JP5226367B2 - 収差補正装置 - Google Patents
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- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims description 138
- 230000005405 multipole Effects 0.000 claims description 156
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 67
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 63
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims description 60
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 39
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 206010073261 Ovarian theca cell tumour Diseases 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 208000001644 thecoma Diseases 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
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- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/262—Non-scanning techniques
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2802—Transmission microscopes
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Description
本発明に係る収差補正装置の一実施形態について説明する。図2(a)は、本発明の一実施形態に係る収差補正装置の模式図である。
上記のような三つの三回対称場を生じる多極子の配置としては、前段の多極子21の配置を基準として、中段又は後段の多極子22、23の何れか一方を、光軸11に垂直な面内において40°回転して配置し、中段又は後段の多極子22、23の何れか他方を、光軸11に垂直な面内において80°回転して配置する。このとき、中段及び後段の多極子22、23は同じ方向に回転して配置する。図2(b)〜(d)は、このような配置に基づいた各多極子の配置の一例を示したものである。これら各図は、図2(a)に示す光軸11上の原点OからA方向に見て、21aが前段の多極子21の配置を、22aが中段の多極子22の配置を、23aが後段の多極子23の配置を表している。この回転関係は、転送するレンズでの回転後に着目する必要があり、物理的に40°の回転関係になくとも、転送レンズにより電子光学的に40°の回転関係になっていればよい。三回対称場は、120°の回転対称性があり、また鏡面対称系を考えると、40°と80°という角度関係は、120°×m±40°と120°×m±80°と等価である。
以上は、式(4)を用いて一枚の多極子内で発生する六回非点に着目して議論した。
次に、式(7)を用いて、二つ以上の多極子が発生する三回非点の干渉によって生じる六回非点を考慮した系を考える。
三段の多極子を用意し、三段で三回非点を打ち消すようにした場合の、三段目の多極子からでた六回非点に対する電子線の傾きは、前段、中段、後段の多極子による三回非点収差係数をそれぞれA3A、A3B、A3Cとすると、以下となる。
図2(e)〜(f)は、このような配置に基づいた各多極子の配置の一例を示したものである。これら各図は、図2(a)に示す光軸11上の原点OからA方向に見て、21bが前段の多極子21の配置を、22bが中段の多極子22の配置を、23bが後段の多極子23の配置を表している。この回転関係は、転送するレンズでの回転後に着目する必要があり、物理的に120°×m±72°と120°×m±24°の回転関係になくとも、転送レンズにより電子光学的にその回転関係になっていればよい。
集束された電子線は照射系収差補正器53を通過する。このとき、上記した収差補正が行われる。さらに照射系収差補正器53を通過した電子線は、第2集束レンズ54によって集束され、対物レンズ及び試料ステージ55を通過する。なお、試料ステージには試料が装着されている。
11:光軸
21:前段の多極子
22:中段の多極子
23:後段の多極子
31:第1の転送レンズ
32:第2の転送レンズ
33:第3の転送レンズ
40:対物レンズ
50、60:透過型電子顕微鏡
53:照射系収差補正器
65:結像系収差補正器
100:電子線
101:光軸
102:多極子
103:対物レンズ
104:試料面
Claims (9)
- 光軸に対して一列に配置され、前記光軸に沿ってそれぞれが厚みを有する三段の多極子を備え、前記三段の多極子のうち、前段の多極子は、前記光軸に対して三回対称となる第1の磁場又は電場を生じ、前記三段の多極子のうち、中段の多極子は、前記光軸に対して三回対称となる第2の磁場又は電場を生じ、前記三段の多極子のうち、後段の多極子は、前記光軸に対して三回対称となる第3の磁場又は電場を生じ、前記第2の磁場又は電場においては、前記第1磁場または電場、あるいは前記第3磁場または電場から発生した三回対称非点を打ち消す方向ではない磁場又は電場三回対称分布を作り、前記第3の磁場又は電場においては、前記第1の磁場または電場、あるいは前記第2の磁場または電場から発生した三回対称非点を打ち消す方向ではない磁場又は電場三回対称分布を作り、前記前段の多極子において発生した三回対称収差を、前記中段の多極子を用いて回転させ、前記中段の多極子から発生した三回対称収差を前記後段の多極子を用いて回転させ、前記三段の多極子の合成として三回対称非点を打ち消し、球面収差補正と高次収差補正を行なう電子顕微鏡用収差補正装置であり、
前記三段の多極子間の磁場又は電場の回転関係として、前記第2の磁場又は電場、或いは前記第3の磁場又は電場の何れか一方は、前記第1の磁場又は電場に対し、前記光軸に垂直な面内において電子光学的レンズによる回転作用を考慮して、mを整数として、120°×m±40°回転して分布し、前記第2の磁場又は電場、或いは前記第3の磁場又は電場、の何れか他方は、前記第1の磁場又は電場に対し、前記光軸に垂直な面内において電子光学的レンズによる回転作用を考慮して120°×m±80°回転して分布し、前記第2の磁場又は電場と、前記第3の磁場又は電場は同じ方向に回転して分布することを特徴とする電子顕微鏡用収差補正装置。 - 光軸に対して一列に配置され、前記光軸に沿ってそれぞれが厚みを有する三段の多極子を備え、前記三段の多極子のうち、前段の多極子は、前記光軸に対して三回対称となる第1の磁場又は電場を生じ、前記三段の多極子のうち、中段の多極子は、前記光軸に対して三回対称となる第2の磁場又は電場を生じ、前記三段の多極子のうち、後段の多極子は、前記光軸に対して三回対称となる第3の磁場又は電場を生じ、前記第2の磁場又は電場においては、前記第1磁場または電場、あるいは前記第3磁場または電場から発生した三回対称非点を打ち消す方向ではない磁場又は電場三回対称分布を作り、前記第3の磁場又は電場においては、前記第1の磁場または電場、あるいは前記第2の磁場または電場から発生した三回対称非点を打ち消す方向ではない磁場又は電場三回対称分布を作り、前記前段の多極子において発生した三回対称収差を、前記中段の多極子を用いて回転させ、前記中段の多極子から発生した三回対称収差を前記後段の多極子を用いて回転させ、前記三段の多極子の合成として三回対称非点を打ち消し、球面収差補正と高次収差補正を行なう電子顕微鏡用収差補正装置であり、
前記三段の多極子間の磁場又は電場の回転関係として、前記第2の磁場又は電場は、前記第1の磁場又は電場に対し、前記光軸に垂直な面内において電子光学的レンズによる回転作用を考慮して、mを整数として、120°×m±略72°回転して分布し、前記第3の磁場又は電場は、前記第1の磁場又は電場に対し、前記光軸に垂直な面内において電子光学的レンズによる回転作用を考慮して120°×m±略24°回転して分布することを特徴とする電子顕微鏡用収差補正装置。 - 前記前段の多極子と前記中段の多極子の間に設けられ、二段の軸対称レンズを有する第1の転送レンズ対と、前記中段の多極子と前記後段の多極子の間に設けられ、二段の軸対称レンズを有する第2の転送レンズ対を、更に備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
- 前記後段の多極子の後方に設けられ、二段の軸対称レンズを有する第3の転送レンズ対を更に備えることを特徴とする請求項3に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
- 前記三段の多極子はそれぞれ、独立に励磁可能な磁極又は、独立に電圧印加可能な電極を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
- 前記三段の多極子はそれぞれ六極子を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
- 前記三段の多極子はそれぞれ十二極子を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
- 前記三段の多極子のそれぞれを前記光軸に垂直な面内で回転させる回転手段を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
- 前記三段の多極子は、三段とも多極子の厚みがおなじものを有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子顕微鏡用収差補正装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008107375A JP5226367B2 (ja) | 2007-08-02 | 2008-04-17 | 収差補正装置 |
EP08252352.3A EP2020673B1 (en) | 2007-08-02 | 2008-07-10 | Aberration correction system |
US12/182,609 US7723683B2 (en) | 2007-08-02 | 2008-07-30 | Aberration correction system |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007202134 | 2007-08-02 | ||
JP2007202134 | 2007-08-02 | ||
JP2008107375A JP5226367B2 (ja) | 2007-08-02 | 2008-04-17 | 収差補正装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009054565A JP2009054565A (ja) | 2009-03-12 |
JP5226367B2 true JP5226367B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=39929645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008107375A Active JP5226367B2 (ja) | 2007-08-02 | 2008-04-17 | 収差補正装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7723683B2 (ja) |
EP (1) | EP2020673B1 (ja) |
JP (1) | JP5226367B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5623719B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2014-11-12 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
EP2325862A1 (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-25 | Fei Company | Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens |
JP5502595B2 (ja) | 2010-05-18 | 2014-05-28 | 日本電子株式会社 | 球面収差補正装置および球面収差補正方法 |
WO2012014870A1 (ja) * | 2010-07-27 | 2012-02-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP5545869B2 (ja) * | 2010-11-16 | 2014-07-09 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線の軸合わせ方法及び荷電粒子線装置 |
JP5677081B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-02-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5934517B2 (ja) * | 2012-02-24 | 2016-06-15 | 日本電子株式会社 | 色収差補正装置及び色収差補正装置の制御方法 |
US8541755B1 (en) | 2012-05-09 | 2013-09-24 | Jeol Ltd. | Electron microscope |
US10096448B2 (en) | 2015-04-27 | 2018-10-09 | National University Corporation Nagoya University | Spherical aberration corrector for electromagnetic lens for charged particle beam |
JP6868480B2 (ja) * | 2017-06-20 | 2021-05-12 | 日本電子株式会社 | 歪み補正方法および電子顕微鏡 |
JP6943779B2 (ja) | 2018-01-24 | 2021-10-06 | 日本電子株式会社 | 収差補正装置および電子顕微鏡 |
DE102019122013B3 (de) * | 2019-08-15 | 2021-01-14 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Teilchenoptischer Korrektor frei von axialen Fehlern sechster Ordnung und Elektronenmikroskop mit Korrektor |
CN112924477B (zh) * | 2021-01-23 | 2022-02-11 | 北京大学 | 电镜定量消除像散的方法 |
JP7465295B2 (ja) | 2022-02-22 | 2024-04-10 | 日本電子株式会社 | 収差補正装置および電子顕微鏡 |
JP2024065714A (ja) | 2022-10-31 | 2024-05-15 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子光学系の調整方法および荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03180909A (ja) * | 1989-12-11 | 1991-08-06 | Mitsubishi Electric Corp | 数値制御装置 |
DE10001277A1 (de) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Harald Rose | Elektronenoptischer Korrektor zur Beseitigung der Bildfehler dritter Ordnung |
JP2001244195A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-09-07 | Nikon Corp | 荷電粒子線投影系における偏向収差補正 |
US6836373B2 (en) * | 2000-11-16 | 2004-12-28 | Jeol Ltd. | Spherical aberration corrector for electron microscope |
JP3896043B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2007-03-22 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡の球面収差補正装置 |
DE102005050810A1 (de) * | 2005-10-24 | 2007-04-26 | Ceos Gmbh | Elektronenoptischer Korrektor für aplanatische Abbildungssysteme |
US7619220B2 (en) * | 2005-11-30 | 2009-11-17 | Jeol Ltd. | Method of measuring aberrations and correcting aberrations using Ronchigram and electron microscope |
EP1914785B1 (en) * | 2006-10-20 | 2016-09-14 | JEOL Ltd. | Aberration corrector and method of aberration correction |
EP1914786A3 (en) * | 2006-10-20 | 2010-08-04 | JEOL Ltd. | Charged particle beam system |
-
2008
- 2008-04-17 JP JP2008107375A patent/JP5226367B2/ja active Active
- 2008-07-10 EP EP08252352.3A patent/EP2020673B1/en active Active
- 2008-07-30 US US12/182,609 patent/US7723683B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2020673B1 (en) | 2014-01-15 |
EP2020673A3 (en) | 2010-08-11 |
US7723683B2 (en) | 2010-05-25 |
EP2020673A2 (en) | 2009-02-04 |
US20090032709A1 (en) | 2009-02-05 |
JP2009054565A (ja) | 2009-03-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120626 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5226367 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160322 Year of fee payment: 3 |