JP5211185B2 - プリント配線板 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。本実施形態では、装置内部の回路間又は装置間を接続する伝送線路に、本発明に係るプリント配線板1を適用した例を説明する。
関係式1:第1絶縁層(絶縁層B)20の比誘電率×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)>第2絶縁層(絶縁層A)20の比誘電率×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2))}
関係式2:第1絶縁層(絶縁層B)20の比誘電率×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)<第2絶縁層(絶縁層A)20の比誘電率×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)}
C2(信号線41と導電線42bの間)=真空誘電率×絶縁層Aの比誘電率×信号線41の厚さ/一方の導電線42bとの距離(S2)
C3(信号線41とグランド層30の間)=真空誘電率×絶縁層Bの比誘電率×信号線41の幅(W41)/絶縁層Bの厚さ(T10)
以上のC1〜C3により、信号線41周囲の静電容量を把握することができる。
誘電正接A>誘電正接Bの場合と、誘電正接A<誘電正接Bの場合において、それぞれの信号線41の幅(W41)を変化させることにより、「絶縁層Bの比誘電率(以下、比誘電率Bともいう)×信号線41の幅(W41)÷絶縁層B(10)の厚さ(T10)」と、「絶縁層Aの比誘電率(以下、比誘電率Aともいう)×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)}の関係を変化させて、プリント配線板1の損失(S12)を求める。本実施形態では、空洞共振器法により、共振器内に微小な誘電体や磁性体を挿入させたときに生じる、共振器内の共振周波数やQ値の変化量に基づいて、材料の誘電率又は誘電損失を測定する。本実施形態では、市販の空洞共振器法誘電率測定装置を用いてプリント配線板1の損失(S12)を求めることができる。
以下、誘電正接A>誘電正接Bである場合の実施例1〜6、及び誘電正接A<誘電正接Bである場合の実施例7〜8の損失(S12)を示す。
次に、第2実施形態に係るプリント配線板1について説明する。第2実施形態のプリント配線板1は、差動伝送線路を有し、いわゆる差動マイクロストリップラインの構造を備える。
関係式1:比誘電率B×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)>比誘電率A×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)+信号線41の厚さ(T41)÷一対の信号線(41a、41b)間の距離(S3)×2)}
関係式2:比誘電率B×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)<比誘電率A×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)+信号線41の厚さ(T41)÷一対の信号線(41a、41b)間の距離(S3)×2)}
次に、第3実施形態に係るプリント配線板1について説明する。第3実施形態のプリント配線板1は、特性インピーダンスを整合させる観点から、グランド層30をメッシュ構造とする点を特徴とする。他の点は第1実施形態又は第2実施形態と共通するので、異なる点を中心に説明する。
関係式1:比誘電率B×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)×導電領域率>比誘電率A×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)}
関係式2:比誘電率B×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)×導電領域率<比誘電率A×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)}
10…第1絶縁層
11…絶縁性基材
12…第1接着層
13…第2接着層
20…保護層,第2絶縁層
40…導電層
41,41a,41b…信号線
42,42a,42b…グランド線,導電線
40a…銅箔層
40b…めっき層
30…グランド層
Claims (4)
- 第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の一方主面に形成されたグランド層と、
前記第1絶縁層の他方主面に形成された信号線と、
前記第1絶縁層の他方主面に形成され、前記信号線を挟んで並設された2本の導電線と、
前記信号線と前記導電線とを覆うように前記第1絶縁層の他方主面側に積層された第2絶縁層と、を備え、
前記第2絶縁層の誘電正接>前記第1絶縁層の誘電正接である場合は、
前記第1絶縁層の比誘電率×前記信号線の幅÷前記第1絶縁層の厚さ>前記第2絶縁層の比誘電率×(前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記一方の導電線との距離+前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記他方の導電線との距離)の関係を有する構造のプリント配線板。 - 第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の一方主面に形成されたグランド層と、
前記第1絶縁層の他方主面に形成された信号線と、
前記第1絶縁層の他方主面に形成され、前記信号線を挟んで並設された2本の導電線と、
前記信号線と前記導電線とを覆うように前記第1絶縁層の他方主面側に積層された第2絶縁層と、を備え、
前記第2絶縁層の誘電正接<前記第1絶縁層の誘電正接である場合は、
前記第1絶縁層の比誘電率×前記信号線の幅÷前記第1絶縁層の厚さ<前記第2絶縁層の比誘電率×(前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記一方の導電線との距離+前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記他方の導電線との距離)の関係を有する構造のプリント配線板。 - 第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の一方主面に形成されたグランド層と、
前記第1絶縁層の他方主面に形成された隣り合う一対の信号線と、
前記第1絶縁層の他方主面に形成され、前記一対の信号線を挟んで並設された2本の導電線と、
前記信号線と前記導電線とを覆うように前記第1絶縁層の他方主面側に積層された第2絶縁層と、を備え、
前記第2絶縁層の誘電正接>前記第1絶縁層の誘電正接である場合は、
前記第1絶縁層の比誘電率×前記信号線の幅÷前記第1絶縁層の厚さ>前記第2絶縁層の比誘電率×(前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記一方の導電線との距離+前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記他方の導電線との距離+前記信号線の厚さ÷前記一対の信号線間の距離×2)の関係を有し、
前記第2絶縁層の誘電正接<前記第1絶縁層の誘電正接である場合は、
前記第1絶縁層の比誘電率×前記信号線の幅÷前記第1絶縁層の厚さ<前記第2絶縁層の比誘電率×(前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記一方の導電線との距離+前記信号線の厚さ÷前記信号線と前記他方の導電線との距離+前記信号線の厚さ÷前記一対の信号線間の距離×2)の関係を有する構造のプリント配線板。 - 請求項1〜3の何れか一項に記載のプリント配線板であって、
前記グランド層は、離散的に複数の領域が除去され、残された残部領域によって構成されたメッシュ構造を有し、
前記関係において、(前記第1絶縁層の比誘電率×前記信号線の幅÷前記第1絶縁層の厚さ)の値は、前記グランド層が設けられている全体領域の面積に対する前記残部領域の面積の割合を示す導電領域率を乗じて、(前記第1絶縁層の比誘電率×前記信号線の幅÷前記第1絶縁層の厚さ×導電領域率)により算出されることを特徴とするプリント配線板。
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