along the dividing groove 25, and the dividing groove 25 (or the lower surface) facing the tip of the dividing groove 25 on the upper surface side (or the dividing groove 25 on the lower surface side) (or The mother substrate 21 is divided by causing a crack to advance in the thickness direction of the mother substrate 21 and breaking it toward the front end portion of the dividing groove 25) on the upper surface side.
JP 2006-24878

しかしながら、このような多数個取り配線基板においては、母基板を分割溝に沿って分割する際に、めっき用接続導体のうち配線基板領域の境界部分(つまり、母基板の破断に伴い破断する部分)において、境界から配線基板領域の内部に例えば数十μm程度入り込んだ部分での破断(いわゆるえぐれ)が発生するという問題があった。これは、母基板をたわませて分割する(厚み方向に破断させる)際に生じる応力が配線基板領域内のめっき用接続導体に作用して、この部分でめっき用接続導体に破断が生じることによる。   However, in such a multi-cavity wiring board, when the mother board is divided along the dividing groove, the boundary part of the wiring board region of the plating connection conductor (that is, the part that breaks when the mother board breaks) ), There is a problem that breakage (so-called erosion) occurs at a portion that enters, for example, several tens of μm from the boundary into the inside of the wiring board region. This is because the stress generated when the mother board is bent and split (broken in the thickness direction) acts on the plating connection conductor in the wiring board region, and the plating connection conductor breaks at this portion. by.

特に、近年、配線基板の小型化、特に薄型化に伴い、上記問題の発生が顕著なものとなってきている。   In particular, with the recent miniaturization of wiring boards, particularly the reduction in thickness, the occurrence of the above problems has become remarkable.

すなわち、配線基板の小型化、特に薄型化が進んだ場合には、母基板の厚みに対してめっき用接続導体の厚みの割合が相対的に大きくなる。例えば、セラミック絶縁層の積層数が同じときに、1層当たりの厚みが100μmのセラミック絶縁層に厚みが18μmのめっき用接続導体を形成するよりも、1層当たりの厚みが50μmのセラミック絶縁層に厚みが18μmのめっき用接続導体を形成する方が、セラミック絶縁層(母基板)の厚みに対するめっき用接続導体の厚みの割合が高くなる。そのため、母基板を分割する(破断させる)際に生じる応力についてめっき用接続導体に作用する割合が大きくなり、その応力によりえぐれが発生しやすくなる。   That is, when the wiring board is miniaturized, especially thinned, the ratio of the thickness of the connecting conductor for plating to the thickness of the mother board becomes relatively large. For example, when the number of ceramic insulating layers is the same, a ceramic insulating layer having a thickness of 50 μm per layer is formed rather than forming a connecting conductor for plating having a thickness of 18 μm on a ceramic insulating layer having a thickness of 100 μm per layer. The thickness of the connecting conductor for plating with respect to the thickness of the ceramic insulating layer (mother substrate) is higher when the connecting conductor for plating having a thickness of 18 μm is formed on the substrate. Therefore, the ratio of the stress generated when the mother substrate is divided (broken) to the plating connecting conductor is increased, and the stress tends to occur.

なお、めっき用接続導体にえぐれが発生した場合には、例えば、個片の配線基板において露出する側面にえぐれが欠陥となって残るため、配線基板としての信頼性(気密封止や耐食性等)の劣化や、外観不良等の不具合を生じる可能性がある。   In addition, when a chipping occurs in the plating connecting conductor, for example, the chipping remains on the exposed side surface of the individual wiring board, so that the reliability as the wiring board (eg, airtight sealing and corrosion resistance) There is a possibility that problems such as deterioration of the appearance and defective appearance may occur.

本発明は、かかる従来の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、例えば母基板の薄型化が進んだような場合でも、めっき用接続導体にえぐれが発生することを抑制して分割することが可能な多数個取り配線基板を提供することにある。   The present invention has been devised in view of such conventional problems, and the object thereof is to suppress the occurrence of burrs in the connecting conductor for plating, for example, even when the mother board is thinned. An object of the present invention is to provide a multi-piece wiring board that can be divided.

本発明の多数個取り配線基板は、複数の配線基板領域が縦横の並びに配列され、該配線基板領域の表面に配線導体を有する母基板と、前記配線基板領域の境界において前記母基板の主面に形成された分割溝と、前記母基板の内部に形成された、前記配線基板領域の境界を越えて前記配線導体同士を接続するめっき用接続導体とを備える多数個取り配線基板であって、前記めっき用接続導体は、前記配線基板領域の境界における厚みが、前記配線基板領域内における厚みよりも薄く、前記配線基板領域の境界における幅が前記配線基板領域内における幅よりも広いことを特徴とする。
In the multi-piece wiring board of the present invention, a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally, a mother board having a wiring conductor on the surface of the wiring board area, and a main surface of the mother board at the boundary of the wiring board area A multi-cavity wiring board comprising: a dividing groove formed in the wiring board; and a connecting conductor for plating that is formed inside the mother board and connects the wiring conductors across a boundary of the wiring board region, the plating connection conductor, the thickness at the boundary of the wiring substrate area, the wiring rather thin than the thickness of the substrate region, said wiring wider than the width in the width of the boundary is the wiring board in the region of the substrate region Ikoto It is characterized by.

また、本発明の多数個取り配線基板は、上記構成において、隣り合う前記配線基板領域の配線導体同士が、前記配線基板領域の境界において前記母基板の厚み方向の異なる位置に配置された複数のめっき用接続導体により接続されていることを特徴とする。   Further, the multi-cavity wiring board of the present invention, in the above configuration, a plurality of wiring conductors in adjacent wiring board regions are arranged at different positions in the thickness direction of the mother board at the boundary of the wiring board region. It is connected by a connecting conductor for plating.

また、本発明の多数個取り配線基板は、上記各構成において、前記配線基板領域の主面に凹部が設けられており、前記めっき用接続導体が、側面視で前記凹部の底面より下方に配置されていることを特徴とする。   In the multi-piece wiring board of the present invention, in each of the above configurations, the main surface of the wiring board region is provided with a recess, and the connection conductor for plating is disposed below the bottom surface of the recess in a side view. It is characterized by being.

本発明の多数個取り配線基板によれば、めっき用接続導体は、配線基板領域の境界における厚みが、配線基板領域内における厚みよりも薄いことから、母基板が分割される分割溝部分において、母基板の厚みに対してめっき用接続導体の厚みが大きくなることが抑制される。つまり、母基板を分割溝に沿って分割する(破断させる)際に、めっき用接続導体は、比較的薄く形成された部分において破断される。   According to the multi-cavity wiring board of the present invention, the connecting conductor for plating is thinner at the boundary of the wiring board region than the thickness within the wiring board region. An increase in the thickness of the plating connection conductor with respect to the thickness of the mother board is suppressed. That is, when the mother substrate is divided (broken) along the dividing groove, the plating connection conductor is broken at the portion formed relatively thin.

そのため、母基板を分割する際に、めっき用接続導体に作用する応力が抑制され、めっき用接続導体のうち配線基板領域の境界から配線基板領域内に入り込んだ部分において破断が生じることが抑制される。よって、めっき用接続導体にえぐれが発生することを抑制して分割することが可能な多数個取り配線基板を提供することができる。   Therefore, when the mother board is divided, the stress acting on the plating connection conductor is suppressed, and the occurrence of breakage in the portion of the plating connection conductor that enters the wiring board area from the boundary of the wiring board area is suppressed. The Therefore, it is possible to provide a multi-piece wiring board that can be divided while suppressing the occurrence of erosion in the connection conductor for plating.

また、本発明の多数個取り配線基板によれば、めっき用接続導体は、配線基板領域の境界における幅が、配線基板領域内における幅よりも広い場合には、配線基板領域の境界においてめっき用接続導体の厚みを薄くしたとしても、幅を広くした分、めっき用接続導体のめっき用の電流の経路としての断面積の減少を抑えることができる。そのため、めっき用接続導体を介して配線導体に供給されるめっき用の電流に対する抵抗の増加を抑制することができ、十分な電流を配線導体に供給することができる。   Further, according to the multi-cavity wiring board of the present invention, the connecting conductor for plating is for plating at the boundary of the wiring board area when the width at the boundary of the wiring board area is wider than the width in the wiring board area. Even if the thickness of the connection conductor is reduced, it is possible to suppress a reduction in the cross-sectional area as a current path for plating of the connection conductor for plating, as the width is increased. Therefore, an increase in resistance to the plating current supplied to the wiring conductor via the plating connection conductor can be suppressed, and a sufficient current can be supplied to the wiring conductor.

したがって、めっき用接続導体にえぐれが発生することを抑制することができるとともに、配線導体に所定の厚さでめっき金属層を被着させることが容易な多数個取り配線基板とすることができる。   Therefore, it is possible to suppress the occurrence of chipping in the plating connection conductor, and it is possible to provide a multi-piece wiring board in which it is easy to deposit the plating metal layer with a predetermined thickness on the wiring conductor.

また、本発明の多数個取り配線基板によれば、隣り合う配線基板領域の配線導体同士が、配線基板領域の境界において母基板の厚み方向の異なる位置に配置された複数のめっき用接続導体により接続されている場合には、配線基板領域の境界においてめっき用接続導体の厚みを薄くしたとしても、配線導体同士が複数のめっき用接続導体で接続されているので、めっき用接続導体のめっき用の電流の経路としての断面積の減少を抑えることができる。そのため、めっき用接続導体を介して配線導体に供給されるめっき用の電流に対する抵抗の増加を抑制することができ、十分な電流を配線導体に供給することができる。   Further, according to the multi-cavity wiring board of the present invention, the wiring conductors in the adjacent wiring board regions are connected to each other by a plurality of plating connection conductors arranged at different positions in the thickness direction of the mother board at the boundary of the wiring board regions. When connected, even if the thickness of the connecting conductor for plating is reduced at the boundary of the wiring board region, the wiring conductors are connected by a plurality of connecting conductors for plating. The reduction of the cross-sectional area as the current path can be suppressed. Therefore, an increase in resistance to the plating current supplied to the wiring conductor via the plating connection conductor can be suppressed, and a sufficient current can be supplied to the wiring conductor.

また、本発明の多数個取り配線基板によれば、配線基板領域の主面に凹部が設けられており、めっき用接続導体が、側面視で凹部の底面より下方に配置されている場合には、めっき用接続導体により、母基板のうち凹部を取り囲む部分における機械的強度が低下することを抑制できる。そのため、母基板を分割溝に沿って分割する際に、母基板(特に凹部を取り囲む部分)に機械的な破壊が生じることをより効果的に抑制しながら、めっき用接続導体にえぐれが発生することを抑制することができる。   Further, according to the multi-cavity wiring board of the present invention, when the concave portion is provided on the main surface of the wiring board region, and the plating connection conductor is disposed below the bottom surface of the concave portion in a side view, By means of the plating connection conductor, it is possible to suppress a decrease in mechanical strength in the portion of the mother board surrounding the recess. For this reason, when the mother board is divided along the dividing groove, the plating connection conductor is squeezed while more effectively preventing mechanical breakage from occurring in the mother board (particularly the portion surrounding the recess). This can be suppressed.

次に、本発明の多数個取り配線基板を添付の図面を参照しつつ詳細に説明する。図1(a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す断面図であり、図1(b)は(a)のP1部分を拡大して示す要部拡大断面図であり、図1(c)は(a)に示す多数個取り配線基板を平面視したときの要部を示す要部拡大平面図である。これらの図において、11は母基板、12は配線基板領域、13は配線導体、14はめっき用接続導体、15は母基板11を分割するための分割溝、16は電子部品(図示せず)を搭載し収容するための凹部、17は配線基板領域12の境界である。なお、図1(c)においては、配線導体13およびめっき用接続導体14の要部を見やすくするために、これらを覆う母基板11の一部をカットして示している。   Next, the multi-piece wiring board of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a multi-piece wiring board according to the present invention, and FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an enlarged P1 portion of FIG. FIG. 1C is a main part enlarged plan view showing a main part when the multi-piece wiring board shown in FIG. In these drawings, 11 is a mother board, 12 is a wiring board area, 13 is a wiring conductor, 14 is a connecting conductor for plating, 15 is a dividing groove for dividing the mother board 11, and 16 is an electronic component (not shown). A recess 17 for mounting and accommodating the wiring board 17 is a boundary of the wiring board region 12. In FIG. 1C, in order to make it easy to see the main parts of the wiring conductor 13 and the connecting conductor 14 for plating, a part of the mother board 11 covering them is shown.

母基板11は、例えば酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,ガラスセラミックス等のセラミック材料からなる複数のセラミック絶縁層(符号なし)が積層されて形成されている。また、母基板11には、それぞれが個片の配線基板(図示せず)となる配線基板領域12が縦横の並びに配列されている。図1に示す例において、配線基板領域12の上面には、電子部品を収容するための凹部16が形成されている。   The mother substrate 11 is formed by laminating a plurality of ceramic insulating layers (not shown) made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, and a glass ceramic. Yes. Further, on the mother board 11, wiring board regions 12 each serving as an individual wiring board (not shown) are arranged vertically and horizontally. In the example shown in FIG. 1, a recess 16 for accommodating an electronic component is formed on the upper surface of the wiring board region 12.

この凹部16は、凹部16の底面(符合なし)となる部分が上面に縦横の並びに配列された平板状の基部19と、この基部19の上面に積層された、それぞれが凹部16の底面を取り囲む側壁部分(符号なし)となる複数の枠状部が縦横の並びに配列されてなる枠部18とにより形成されている。   The concave portion 16 includes a flat plate-like base portion 19 in which a portion that becomes the bottom surface (without a sign) of the concave portion 16 is arranged vertically and horizontally on the top surface, and is laminated on the top surface of the base portion 19, each surrounding the bottom surface of the concave portion 16. A plurality of frame-like portions serving as side wall portions (without reference numerals) are formed by a frame portion 18 that is arranged vertically and horizontally.

母基板11は、例えば、各セラミック絶縁層が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化カルシウム等の原料粉末を有機溶剤,バインダ等とともにシート状に成形して複数のセラミックグリーンシート(グリーンシート)を得て、このグリーンシートの所定位置に凹部16となるような打ち抜き加工を施した後、打ち抜き加工を施したグリーンシートが上層になるように上下に積層し、焼成することにより作製される。積層されたグリーンシートのそれぞれが、焼成後に、母基板11のセラミック絶縁層になる。   For example, when each ceramic insulating layer is made of an aluminum oxide sintered body, the mother substrate 11 is formed by forming raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, and calcium oxide into a sheet shape together with an organic solvent, a binder, and the like. After obtaining a plurality of ceramic green sheets (green sheets) and punching them into the recesses 16 at predetermined positions on the green sheets, the green sheets that have been punched are stacked one above the other It is produced by firing. Each of the laminated green sheets becomes a ceramic insulating layer of the mother substrate 11 after firing.

なお、グリーンシートを焼成して得られる、母基板11を構成するセラミック絶縁層の厚みは、例えば酸化アルミニウム質焼結体やガラスセラミックスの場合において50〜300μm程度である。   In addition, the thickness of the ceramic insulating layer which comprises the mother board | substrate 11 obtained by baking a green sheet is about 50-300 micrometers in the case of an aluminum oxide sintered body and glass ceramics, for example.

母基板11には、それぞれが個片の配線基板となる配線基板領域12が縦横の並びに配列されている。また、この図1に示す例においては、母基板11の外周部に、配線基板領域12を取り囲む枠状の捨て代領域(符号なし)が設けられている。捨て代領域は、例えば多数個取り配線基板の取り扱いを容易とすること等のために設けられている。   On the mother board 11, wiring board regions 12 each serving as an individual wiring board are arranged vertically and horizontally. Further, in the example shown in FIG. 1, a frame-shaped discard margin region (no reference numeral) surrounding the wiring substrate region 12 is provided on the outer peripheral portion of the mother substrate 11. The disposal allowance area is provided, for example, to facilitate handling of a multi-piece wiring board.

各々の配線基板領域12の表面(図1に示す例では上面および下面)には配線導体13が形成されている。この配線導体13は、配線基板領域12の上面の一部である凹部16の内側から配線基板領域12の下面にかけて電気的に導出するように形成されており、凹部16の内側に形成された部位に、電子部品がボンディングワイヤやはんだ等の導電性の接続材(図示せず)を介して電気的に接続される。   A wiring conductor 13 is formed on the surface (upper surface and lower surface in the example shown in FIG. 1) of each wiring board region 12. The wiring conductor 13 is formed so as to be electrically led out from the inside of the recess 16 which is a part of the upper surface of the wiring board region 12 to the lower surface of the wiring board region 12, and the portion formed inside the recess 16 In addition, the electronic component is electrically connected through a conductive connecting material (not shown) such as a bonding wire or solder.

なお、配線導体13のうち配線基板領域12の上面に形成された部分と下面に形成された部分との間には、両者を電気的に接続するために、配線導体13の一部としてセラミック絶縁層を厚み方向に貫通する貫通導体(図示せず)等が配置されている。   In addition, between the portion formed on the upper surface of the wiring board region 12 and the portion formed on the lower surface of the wiring conductor 13, ceramic insulation is used as a part of the wiring conductor 13 in order to electrically connect the two. A through conductor (not shown) or the like penetrating the layer in the thickness direction is disposed.

配線導体13は、個片の配線基板において、凹部16に収容される電子部品と電気的に接続され、この電子部品を外部電気回路(図示せず)に電気的に接続する導電路として機能する。配線導体13の外部電気回路に対する電気的な接続は、例えば、電子部品と電気的に接続された配線導体13のうち配線基板(配線基板領域12)の下面に形成された部分を、外部電気回路に錫−鉛系はんだや錫−銀系はんだ等のはんだを介して接合することにより行なわれる。   The wiring conductor 13 is electrically connected to the electronic component housed in the recess 16 in the individual wiring board, and functions as a conductive path that electrically connects the electronic component to an external electric circuit (not shown). . For example, the electrical connection of the wiring conductor 13 to the external electric circuit is performed by, for example, replacing the portion formed on the lower surface of the wiring board (wiring board region 12) of the wiring conductor 13 electrically connected to the electronic component with the external electric circuit. It is carried out by joining them with solder such as tin-lead solder or tin-silver solder.

配線導体13の露出する表面には、酸化腐食の防止や、ボンディングワイヤのボンディング性,はんだの濡れ性等の特性の向上のために、ニッケルや金,パラジウム,銅等のめっき金属層(図示せず)が被着される。めっき金属層の被着は、めっき金属層としての特性を安定させることが容易であることや、生産性,経済性が良好であることから、電解めっき法により行なわれる。   On the exposed surface of the wiring conductor 13, a plated metal layer (not shown) such as nickel, gold, palladium, or copper is used to prevent oxidative corrosion, improve bonding wire bonding properties, solder wettability, and other characteristics. ) Is deposited. The plating metal layer is deposited by electrolytic plating because it is easy to stabilize the characteristics of the plating metal layer and the productivity and economy are good.

なお、このようなめっき金属層は、例えば、配線導体13がタングステンやモリブデン,マンガンまたは銅からなる場合に、順次被着された、厚さが約2〜12μmのニッケルめっき層と、厚さが約0.5〜2μmの金めっき層とにより構成される。また、これらのめっき層に加えてパラジウムめっき層や銅めっき層等をニッケルめっき層と金めっき層との間に介在させたり、ニッケルめっき層等に熱処理を施したりする場合もある。   Such a plated metal layer includes, for example, a nickel plating layer having a thickness of about 2 to 12 μm, which is sequentially deposited when the wiring conductor 13 is made of tungsten, molybdenum, manganese, or copper, and a thickness of It is comprised by about 0.5-2 micrometers gold plating layer. In addition to these plating layers, a palladium plating layer, a copper plating layer, or the like may be interposed between the nickel plating layer and the gold plating layer, or a heat treatment may be performed on the nickel plating layer or the like.

また、多数個取り配線基板は、配線基板領域12の境界17を越えて配線導体13同士を接続するめっき用接続導体14を備えている。めっき用接続導体14は、複数の配線基板領域12の配線導体13同士を互いに電気的に接続させて、複数の配線基板領域12の配線導体13にまとめて電解めっき法によりめっき金属層を被着させるためのものである。   Further, the multi-piece wiring board includes a plating connecting conductor 14 that connects the wiring conductors 13 beyond the boundary 17 of the wiring board region 12. The connecting conductors 14 for plating electrically connect the wiring conductors 13 of the plurality of wiring board regions 12 to each other, and collectively apply the plating metal layer to the wiring conductors 13 of the plurality of wiring board regions 12 by electrolytic plating. It is for making it happen.

すなわち、めっき用接続導体14を介して、複数の配線基板領域12の間で配線導体13同士が互いに電気的に接続されているので、例えば、めっき用接続導体14の一部を多数個取り配線基板の外周部分(捨て代領域)等に引き出して、この引き出した部分に外部の電源からめっき用の治具(いわゆるラック等)を介して電流を供給することにより、複数の配線基板領域12の配線導体13にまとめてめっき用の電流を供給することができる。   That is, since the wiring conductors 13 are electrically connected to each other between the plurality of wiring board regions 12 via the plating connection conductors 14, for example, a large number of parts of the plating connection conductors 14 are wired. By pulling out to the outer peripheral part (discarding area) etc. of the substrate and supplying current to the drawn part from an external power source through a jig for plating (so-called rack etc.) A current for plating can be supplied to the wiring conductors 13 together.

めっき用接続導体14は、セラミック絶縁層の層間において配線導体13との接続が容易にできるように、また、分割後の個片の配線基板において不要となるめっき用接続導体14にめっきが被着されないようにすること等のために、母基板11の内部(母基板11を構成するセラミック絶縁層の層間)に形成されている。   The plating connection conductor 14 can be easily connected to the wiring conductor 13 between the layers of the ceramic insulating layer, and the plating is applied to the plating connection conductor 14 which is not required in the divided wiring board. In order to prevent this, etc., it is formed inside the mother board 11 (between the ceramic insulating layers constituting the mother board 11).

これらの配線導体13およびめっき用接続導体14は、タングステンやモリブデン,銅,銀等の金属材料からなり、例えば、あらかじめ母基板11となるグリーンシートの各配線基板領域12の所定位置に複数の貫通孔を形成しておき、タングステン等の金属ペーストをグリーンシートの表面および貫通孔内にスクリーン印刷法等で印刷塗布または充填することにより形成される。   These wiring conductors 13 and plating connection conductors 14 are made of a metal material such as tungsten, molybdenum, copper, or silver. For example, a plurality of through holes are provided at predetermined positions in each wiring board region 12 of the green sheet that becomes the mother board 11 in advance. A hole is formed in advance, and a metal paste such as tungsten is formed by applying or filling the surface of the green sheet and the through hole by screen printing or the like.

金属ペーストは、金属(例えばタングステン)の微粒子とバインダとの混合物を混練することにより作製される。この金属ペーストをセラミック絶縁層となるグリーンシートに印刷塗布または充填した後、高温で焼成することにより配線導体13やめっき用接続導体14が形成される。なお、金属微粒子は、例えば、形状が、球状,フレーク状,突起状または不定形であり、平均粒径が数μm程度である。   The metal paste is produced by kneading a mixture of metal (for example, tungsten) fine particles and a binder. After this metal paste is printed or applied to a green sheet serving as a ceramic insulating layer, the wiring conductor 13 and the connecting conductor 14 for plating are formed by firing at a high temperature. The metal fine particles have, for example, a spherical shape, a flake shape, a protrusion shape, or an indeterminate shape, and an average particle diameter of about several μm.

また、母基板11は、各配線基板領域12の境界17(配線基板領域12同士の間および配線基板領域12と捨て代領域との間)に沿って分割溝15が形成されており、この分割溝15に沿って母基板11を分割することにより、各配線基板領域12が個片の配線基板となる。   Further, the mother board 11 has dividing grooves 15 formed along the boundaries 17 between the wiring board areas 12 (between the wiring board areas 12 and between the wiring board area 12 and the disposal margin area). By dividing the mother board 11 along the grooves 15, each wiring board region 12 becomes a piece of wiring board.

分割溝15は、図1に示す例においては、母基板11の上下面に、それぞれ平面視で同じ位置となるように(上下で向かい合って)形成されて、母基板11の分割溝15部分における分割(破断)をより容易なものとしている。また、この分割溝15は、母基板11を分割するための応力を効果的にその先端部に集中させて亀裂の発生を容易とするために、V字状の縦断面形状である。このような分割溝15は、母基板11となるグリーンシートの積層体の上面および下面に、配線基板領域12の境界17に沿って、縦断面形状がV字状のカッター刃を切り込ませること等により形成される。この場合、分割溝15の深さは、カッター刃の切り込み深さにより調整することができる。また、分割溝15の先端部(底部)の角度は、カッター刃の先端部の角度(カッター刃の両側面のなす角度)により調整することができる。   In the example shown in FIG. 1, the dividing grooves 15 are formed on the upper and lower surfaces of the mother substrate 11 so as to be at the same position in plan view (facing each other vertically), and in the dividing groove 15 portion of the mother substrate 11. Dividing (breaking) is made easier. Further, the dividing groove 15 has a V-shaped vertical cross-sectional shape in order to effectively concentrate the stress for dividing the mother substrate 11 at the tip thereof and to easily generate a crack. Such a dividing groove 15 is formed by cutting a cutter blade having a V-shaped longitudinal section along the boundary 17 of the wiring board region 12 on the upper surface and the lower surface of the green sheet laminate as the mother substrate 11. Etc. are formed. In this case, the depth of the dividing groove 15 can be adjusted by the cutting depth of the cutter blade. In addition, the angle of the tip (bottom) of the dividing groove 15 can be adjusted by the angle of the tip of the cutter blade (angle formed by both side surfaces of the cutter blade).

本発明の多数個取り配線基板において、めっき用接続導体14は、配線基板領域12の境界17における厚みが、配線基板領域12内における厚みよりも薄い。これにより、母基板11が分割される分割溝15部分において、母基板11の厚みに対してめっき用接続導体14の厚みが大きくなることが抑制される。つまり、母基板11を分割溝15に沿って分割する際に、めっき用接続導体14は、比較的薄く形成された部分において破断されることになる。   In the multi-cavity wiring board of the present invention, the thickness of the connection conductor 14 for plating at the boundary 17 of the wiring board region 12 is smaller than the thickness within the wiring board region 12. This suppresses the thickness of the plating connection conductor 14 from being increased relative to the thickness of the mother substrate 11 in the dividing groove 15 where the mother substrate 11 is divided. That is, when the mother substrate 11 is divided along the dividing groove 15, the plating connecting conductor 14 is broken at a portion formed relatively thin.

そのため、母基板11を分割する(破断させる)際に、めっき用接続導体14に作用する応力が抑制され、めっき用接続導体14のうち配線基板領域12の境界17から配線基板領域12内に入り込んだ部分において破断が生るようなことが抑制される。よって、めっき用接続導体14にえぐれが発生することを抑制して分割することが可能な多数個取り配線基板を提供することができる。   For this reason, when the mother board 11 is divided (broken), the stress acting on the plating connection conductor 14 is suppressed, and the plating connection conductor 14 enters the wiring board area 12 from the boundary 17 of the wiring board area 12. It is possible to prevent breakage from occurring in the portion. Therefore, it is possible to provide a multi-piece wiring board that can be divided while suppressing the occurrence of erosion in the connection conductor 14 for plating.

ここで、めっき用接続導体14となる金属ペーストは、内部に金属微粒子の凝集や分散不良が生じる可能性があるため、高温で焼成した際に金属微粒子の焼結密度が低い部分が生じる可能性がある。金属微粒子の焼結密度が低い部分は、応力が作用したときに破断の起点となりやすいので、このような部分がめっき用接続導体14のうち配線基板領域12の境界17から配線基板領域12内に入り込んだ部分に存在し、これに大きな応力が作用したときに、めっき用接続導体14にえぐれが発生しやすくなる。これに対して、めっき用接続導体14の配線基板領域12の境界17における厚みが、配線基板領域12内における厚みよりも薄いことにより、めっき用接続導体14について、分割溝15が形成された部分である配線基板領域12の境界17において破断されやすくなる。そのため、配線基板領域12内においてめっき用接続導体14に大きな応力が作用することが抑制され、この応力によるめっき用接続導体14のえぐれの発生が抑制される。   Here, the metal paste used as the connecting conductor 14 for plating may cause aggregation and dispersion failure of the metal fine particles inside, so there is a possibility that a portion with a low sintered density of the metal fine particles may occur when fired at a high temperature. There is. Since the portion where the sintered density of the metal fine particles is low tends to be a starting point of breakage when stress is applied, such a portion enters the wiring substrate region 12 from the boundary 17 of the wiring substrate region 12 in the connecting conductor 14 for plating. When a large stress is applied to the portion where it enters, the connecting conductor 14 for plating tends to be eroded. In contrast, the thickness of the connecting conductor 14 for plating 14 at the boundary 17 of the wiring board region 12 is thinner than the thickness in the wiring board region 12, so that the part where the dividing groove 15 is formed in the connecting conductor 14 for plating It tends to be broken at the boundary 17 of the wiring board region 12. Therefore, it is possible to suppress a large stress from acting on the plating connection conductor 14 in the wiring board region 12, and to prevent the plating connection conductor 14 from being ground due to the stress.

なお、めっき用接続導体14の厚みは、ちょうど配線基板領域12の境界17に相当する線状の部分だけではなく、この境界17からそれに隣接する部分にかけて、一定の幅(例えば、分割溝15の開口面の幅程度)で薄くなるようにしている。このようにしておけば、母基板11の実際に破断される部位が配線基板領域12の境界17から配線基板領域12内に多少ずれたとしても、母基板11の分割時にめっき用接続導体14にえぐれが発生することを効果的に防止することができる。   Note that the thickness of the connecting conductor for plating 14 is not limited to a linear portion corresponding to the boundary 17 of the wiring board region 12 but also has a certain width (for example, the dividing groove 15) from the boundary 17 to the adjacent portion. It is designed to be thin with a width of the opening surface. In this way, even if the part of the mother board 11 that is actually broken is slightly displaced from the boundary 17 of the wiring board area 12 into the wiring board area 12, the connecting conductor 14 for plating is divided when the mother board 11 is divided. It is possible to effectively prevent the occurrence of stagnation.

配線基板領域12の境界17におけるめっき用接続導体14の厚みを配線基板領域12内における厚みよりも薄くするには、例えば、グリーンシートの配線基板領域12内に配線導体13およびめっき用接続導体14の一部となる金属ペーストを、境界17を除く位置にスクリーン印刷法等で印刷塗布しておき、その後、境界17に、配線基板領域12に印刷した金属ペーストよりも厚みが薄くなるように、めっき用接続導体14となる金属ペーストを印刷するようにすればよい。   In order to make the thickness of the plating connection conductor 14 at the boundary 17 of the wiring board region 12 thinner than the thickness in the wiring board region 12, for example, the wiring conductor 13 and the plating connection conductor 14 in the wiring board region 12 of the green sheet. The metal paste that becomes a part of the above is printed and applied to the position excluding the boundary 17 by a screen printing method or the like, and then the boundary 17 is thinner than the metal paste printed on the wiring board region 12, What is necessary is just to print the metal paste used as the connection conductor 14 for plating.

この他の方法としては、配線基板領域12の境界17を含めて同じ程度の厚みでめっき用接続導体14となる金属ペーストを印刷しておき、境界17においてその金属ペーストを局所的に加圧して厚みを薄くする等の方法を挙げることができる。   As another method, a metal paste to be the plating connection conductor 14 is printed with the same thickness including the boundary 17 of the wiring board region 12, and the metal paste is locally pressed at the boundary 17. Examples thereof include a method of reducing the thickness.

なお、配線導体13の厚みは、例えば、図1に示したように、母基板11が酸化アルミニウム質焼結体からなる3層のセラミック絶縁層が積層されてなり、配線導体13がタングステンまたはモリブデンからなる場合であれば、電子部品と外部電気回路との間の電気的な接続における抵抗を低く抑えること等のために、15〜25μm程度とされている。また、これに合わせて、めっき用接続導体14の配線基板領域12内における厚みも15〜25μm程度である。   For example, as shown in FIG. 1, the thickness of the wiring conductor 13 is such that the mother substrate 11 is formed by laminating three ceramic insulating layers made of an aluminum oxide sintered body, and the wiring conductor 13 is made of tungsten or molybdenum. In order to keep the resistance in electrical connection between the electronic component and the external electric circuit low, it is about 15 to 25 μm. In accordance with this, the thickness of the plating connection conductor 14 in the wiring board region 12 is also about 15 to 25 μm.

これに対して、めっき用接続導体14の配線基板領域12の境界17における厚みは、配線基板領域12内における厚みの1/3またはそれよりも少し厚い程度とすればよく、例えば、上記のような多数個取り配線基板の場合であれば約5〜10μm程度とすればよい。このようにめっき用接続導体14の厚みを比較的薄くすることにより、例えばセラミック絶縁層の厚みが約50μm程度と薄いような場合でも、母基板11の厚みに対してめっき用接続導体14の厚みの割合が大きくなることが抑制され、めっき用接続導体14にえぐれが発生することを効果的に抑制することができる。   On the other hand, the thickness of the connecting conductor 14 for plating 14 at the boundary 17 of the wiring board region 12 may be about 1/3 of the thickness in the wiring board region 12 or slightly thicker. For example, as described above In the case of such a multi-piece wiring board, it may be about 5 to 10 μm. Thus, by making the thickness of the plating connection conductor 14 relatively thin, for example, even when the thickness of the ceramic insulating layer is as thin as about 50 μm, the thickness of the plating connection conductor 14 with respect to the thickness of the mother substrate 11 It is possible to effectively suppress the occurrence of sag in the connecting conductor 14 for plating.

具体的に一例を挙げると、母基板11が、酸化アルミニウム質焼結体からなる厚みが50μmのセラミック絶縁層が5層積層されてなり、平面視したときの外形寸法が約45mm×45mmの正方形状である場合に、これに、外辺の寸法が約2.5mm×2mmである長方形状の配線基板領域12が15個×19個の縦横の並びに配列されているとき、タングステン(微粒子の焼結体)からなるめっき用接続導体14の厚みを、配線基板領域12内において約18〜22μm,配線基板領域12の境界17において約6〜10μmとした多数個取り配線基板では、100個(個片の配線基板として28500個)の検査においてめっき用接続導体14にえぐれの発生が認められなかった。なお、母基板11の外周部には、配線基板領域12を取り囲む枠状の捨て代領域を設け、捨て代領域と配線基板領域12との間にも分割溝15を設けておいた。また、えぐれの有無は、めっき用接続導体14の破断して露出した部分を倍率20倍に拡大して目視で確認した。   To give a specific example, the mother substrate 11 is made of five layers of ceramic insulating layers having a thickness of 50 μm made of an aluminum oxide sintered body, and is a square having an outer dimension of about 45 mm × 45 mm when viewed in plan. When the rectangular wiring board regions 12 having outer dimensions of about 2.5 mm × 2 mm are arranged in 15 × 19 vertical and horizontal arrays, tungsten (sintered fine particles) In the case of a multi-piece wiring board in which the thickness of the connecting conductor 14 for plating made of a body is about 18 to 22 μm in the wiring board region 12 and about 6 to 10 μm at the boundary 17 of the wiring board region 12, In the inspection of 28,500 wiring boards, no plating was found on the connecting conductor 14 for plating. It should be noted that a frame-shaped discard margin region surrounding the wiring substrate region 12 was provided on the outer peripheral portion of the mother substrate 11, and a dividing groove 15 was also provided between the discard margin region and the wiring substrate region 12. In addition, the presence or absence of stagnation was visually confirmed by magnifying the exposed portion of the plating connection conductor 14 by 20 times.

これに対して、他の条件が同じで、配線基板領域12の境界17におけるめっき用接続導体14の厚みを約18〜22μmとした従来技術の多数個取り配線基板では、約2%の個片の配線基板において、めっき用接続導体14にえぐれの発生が認められていた。   On the other hand, in the conventional multi-cavity wiring board in which the other conditions are the same and the thickness of the connection conductor 14 for plating at the boundary 17 of the wiring board region 12 is about 18 to 22 μm, about 2% piece In the wiring board of No. 1, it was confirmed that the plating connection conductors 14 were overgrown.

また、図1に示す例においては、めっき用接続導体14は、配線基板領域12の境界17における幅が、配線基板領域12内における幅よりも広くなるように形成されている。このように、めっき用接続導体14について、配線基板領域12の境界17における幅を、配線基板領域12内における幅よりも広くなるように形成した場合には、めっき用接続導体14の幅を広くした分、めっき用接続導体14の断面積(めっき用の電流が流れる方向である長さ方向に対して直交する縦断面の面積)の減少を抑えることができる。そのため、めっき用接続導体14を介して配線導体13に供給されるめっき用の電流に対する抵抗の増加を抑制することができる。したがって、この場合には、めっき用接続導体14にえぐれが発生することを抑制することができるとともに、配線導体13に所定の厚さでめっき金属層を被着させることがより容易な多数個取り配線基板とすることができる。   In the example shown in FIG. 1, the plating connection conductor 14 is formed so that the width at the boundary 17 of the wiring board region 12 is wider than the width within the wiring board region 12. Thus, when the connection conductor 14 for plating is formed so that the width at the boundary 17 of the wiring board region 12 is wider than the width within the wiring board region 12, the width of the connection conductor 14 for plating is increased. Accordingly, it is possible to suppress a reduction in the cross-sectional area of the plating connection conductor 14 (the area of the vertical cross section perpendicular to the length direction in which the plating current flows). Therefore, an increase in resistance to the plating current supplied to the wiring conductor 13 via the plating connection conductor 14 can be suppressed. Therefore, in this case, it is possible to suppress the occurrence of chipping in the connection conductor 14 for plating, and it is easier to deposit a plating metal layer with a predetermined thickness on the wiring conductor 13. It can be set as a wiring board.

なお、配線基板領域12の境界17におけるめっき用接続導体14の幅を広くする場合には、めっき用の電流の確保する上では、めっき用接続導体14の厚みが薄くなる程度に応じて広くして、めっき用接続導体14の断面積がほぼ一定になるようにするのがよい。例えば、めっき用接続導体14について、配線基板領域12内における厚みをaとし、幅をbとしたとき、厚みを配線基板領域12の境界17において1/3(1/3×a)にする場合には、幅を3×bに設定すれば、断面積はa×bで一定に保たれる。この場合、図1に示す例のように、めっき用接続導体14の厚みが、厚い部分から薄い部分にかけて徐々に減少しているような場合には、これに応じて幅を徐々に増加させるようにすればよい。   When the width of the plating connection conductor 14 at the boundary 17 of the wiring board region 12 is increased, the plating connection conductor 14 is increased in width in accordance with the extent to which the thickness of the plating connection conductor 14 is reduced. Thus, it is preferable that the cross-sectional area of the connecting conductor for plating 14 is substantially constant. For example, regarding the connecting conductor 14 for plating, when the thickness in the wiring board region 12 is a and the width is b, the thickness is 1/3 (1/3 × a) at the boundary 17 of the wiring board region 12 If the width is set to 3 × b, the cross-sectional area is kept constant at a × b. In this case, as in the example shown in FIG. 1, when the thickness of the connecting conductor for plating 14 is gradually decreased from the thick part to the thin part, the width is gradually increased accordingly. You can do it.

このようなめっき用接続導体14を形成するためには、例えば、前述しためっき用接続導体14となる金属ペーストの印刷の際に、厚みを薄くする部分におけるパターンの幅が所定の幅に広くなるようにした印刷用の版面を用いて印刷すればよい。   In order to form such a plating connection conductor 14, for example, when printing the metal paste to be the plating connection conductor 14 described above, the width of the pattern in the portion where the thickness is reduced is increased to a predetermined width. Printing may be performed using the printing plate as described.

なお、この実施の形態の例において、分割溝15は、母基板11の厚みに対して、母基板11の上面側の分割溝15および下面側の分割溝15の合計の深さが30〜70%程度になるように形成されている。さらに、上面側の分割溝15と下面側の分割溝15とは平面視で同じ位置となる(平面視して重なる)ように形成されている。また、上面側の分割溝15の先端部(底部)における角度が下面側の分割溝15の先端部(底部)における角度よりも小さくなるように形成されている。これは、例えば母基板11を下面側が凹となるようにたわませて、上面側の分割溝15の底部から下面側の分割溝15の底部に向かって亀裂を進行させて母基板11を分割する際に、亀裂の進行方向が下面側の分割溝15から外れることを抑制するためである。このような多数個取り配線基板においては、母基板11の厚み方向におけるめっき用接続導体14の位置は、図1(b)に示したように、上面側の分割溝15に近くなるように形成することが望ましい。これは、亀裂の起点である上面側の分割溝15の底部とめっき用接続導体14との間の距離を近くすることにより、亀裂がめっき用接続導体14の厚みを薄くした部分からずれて進行することを防止する上で有効であるためである。   In the example of this embodiment, the dividing groove 15 has a total depth of 30 to 70 with respect to the thickness of the mother substrate 11, the dividing groove 15 on the upper surface side of the mother substrate 11 and the dividing groove 15 on the lower surface side. It is formed to be about%. Further, the upper surface side dividing groove 15 and the lower surface side dividing groove 15 are formed at the same position in plan view (overlapping in plan view). Further, the angle at the tip (bottom) of the split groove 15 on the upper surface side is formed to be smaller than the angle at the tip (bottom) of the split groove 15 on the lower surface side. For example, the mother substrate 11 is bent so that the lower surface side is concave, and the mother substrate 11 is divided by causing a crack to progress from the bottom of the dividing groove 15 on the upper surface side toward the bottom of the dividing groove 15 on the lower surface side. This is because the crack progress direction is prevented from deviating from the split groove 15 on the lower surface side. In such a multi-piece wiring board, the position of the connecting conductor 14 for plating in the thickness direction of the mother board 11 is formed so as to be close to the dividing groove 15 on the upper surface side as shown in FIG. It is desirable to do. This is because the crack progresses away from the portion where the thickness of the plating connection conductor 14 is reduced by reducing the distance between the bottom of the split groove 15 on the upper surface side where the crack starts and the connection conductor 14 for plating. This is because it is effective in preventing this.

また、めっき用接続導体14は、図1に示す例では、配線基板領域12内における厚みが比較的厚い部分と、配線基板領域12の境界17における厚みが比較的薄い部分との間で、厚みが一定の割合で徐々に変化しているが、例えば、図2に示すような断面形状で厚みが急に(側面視で段状に)変化しているようなものでもよい。図2は、本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大断面図である。図2において図1と同様の部位には同様の符号を付している。   In the example shown in FIG. 1, the plating connection conductor 14 has a thickness between a portion where the thickness in the wiring board region 12 is relatively thick and a portion where the thickness at the boundary 17 of the wiring board region 12 is relatively thin. Is gradually changed at a constant rate, but for example, it may be a cross-sectional shape as shown in FIG. 2 where the thickness is abruptly changed (stepwise in a side view). FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing another example of the embodiment of the multi-cavity wiring board according to the present invention. In FIG. 2, the same parts as those in FIG.

このように、配線基板領域12の境界17に近い点でめっき用接続導体14の厚みが段状に変化した構造は、例えば、まず厚みが薄い部分に対応する厚みで、めっき用接続導体14の所定パターン全長にわたって金属ペーストを印刷した後、厚みが厚い部分のみに金属ペーストを追加して印刷すれば形成することができるので、印刷工程が容易であり、多数個取り配線基板の生産性を高める上で有効である。   As described above, the structure in which the thickness of the plating connection conductor 14 changes stepwise at a point close to the boundary 17 of the wiring board region 12 is, for example, a thickness corresponding to the portion where the thickness is thin, After the metal paste is printed over the entire length of the predetermined pattern, it can be formed by adding the metal paste to only the thick part and printing it, so the printing process is easy and the productivity of multi-cavity wiring boards is increased. Effective above.

また、本発明の多数個取り配線基板において、隣り合う配線基板領域12の配線導体13同士が、配線基板領域12の境界17において母基板11の厚み方向の異なる位置に配置された複数のめっき用接続導体14により互いに接続されている場合には、次のような効果を得ることができる。   Further, in the multi-cavity wiring board of the present invention, a plurality of plating conductors in which the wiring conductors 13 of the adjacent wiring board regions 12 are arranged at different positions in the thickness direction of the mother board 11 at the boundary 17 of the wiring board region 12 are provided. In the case where they are connected to each other by the connection conductor 14, the following effects can be obtained.

すなわち、例えば図3に示すように、配線基板領域12の境界17においてめっき用接続導体14の厚みを薄くしたとしても、隣り合う配線基板領域12の配線導体13同士が複数のめっき用接続導体14により接続されているため、めっき用接続導体14の断面積(複数のめっき用接続導体14の合計の断面積)の減少を抑制することができる。そのため、めっき用接続導体14を介して配線導体13に供給されるめっき用の電流に対する抵抗の増加を抑制することができ、十分な電流を配線導体13に供給することができる。なお、図3(a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大平面図であり、図3(b)は図3(a)のA−A線における要部拡大断面図である。図3において図1と同様の部位には同様の符号を付している。また、図3(a)においても図1(c)と同様に母基板11の一部をカットして示している。   That is, for example, as shown in FIG. 3, even if the thickness of the connection conductor 14 for plating is reduced at the boundary 17 of the wiring board region 12, the wiring conductors 13 of the adjacent wiring board regions 12 are connected to each other. Therefore, the reduction in the cross-sectional area of the plating connection conductor 14 (the total cross-sectional area of the plurality of plating connection conductors 14) can be suppressed. Therefore, an increase in resistance to the plating current supplied to the wiring conductor 13 through the plating connecting conductor 14 can be suppressed, and a sufficient current can be supplied to the wiring conductor 13. FIG. 3A is an enlarged plan view of a main part showing another example of the embodiment of the multi-piece wiring board according to the present invention, and FIG. 3B is an AA line in FIG. It is a principal part expanded sectional view in FIG. In FIG. 3, the same parts as those in FIG. Also, in FIG. 3A, a part of the mother board 11 is cut as shown in FIG.

また、この複数のめっき用接続導体14は、母基板11の厚み方向の異なる位置に配置されているので、配線基板領域12の境界17においてめっき用接続導体14が占める幅を小さく抑える上で有効である。そのため、この場合には配線基板領域12(個片の配線基板)の小型化に有効である。例えば、配線基板領域12の境界17において、配線導体13の高密度化や配線基板領域12の小型化によりめっき用接続導体14を配置するスペースが狭く、図1(c)に示した例のように、めっき用接続導体14の幅を広くすることが困難である場合において、上記の構成が有効である。もちろん、境界17に形成できる範囲でめっき用接続導体14の幅を広く形成するとともに、母基板11の厚み方向の異なる高さに設けてもよい。   In addition, since the plurality of connecting conductors 14 for plating are arranged at different positions in the thickness direction of the mother board 11, it is effective in suppressing the width occupied by the connecting conductors 14 for plating at the boundary 17 of the wiring board region 12 It is. Therefore, in this case, it is effective for downsizing of the wiring board region 12 (individual piece of wiring board). For example, at the boundary 17 of the wiring board region 12, the space for arranging the plating connection conductors 14 is narrowed by increasing the density of the wiring conductors 13 and reducing the size of the wiring board region 12, as in the example shown in FIG. In addition, when it is difficult to increase the width of the connecting conductor for plating 14, the above configuration is effective. Of course, the plating connecting conductors 14 may be formed to have a wide width as long as they can be formed at the boundary 17 and at different heights in the thickness direction of the mother board 11.

なお、配線導体13同士を接続する複数のめっき用接続導体14を母基板11の厚み方向の異なる位置に配置するには、例えば、母基板11を構成するセラミック絶縁層に貫通導体20を形成し、この貫通導体20を介して、あるセラミック絶縁層の層間に配置しためっき用接続導体14を、それよりも上または下の層間に電気的に導出させ、この導出部分に他のめっき用接続導体14を接続させて配置するようにすればよい。つまり、上下の複数のめっき用接続導体14同士が、貫通導体20により互いに電気的に接続され、この互いに電気的に接続された複数のめっき用接続導体14が、それぞれ配線基板領域12の境界17を越えて配線導体13同士を電気的に接続する。   In order to arrange the plurality of plating connection conductors 14 for connecting the wiring conductors 13 at different positions in the thickness direction of the mother board 11, for example, the through conductor 20 is formed in the ceramic insulating layer constituting the mother board 11. Through this through conductor 20, the plating connection conductor 14 disposed between the layers of a certain ceramic insulating layer is electrically led out between the layers above or below it, and this lead-out portion is connected to another plating connection conductor. 14 may be connected and arranged. That is, the plurality of upper and lower plating connection conductors 14 are electrically connected to each other by the through conductors 20, and the plurality of plating connection conductors 14 electrically connected to each other are connected to the boundary 17 of the wiring board region 12, respectively. The wiring conductors 13 are electrically connected to each other.

また、母基板11の厚み方向の異なる位置に配置されたこれらのめっき用接続導体14は、配線基板領域12の境界17において、平面視で互いに重ならないように設けても構わない。この場合には、めっき用接続導体14の厚みの分、母基板11の厚みが不均一になって母基板11の表面に凹凸を生じる、というような不具合を抑制する上で有効である。   In addition, the plating connection conductors 14 arranged at different positions in the thickness direction of the mother board 11 may be provided so as not to overlap each other in the boundary 17 of the wiring board region 12 in plan view. In this case, it is effective in suppressing such a problem that the thickness of the mother substrate 11 becomes uneven due to the thickness of the connecting conductor 14 for plating and the surface of the mother substrate 11 is uneven.

また、例えば図4に示すように、分割後の配線基板において互いに電気的に独立させる必要がある複数の配線導体13にそれぞれ別々にめっき用接続導体14を接続するような場合には、それぞれの配線導体13同士を接続する複数のめっき用接続導体14を、互いに異なる層間に(いわゆる千鳥状に)配置するようにしてもよい。この場合には、隣接する配線導体13同士がめっき用接続導体14を介して短絡するようなことがより効果的に防止されて、個片の配線基板として所定の電気的特性をより確実に得ることができる。なお、図4は、図3に示した本発明の多数個取り配線基板の変形例を示す要部拡大断面図である。図4において図1および図3と同様の部位には同様の符号を付している。   Further, for example, as shown in FIG. 4, in the case of separately connecting the connecting conductors 14 for plating to a plurality of wiring conductors 13 that need to be electrically independent from each other in the divided wiring board, A plurality of plating connection conductors 14 that connect the wiring conductors 13 may be arranged between different layers (in a so-called staggered pattern). In this case, the adjacent wiring conductors 13 are more effectively prevented from being short-circuited via the plating connection conductor 14, and the predetermined electrical characteristics can be more reliably obtained as a piece of wiring board. be able to. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modification of the multi-piece wiring board of the present invention shown in FIG. 4, parts similar to those in FIGS. 1 and 3 are given the same reference numerals.

また、本発明の多数個取り配線基板において、例えば図5に示すように、配線基板領域12の主面に凹部16が設けられており、めっき用接続導体14が、側面視で凹部16の底面より下方に配置されている場合には、次のような効果が得られる。   Further, in the multi-cavity wiring board of the present invention, as shown in FIG. 5, for example, a concave portion 16 is provided on the main surface of the wiring board region 12, and the plating connection conductor 14 is connected to the bottom surface of the concave portion 16 in a side view. When arranged below, the following effects can be obtained.

すなわち、めっき用接続導体14が凹部16の底面より下方に配置されているため、母基板11のうち凹部16の側壁部分を構成する枠部18の機械的強度が、セラミック絶縁層に比べて機械的強度の低いめっき用接続導体14の存在によって低下することを抑制することができる。そのため、母基板11を分割溝15に沿って分割する際に、母基板11に機械的な破壊が生じることをより効果的に抑制しながら、めっき用接続導体14にえぐれが発生することを効果的に抑制することができる。なお、図5は、本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大断面図である。図5において図1と同様の部位には同様の符号を付している。   That is, since the connecting conductor 14 for plating is disposed below the bottom surface of the recess 16, the mechanical strength of the frame portion 18 constituting the side wall portion of the recess 16 in the mother substrate 11 is higher than that of the ceramic insulating layer. It is possible to suppress a decrease due to the presence of the connection conductor 14 for plating having a low mechanical strength. Therefore, when dividing the mother board 11 along the dividing groove 15, it is effective to suppress the occurrence of mechanical breakage in the mother board 11, while causing the connecting conductor 14 for plating to be swept away. Can be suppressed. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the main part showing another example of the embodiment of the multi-piece wiring board of the present invention. 5, parts similar to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

つまり、母基板11のうち枠部18は、基部19に比べて幅が狭く、機械的な強度が低い傾向があるため、配線基板領域12の境界17を越えてめっき用接続導体14を内部に形成した場合には、枠部18としての剛性が低下して母基板11の機械的な破壊が発生しやすくなる可能性がある。特に、配線基板領域12が小型化すると、凹部16を形成する枠部18の枠部分における幅も狭くなって機械的な強度が低下する傾向があるため、上記のような問題が発生しやすくなる可能性がある。そのため、特にこのような小型化の際には、めっき用接続導体14を側面視で凹部16の底面より下方に配置することが好ましい。   That is, the frame 18 of the mother board 11 is narrower than the base 19 and tends to have a low mechanical strength, so that the plating connection conductor 14 is placed inside beyond the boundary 17 of the wiring board region 12. If formed, the rigidity of the frame portion 18 may be reduced, and mechanical breakage of the mother board 11 may easily occur. In particular, when the wiring board region 12 is downsized, the width of the frame portion of the frame portion 18 that forms the recess 16 tends to be narrowed and the mechanical strength tends to decrease, so the above-described problems are likely to occur. there is a possibility. Therefore, particularly in the case of such downsizing, it is preferable to dispose the plating connection conductor 14 below the bottom surface of the recess 16 in a side view.

また、この場合には、母基板11(枠部18)に上面から分割溝15が形成されているときに、基部19にめっき用接続導体14を形成することによって、めっき用接続導体14を断線しないように分割溝15の深さを基部19の上面(図5に示す例における凹部16の底面)の近くまで深くすることができる。そのため、分割溝15の深さを十分に確保して、母基板11の分割をより容易に行なうことができるという効果もある。なお、このように母基板11の上面側の分割溝15を深くした場合には、上面側の溝15の方が底部により大きな応力を集中させやすいので、母基板11を下面側が凹(上面側が凸)となるようにたわませて、上面側の分割溝15の底部から下面側の分割溝15の底部に向かって亀裂を進行させるようにすることが望ましい。   In this case, when the dividing groove 15 is formed from the upper surface of the mother board 11 (frame portion 18), the plating connection conductor 14 is disconnected by forming the plating connection conductor 14 in the base portion 19. Therefore, the depth of the dividing groove 15 can be increased to the vicinity of the upper surface of the base 19 (the bottom surface of the recess 16 in the example shown in FIG. 5). Therefore, there is also an effect that the mother substrate 11 can be more easily divided by securing a sufficient depth of the dividing groove 15. When the dividing groove 15 on the upper surface side of the mother board 11 is deepened in this way, the groove 15 on the upper surface side tends to concentrate a larger stress on the bottom, so that the lower surface side of the mother board 11 is concave (the upper surface side is It is desirable to cause the cracks to progress from the bottom of the upper-side dividing groove 15 toward the bottom of the lower-side dividing groove 15.

本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例として、図6に示すように、母基板11を構成する枠部18が1層のセラミック絶縁層からなり、基部19が2層の絶縁層からなる場合に、凹部16内に互いに電気的に独立した配線導体13が4つ(13a、13b、13c、13d)形成されている多数個取り配線基板について説明する。なお、図6(a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大平面図であり、図6(b)は(a)のA−A線における要部拡大断面図である。図6(a)および(b)では、母基板11に配列された多数の配線基板領域12のうち1つだけを示している。図6において図1と同様の部位には同様の符号を付している。   As another example of the embodiment of the multi-piece wiring board of the present invention, as shown in FIG. 6, the frame part 18 constituting the mother board 11 is composed of one ceramic insulating layer, and the base part 19 is composed of two layers. A multi-piece wiring board in which four wiring conductors 13 (13a, 13b, 13c, 13d) that are electrically independent from each other are formed in the recess 16 in the case of being formed of an insulating layer will be described. 6 (a) is an enlarged plan view of a main part showing another example of the embodiment of the multi-piece wiring board according to the present invention, and FIG. 6 (b) is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 6 (a). FIG. 6A and 6B, only one of the many wiring board regions 12 arranged on the mother board 11 is shown. In FIG. 6, the same parts as those in FIG.

この場合、長方形状の配線基板領域12の一方の短辺側の2つの配線導体13a、13bと接続されためっき用接続導体14は基部19の上側のセラミック絶縁層の層間(基部19と枠部18との間)に配置され、他方の短辺側の2つの配線導体13c、13dと接続されためっき用接続導体14は基部19の下側のセラミック絶縁層の層間に配置されている。ここで、配線導体13a、13b、13c、13dは凹部16の底面(基部19の上面)に配置されているため、この例では配線導体13c、13dが、それぞれ貫通導体20で基部19の下側のセラミック絶縁層の層間に配置されためっき用接続導体14と接続されている。なお、配線導体13a、13b、13c、13dは、それぞれ個片の配線基板に分割したときに互いに電気的に独立したものとする必要があるため、互いに異なるめっき用接続導体14により隣り合う配線基板領域12の間で接続されている。   In this case, the connecting conductor 14 for plating connected to the two wiring conductors 13a and 13b on one short side of the rectangular wiring board region 12 is an interlayer of the ceramic insulating layer above the base 19 (the base 19 and the frame portion). The plating connection conductor 14 is disposed between the ceramic insulating layers on the lower side of the base 19 and is connected to the other two wiring conductors 13c and 13d on the other short side. Here, since the wiring conductors 13a, 13b, 13c, and 13d are disposed on the bottom surface of the recess 16 (the upper surface of the base 19), in this example, the wiring conductors 13c and 13d are respectively the through conductors 20 and the lower side of the base 19 Are connected to the plating connection conductors 14 disposed between the ceramic insulating layers. Since the wiring conductors 13a, 13b, 13c, and 13d need to be electrically independent from each other when divided into individual wiring boards, the wiring boards adjacent to each other by different connecting conductors 14 for plating. Connected between regions 12.

この場合に、例えば基部19を3層以上のセラミック絶縁層からなるもの(図示せず)としておいて、そのうち2つ以上の層間にめっき用接続導体14を配置すれば、隣り合う配線基板領域12の配線導体13同士が複数のめっき用接続導体14により接続されている場合に、その複数のめっき用接続導体14を凹部16の底面より下方に配置することができる。この場合にも、母基板11のうち枠部18における分割時の機械的な破壊を効果的に抑制することができる。   In this case, for example, if the base portion 19 is composed of three or more ceramic insulating layers (not shown), and the plating connection conductors 14 are disposed between two or more of them, adjacent wiring board regions 12 are arranged. When the wiring conductors 13 are connected to each other by a plurality of connecting conductors 14 for plating, the plurality of connecting conductors 14 for plating can be disposed below the bottom surface of the recess 16. Also in this case, mechanical breakage at the time of division in the frame portion 18 of the mother board 11 can be effectively suppressed.

このように製作された多数個取り配線基板について、個片の配線基板に分割した後、配線基板の凹部16に水晶振動子や半導体素子等の電子部品を収容するとともに、例えば、蓋体(図示せず)をろう付けや溶接(シームウエルド)等の接合方法で配線基板の上面に接合して凹部16を気密封止することにより、多数の配線基板のそれぞれに対応して多数の電子装置が作製される。   The multi-cavity wiring board manufactured in this way is divided into individual wiring boards, and thereafter, electronic parts such as crystal units and semiconductor elements are accommodated in the recesses 16 of the wiring board. (Not shown) is joined to the upper surface of the wiring board by a joining method such as brazing or welding (seam weld), and the recess 16 is hermetically sealed, so that a large number of electronic devices can be provided for each of the many wiring boards. Produced.

また、凹部16への電子部品の収容および気密封止は、個片の配線基板に分割する前に(多数個取り配線基板の状態で)行なうこともできる。この場合には、多数の電子装置が母基板11に形成された多数個取りの電子装置(図示せず)が作製され、この多数個取りの電子装置を分割溝15に沿って分割することにより多数の電子装置が製作される。   Further, the electronic components can be accommodated in the recess 16 and hermetically sealed before being divided into individual wiring boards (in the state of a multi-piece wiring board). In this case, a multi-piece electronic device (not shown) in which a large number of electronic devices are formed on the mother substrate 11 is manufactured, and the multi-piece electronic device is divided along the dividing grooves 15. A number of electronic devices are produced.

なお、本発明は、上述の実施の形態の例に限定されるものではなく、種々の変形は可能である。例えば、母基板11は、各配線基板領域12に凹部16を有するものを例に挙げて説明したが、このような凹部16を有しない平板状のものであってもよい。   In addition, this invention is not limited to the example of the above-mentioned embodiment, A various deformation | transformation is possible. For example, the mother board 11 has been described by taking as an example one having the recess 16 in each wiring board region 12. However, the mother board 11 may be a flat plate having no such recess 16.

(a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す断面図であり、(b)は(a)の要部拡大断面図であり、(c)は(a)の要部拡大平面図である。(A) is sectional drawing which shows an example of embodiment of the multi-piece wiring board of this invention, (b) is a principal part expanded sectional view of (a), (c) is the principal part of (a). FIG. 本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the other example of embodiment of the multi-piece wiring board of this invention. (a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大平面図であり、(b)は(a)のA−A線における要部拡大断面図である。(A) is a principal part enlarged plan view which shows the other example of embodiment of the multi-cavity wiring board of this invention, (b) is a principal part expanded sectional view in the AA of (a). . 図3に示す多数個取り配線基板の変形例を示す要部拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modification of the multi-cavity wiring board shown in FIG. 3. 本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の他の例を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the other example of embodiment of the multi-piece wiring board of this invention. (a)は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す要部拡大平面図であり、(b)は(a)のA−A線における要部拡大断面図である。(A) is a principal part enlarged plan view which shows an example of embodiment of the multi-piece wiring board of this invention, (b) is a principal part expanded sectional view in the AA of (a). (a)は従来の多数個取り配線基板の一例を示す断面図であり、(b)は(a)の要部拡大断面図であり、(c)は(a)の要部拡大平面図である。(A) is sectional drawing which shows an example of the conventional multi-piece wiring board, (b) is the principal part expanded sectional view of (a), (c) is the principal part enlarged plan view of (a). is there.

符号の説明Explanation of symbols

11・・・・・母基板
12・・・・・配線基板領域
13・・・・・配線導体
14・・・・・めっき用接続導体
15・・・・・分割溝
16・・・・・凹部
17・・・・・配線基板領域の境界
18・・・・・枠部
19・・・・・基部
20・・・・・貫通導体
11 ... Mother board
12 ... Wiring board area
13 ・ ・ ・ ・ ・ Wiring conductor
14 ・ ・ ・ ・ ・ Connection conductor for plating
15 ... Dividing groove
16 ... concave
17 ・ ・ ・ ・ ・ Boundary of wiring board area
18 ... Frame
19 ・ ・ ・ ・ ・ Base
20 ... Penetration conductor

Claims (3)

複数の配線基板領域が縦横の並びに配列され、該配線基板領域の表面に配線導体を有する母基板と、前記配線基板領域の境界において前記母基板の主面に形成された分割溝と、前記母基板の内部に形成された、前記配線基板領域の境界を越えて前記配線導体同士を接続するめっき用接続導体とを備える多数個取り配線基板であって、前記めっき用接続導体は、前記配線基板領域の境界における厚みが前記配線基板領域内における厚みよりも薄く、前記配線基板領域の境界における幅が前記配線基板領域内における幅よりも広いことを特徴とする多数個取り配線基板。 A plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally, a mother board having a wiring conductor on the surface of the wiring board area, a dividing groove formed on a main surface of the mother board at a boundary of the wiring board area, and the mother board A multi-cavity wiring board formed inside a board and provided with a connecting conductor for plating that connects the wiring conductors beyond the boundary of the wiring board region, wherein the connecting conductor for plating is the wiring board multiple patterning wiring board characterized wide Ikoto than the width of the rather thin, the width at the boundary of the wiring substrate area the wiring substrate area than the thickness of the thickness is the wiring substrate region in the boundary region. 隣り合う前記配線基板領域の配線導体同士が、前記配線基板領域の境界において前記母基板の厚み方向の異なる位置に配置された複数のめっき用接続導体により接続されていることを特徴とする請求項1に記載の多数個取り配線基板。 The wiring conductors in the adjacent wiring board regions are connected by a plurality of connecting conductors for plating arranged at different positions in the thickness direction of the mother board at the boundary of the wiring board regions. 2. The multi-piece wiring board according to 1. 前記配線基板領域の主面に凹部が設けられており、前記めっき用接続導体が、側面視で前記凹部の底面より下方に配置されていることを特徴とする請求項1または請求項のいずれかに記載の多数個取り配線基板。 A recess is provided on the main surface of the wiring substrate region, the plating connection conductors, either claim 1 or claim 2, characterized in that disposed below the bottom surface of the recess in a side view Multi-cavity wiring board according to the above.
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