JP5201642B2 - 吸着装置および処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、被吸着体を吸着する吸着装置および該吸着装置に吸着された被吸着体に対して所定の処理を施す処理装置に関する。

フィルム材やシート材などの被処理体にレーザ加工などの処理を施す際には、被処理体を試料台上に差圧により吸着して固定することが行われている（例えば特許文献１〜４参照）。また、サイズの異なる被処理体を試料台に吸着する場合には、試料台を被処理体のサイズに合ったサイズのものに変更したり、サイズの異なる被処理体のうちの最大サイズの被処理体に合ったサイズの試料台を用い、被処理体のサイズに応じて不使用の吸着領域をシール材などで覆うことが行われている（例えば特許文献１参照）。

図３は、特許文献１に記載された吸着エリア可変装置を示す概略図である。
描画対象物１１０が配置される描画テーブル１０１には、多数の貫通孔（図示せず）が穿設されている。描画テーブル１０１のＹ軸方向側面には、描画テーブル１０１に穿設された多数の貫通孔がすべて覆われる幅方向（Ｘ軸方向）のロールスクリーン１０２が設けられている。ロールスクリーン１０２は、通気性のないシール材が巻回されており、引出口にはシール材を引っ張り出す固定バー１０３が取り付けられている。描画テーブル１０１上の両側面には、ロールスクリーン１０２から引っ張り出したシール材を静止するため、固定バー１０３を引っかける固定ピン１０４が突設されている。
また、描画テーブル１０１の下部は、エア漏れがないように形成されたボックスになっている。このボックスの内部は、Ｘ軸方向に摺動するシール板１０５によって２室に分けられている。描画テーブル１０１の側部には、ボックス内のシール板１０５を目視することができるように、透明窓１１１が形成されている。シール板１０５は、ボックスに設けられたハンドル１０６を回転させることによりＸ軸方向に移動可能に構成されている。
描画テーブル１０１の描画対象物１１０下部には、ボックス内部のエアを吸い出すための排気口１０７が設けられている。排気口１０７には、ホース１０９を介して吸着装置１０８が接続されている。

図３に示す吸着エリア可変装置では、次のようにして描画テーブル１０１上に描画対象物１１０が固定される。
まず、描画対象物１１０を描画テーブル１０１上に配置する。また、描画対象物１１０で塞ぎきれない貫通孔をロールスクリーン１０２が覆う位置になるように固定バー１０３を固定ピン１０４に引っかけて、ロールスクリーン１０２で貫通孔を覆う。
一方、描画テーブル１０１に設けられた透明窓１１１からシール板１０５を目視して、描画対象物１１０の端面部にシール板１０５が配置されるようにハンドル１０６でシール板１０５を移動する。
次いで、吸着装置１０８でシール板１０５を挟んでハンドル１０６の反対側の描画テーブル１０１内部のエアを排気する。こうして、大気圧と描画テーブル１０１内部の負圧との差圧により、描画対象物１１０が固定される。
サイズの異なる描画対象物１１０を固定する場合には、上記の手順で描画対象物１１０で覆いきれない貫通孔を覆うことにより描画対象物１１０が固定される。

特開平１１−２６９１２号公報 特開２００１−１９９５７４号公報 特開２００５−１８９３６５号公報 特開平９−７６０８８号公報

しかしながら、上記のように、サイズの異なる被処理体を吸着して固定する度に、不使用の吸着領域をシール材などで覆ったりしていたのでは、作業効率が低くなるという問題がある。また、被処理体のサイズに応じて試料台自体を変更する場合も、同様に作業効率が低くなるという問題がある。

本発明は、上記のような従来の課題を解決するためになされたもので、サイズの異なる被吸着体を高い作業効率で簡単に吸着して固定することができる吸着装置および該吸着装置を備えた処理装置を提供することを目的としている。

すなわち、本発明の吸着装置のうち第１の本発明は、被吸着体を差圧により吸着する面状の吸着部を備え、該吸着部はそれぞれ独立して吸着動作が可能な複数の面状の吸着領域に区画され、それぞれの前記吸着領域に吸着用の通気孔が複数設けられており、
前記吸着部は、前記吸着領域の区画が異なるものに交換可能に基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられており、
前記吸着台に、前記通気孔に連通する隔室部が前記吸着領域ごとに設けられ、前記基台に前記複数の通気孔および前記隔室部を介して前記吸着領域にそれぞれ連通可能に複数の真空排気ラインが接続されていることを特徴とする。

第２の本発明の吸着装置は、前記第１の本発明において、前記基台は、前記吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部を備えることを特徴とする。

第３の本発明の吸着装置は、被吸着体を差圧により吸着する吸着部を備え、該吸着部は、それぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画され、基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられており、前記基台は、前記吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部を備えることを特徴とする。

第４の本発明の吸着装置は、前記第１〜第３の本発明のいずれかにおいて、前記基台に前記複数の通気孔および前記隔室部を介して前記吸着領域にそれぞれ連通可能に複数のガス供給ラインが接続されていることを特徴とする。

第５の本発明の吸着装置は、前記第１〜第４の本発明のいずれかにおいて、前記被吸着体は、フィルム材であることを特徴とする。

第６の本発明の吸着装置は、前記第５の本発明において、前記フィルム材は、長尺帯状の形状を有し、前記長尺の方向に沿って間欠的に搬送されつつ、前記吸着部上で前記吸着およびその解除がなされるものであり、前記複数の吸着領域は、前記搬送方向と直交する方向に並び、かつ前記搬送方向に沿って配置されていることを特徴とする。

第７の本発明の処理装置は、前記第１〜第６の本発明の吸着装置のいずれかと、
前記吸着部に吸着された前記被吸着体に対して所定の処理を施す処理部とを備えることを特徴とする。

第８の本発明の処理装置は、前記第７の本発明において、前記処理部は、前記被吸着体に対してレーザ加工を施すレーザ加工部であることを特徴とする。

すなわち、本発明によれば、差圧により被吸着体を吸着する吸着部が、それぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画されているので、被吸着体のサイズに応じて、複数の吸着領域のうち、被吸着体の吸着に必要な吸着領域のみを吸着動作させることができる。

したがって、吸着すべき被吸着体がサイズの異なるものに変更された場合には、被吸着体のサイズに応じて吸着動作させる吸着領域を適宜変更することにより、被吸着体のサイズの変更に容易に対応することができる。従来の吸着装置とは異なり、本発明の吸着装置では、吸着部における被吸着体の吸着に不要な領域を別途シール材などで覆う必要もない。

なお、吸着部を区画する吸着領域の数は、２以上であればよく、本発明としてはその数は限定されない。また、吸着領域の大きさや形状も特に限定されるものではなく、各吸着領域で大きさや形状が異なるものであってもよい。また、吸着動作がなされる１つの吸着領域は、面方向で連続しているものの他、他の吸着領域を挟んで離れて存在するものであってもよい。
なお、被吸着体が後述するように長尺形状を有する場合、被吸着体が配置される長尺の方向に吸着領域が伸長し、隣接する吸着領域が上記長尺方向と直交する方向に並設配置するものを例示することができる。この配置形態によれば、長尺形状の被吸着体の幅が異なる場合にも、吸着動作を行う吸着領域の数を変えることで容易に対応することができる。

吸着部によって被吸着体を吸着する構成としては、複数の吸着領域のそれぞれに、開閉弁が設けられた真空排気ラインを連通可能に接続した構成を用いることができる。複数の真空排気ラインには、それぞれに開閉弁が設けられているため、共通の真空ポンプに接続することができる。この場合、被吸着体の吸着に必要な吸着領域に接続された真空排気ラインの開閉弁を開放し、他の真空排気ラインの開閉弁を閉止すればよい。なお、少なくとも、吸着が行われる吸着領域に接続された、以下に述べるガス供給ラインの開閉弁は閉止しておく。これにより、開閉弁が開放された真空排気ラインを通じて、被吸着体の吸着に必要な吸着領域だけを真空排気して差圧を発生し、被吸着体を吸着することができる。また、吸着を行わない吸着領域では、ガス供給ラインの開閉弁を開けて雰囲気用にガスを放出することも可能である。
真空排気する際の真空度の程度は、被吸着体の吸着に必要とされる吸着力に応じて適宜設定することができる。
また、上記真空排気ラインの開閉弁の開閉は、被吸着体のサイズに応じて、作業者が手動で行ってもよいし、制御部により自動的に行ってもよい。

また、吸着部に吸着された被吸着体の吸着を解除するための構成としては、複数の吸着領域のそれぞれに、開閉弁が設けられたガス供給ラインを連通可能に接続した構成を用いることができる。複数のガス供給ラインには、それぞれに開閉弁が設けられているため、共通のガス供給源を接続することができる。この場合、上記真空排気ラインの閉会弁は閉止したうえで、被吸着体が吸着している吸着領域に接続されたガス供給ラインの開閉弁を開放し、他のガス供給ラインの開閉弁を閉止する。これにより、開閉弁が開放されたガス供給ラインを通じて、被吸着体が吸着している吸着領域だけにガスを供給して差圧を解消し、被吸着体の吸着を解除することができる。

なお、吸着を解除するために供給するガスとしては、被吸着体に影響を与えないものであることが望ましく、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガス、クリーンドライエアなどのエアを用いることができる。
また、上記ガス供給ラインの開閉弁の開閉は、被吸着体のサイズに応じて、作業者が手動で行ってもよいし、制御部により自動的に行ってもよい。

吸着部は、それぞれの吸着領域に吸着用の通気孔が複数設けられたものとすることができる。吸着用の通気孔としては、被吸着体を吸着するための差圧を発生することができるものであれば、あらゆる形態の通気孔を用いることができる。
例えば、被吸着体が支持される支持体自体を多孔質材で構成し、該多孔質材の気孔を吸着用の通気孔として用いることができる。多孔質材の気孔を吸着用の通気孔として用いることで、吸着用の通気孔として支持部を貫通する複数の貫通孔などを別途設ける必要がない。このため、被吸着体がフィルム材などのような容易に変形し得るものであっても、吸着されたフィルム材の平面度を保つことができるなど、被吸着体の形状を容易に維持することができる。
なお、吸着用の通気孔として、被吸着体が支持される支持体を貫通する複数の貫通孔を用いることもできる。貫通孔の孔径は、被吸着体のサイズ、剛性などに応じて適宜設定することができる。

複数の通気孔に対しては、該通気孔に連通する隔室部を吸着領域ごとに設けることができ、真空排気ラインとガス供給ラインとは、複数の通気孔および隔室部を介して吸着領域に連通可能に接続することができる。この場合、上記真空排気ラインを通じた吸着領域の真空排気は、隔室部および複数の通気孔を介して行われる。また、上記ガス供給ラインを通じた吸着領域へのガスの供給は、隔室部および複数の通気孔を介して行われる。

上記吸着部は、基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられているものとすることができる。吸着部が設けられた吸着台が基台に着脱自在に設置されているため、吸着台を容易に交換することができる。そこで、吸着部のサイズの異なる複数の吸着台を用意しておき、吸着動作させるべき吸着領域の変更では対応できないサイズの被吸着体の場合には、その被吸着体のサイズに対応し得るサイズの吸着部が設けられた吸着台に交換する。これにより、吸着動作させるべき吸着領域の変更では対応できないサイズの被吸着体についても容易に対応することができる。

吸着台が着脱自在に設置される基台は、吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部が設けられてたものとすることができる。吸着台吸着部には、真空排気ラインとガス供給ラインとを連通可能に接続し、各ラインに開閉弁を設けることができる。
この場合、基台に吸着台を設置固定する場合には、ガス供給ラインの開閉弁を閉止するとともに、真空排気ラインの開閉弁を開放し、真空排気ラインを通じて吸着台吸着部を真空排気して差圧を発生して吸着台を吸着する。また、吸着台の設置固定を解除する場合には、真空排気ラインの開閉弁を閉止するとともに、ガス供給ラインの開閉弁を開放し、ガス供給ラインを通じて吸着台吸着部にガスを供給して差圧を解消して吸着台の設置固定を解除する。

本発明の吸着装置で吸着の対象となる被吸着体は、差圧により吸着することができるものであれば、特に限定されるものではない。被吸着体としては、例えば、フィルム状、シート状、板状のものなどを挙げることができ、特に、フィルム材を好適な被吸着体として挙げることができる。
被吸着体としてのフィルム材は、特にその形状その他の形態が限定されるものではないが、例えば、フィルム材としては、長尺帯状の形状を有し、長尺の方向に沿って間欠的に搬送されるものを挙げることができる。間欠的に搬送されるフィルム材には、吸着部上で吸着およびその解除を行うことができる。また、この場合、複数の吸着領域は、フィルム材の搬送方向と直交する方向に並び、かつ搬送方向に沿って配置されているように区画することができる。

本発明の吸着装置は、該吸着装置に吸着された被吸着体に対して所定の処理を施す処理部とともに、処理装置を構成することができる。
処理部における処理内容は、本発明としては特に限定されるものではないが、例えば、被吸着体に対して、レーザ光による描画、切断、穴あけなどのレーザ加工を施すものなどを例示することができる。

以上のとおり、本発明によれば、被吸着体を差圧により吸着する吸着部を備え、該吸着部はそれぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画されているので、サイズの異なる被吸着体を高い作業効率で簡単に吸着して固定することができる。

本発明の一実施形態の吸着装置を示す概略平面図である。 同じく概略正面図である。 従来の吸着エリア可変装置を示す概略図である。

本発明の一実施形態の吸着装置を図１、２に基づいて説明する。図１は本実施形態の吸着装置を示す平面図、図２は本実施形態の吸着装置を含むレーザ加工装置を示す正面図である。
本実施形態の吸着装置３は、フィルム材２にレーザ加工を施すレーザ加工装置１に備えられたものであり、レーザ加工を施すフィルム材を吸着して固定する。レーザ加工装置１は、本発明の処理装置の一実施形態でもある。
図２に示すように、レーザ加工装置１は、フィルム材２を吸着して固定する吸着装置３と、吸着装置３に吸着固定されたフィルム材２にレーザ加工を施すレーザ加工部４とを備えている。

吸着装置３は、平板状の基台５と、基台５上に着脱自在に設置された直方体形状の吸着台６とを有している。

基台５は、内側に空洞部５１を有しており、空洞部５１には、基台５の外部一側方から内部に貫通する真空排気ライン７の一端が接続されている。真空排気ライン７は、開閉弁８が介設され、他端に真空ポンプ９が接続されている。
また、空洞部５１には、基台５の外部他側方から内部に貫通するガス供給ライン１０の一端が接続されている。ガス供給ライン１０は、開閉弁１１が介設され、他端にガス供給源１２が接続されている。
基台５の上面部には、吸着台６を差圧により吸着する吸着台吸着部５２が基台５の表面に露出して設けられている。吸着台吸着部５２には、吸着台吸着部５２の上面に開口し、空洞部５１に連通するように貫通する吸着用の通気孔（不図示）が複数設けられている。
吸着台吸着部５２の複数の通気孔は、好適には、面方向において均等に配列されている。なお、基台５の上面部における吸着台吸着部５２が設けられる領域を多孔質材で構成し、この多孔質材の気孔により吸着台吸着部５２の複数の通気孔を構成することもできる。

吸着台６の上層部には、フィルム材２を差圧により吸着する吸着部６１が吸着台６の表面に露出して設けられており、吸着部６１は、それぞれ独立して吸着動作可能な４つの吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄに区画されている。
吸着部６１は、矩形状の形状を有し、上面が平面になっている。吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄは、吸着部６１を短辺方向において複数に区画したものであり、各吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄは、吸着部６１の長辺方向に沿って吸着部６１の全長に亘っている。この実施形態では、吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄは同一形状を有している。ただし、本発明としては各吸着領域が同一形状を有することを要しない。

吸着台６は、各吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄに対応して内部に隔室部６３ａ、６３ｂ、６３ｃ、６３ｄを有している。また、吸着領域６２ａ〜６２ｄのそれぞれには、吸着領域６２ａ〜６２ｄの外部に開口し、かつ前記隔室部６３ａ〜６３ｄに連通するように吸着用の通気孔（不図示）が複数設けられている。なお、吸着領域６２ａは、上記通気孔によって隔室部６３ａにのみ連通し、吸着領域６２ｂは、上記通気孔によって隔室部６３ｂにのみ連通し、吸着領域６２ｃは、上記通気孔によって隔室部６３ｃにのみ連通し、吸着領域６２ｄは、上記通気孔によって隔室部６３ｄにのみ連通している。
吸着部６は、多孔質材で構成されており、この多孔質材の気孔により前記通気孔が構成されている。吸着部６１が多孔質材で構成されていることにより、フィルム材２は良好な平面度を有したままで吸着され、より高い精度でレーザ加工を行うことができる。なお、吸着部６を多孔質材で構成しないで、各吸着領域６２ａ〜６２ｄの複数の通気孔を面方向に均等に配列した複数の貫通孔により構成することもできる。

隔室部６３ａ〜６３ｄには、吸着部６１の短辺側外側壁の外方から吸着部６１内に貫通する真空排気ライン１３ａ〜１３ｄの一端がそれぞれ接続されている。
すなわち、隔室部６３ａに真空排気ライン１３ａが接続され、隔室部６３ｂに真空排気ライン１３ｂが接続され、隔室部６３ｃに真空排気ライン１３ｃが接続され、隔室部６３ｄに真空排気ライン１３ｄが接続されている。
真空排気ライン１３ａ〜１３ｄは、それぞれ開閉弁１４ａ〜１４ｄが介設され、他端に共通の真空ポンプ１５が接続されている。なお、真空ポンプ１５および真空ポンプ９として、共通の真空ポンプを用いてもよい。
また、隔室部６３ａ〜６３ｄには、吸着部６１の短辺側外側壁の外方から吸着部６１内に貫通するガス供給ライン１６ａ〜１６ｄの一端がそれぞれ接続されている。すなわち、隔室部６３ａにガス供給ライン１６ａが接続され、隔室部６３ｂにガス供給ライン１６ｂが接続され、隔室部６３ｃにガス供給ライン１６ｃが接続され、隔室部６３ｄにガス供給ライン１６ｄが接続されている。
ガス供給ライン１６ａ〜１６ｄは、それぞれ開閉弁１７ａ〜１７ｄが介設され、他端に共通のガス供給源１８が接続されている。なお、ガス供給源１８およびガス供給源１２として、共通のガス供給源を用いてもよい。

フィルム材２は長尺帯状の形状を有しており、吸着台６の両側には、フィルム材２をその長手方向に沿って間欠的に搬送する搬送ローラ１９ａおよび搬送ローラ１９ｂがそれぞれ配置されている。搬送ローラ１９ａ、１９ｂは、搬送ローラ１９ａ側から搬送ローラ１９ｂ側に向けて、吸着部６１上を通過するようにフィルム材２を搬送することができる。
なお、搬送ローラ１９ａの上流側には、レーザ加工を施すフィルム材２を巻き出す巻出機（不図示）が設けられている。また、搬送ローラ１９ｂの下流側には、レーザ加工が施されたフィルム材２を巻き取る巻取機（不図示）が設けられている。

吸着台６の上方には、レーザ加工部４が配置されている。レーザ加工部４は、加工用のレーザ光４１を出力するレーザ光源４２と、レーザ光源４２から出力されたレーザ光４１を吸着装置３に吸着固定されたフィルム材２に照射する光学系４３とを備えている。レーザ光源４２には、例えばＣＯ_２レーザなどを用いることができるが、本発明としてはレーザの種別が特に限定されるものではない。
光学系４３には、レーザ光４１を吸着台６上のフィルム材２へ反射して導波するミラー４３ａなどを有している。光学系４３は、そのほか、ホモジナイザやシリンドリカルレンズなどの適宜の光学系部材を有することができる。また、光学系４３は、レーザ光４１のフィルム材２上における照射位置を相対的に変化させることができ、レーザ光４１によりフィルム材２に描画などのレーザ加工を施すことができる。

次に、上記図１、２に示す吸着装置３およびこれを備えるレーザ加工装置１の動作について説明する。
以下では、フィルム材２が、吸着領域６２ａ〜６２ｄのうちの２領域分の幅のものである場合について説明する。
レーザ加工に先立ち、基台５上には、吸着部６１を有する吸着台６が設置されている。次いで、ガス供給ライン１０の開閉弁１１を閉止するとともに、真空排気ライン７の開閉弁８を開放する。この状態で、真空排気ライン７の他端に接続された真空ポンプ９により空洞部５１内を真空排気する。これにより、吸着台吸着部５２は、吸着台吸着部５２に設けられた複数の通気孔および空洞部５１を介して真空排気され、差圧により吸着台６が基台５上に吸着されて設置固定される。

次いで、搬送ローラ１９ａ、１９ｂにより吸着部６１上でフィルム材２を搬送し、レーザ加工を施すフィルム材２の部分を吸着部６１上に位置させて、フィルム材２の搬送を停止する。この際、吸着領域６２ａ〜６２ｄのうちの２領域分の幅を有するフィルム材２が、例えば吸着領域６２ｂ、６２ｃの２領域と重なるように、フィルム材２と吸着装置３との相対位置を予め設定しておく。

次いで、フィルム材２が重なっている吸着領域６２ｂ、６２ｃに対応する隔室部６３ｂ、６２ｃに接続された真空排気ライン１３ｂ、１３ｃの開閉弁１４ｂ、１４ｃを開放し、他の真空排気ライン１３ａ、１３ｄの開閉弁１４ａ、１４ｄを閉止する。なお、ガス供給ライン１６ａ〜１６ｄの開閉弁１７ａ〜１７ｄは、すべて閉止しておく。

次いで、真空ポンプ１５により真空排気ライン１３ｂ、１３ｃを通して隔室部６３ｂ、６３ｃの真空排気を行う。これにより、フィルム材２が重なっている吸着領域６２ｂ、６２ｃでは、吸着領域６２ｂ、６２ｃに設けられた複数の通気孔を通じて差圧が生じ、フィルム材２が吸着領域６２ｂ、６２ｃに吸着されて固定される。

フィルム材２を吸着領域６２ｂ、６２ｃに吸着して固定した後、レーザ光源４２からレーザ光４１を出力する。レーザ光４１は、光学系４３により、レーザ加工の内容に応じて所定の軌跡を描きつつ吸着台６上のフィルム材２に照射される。こうして、フィルム材２に対して、レーザ光４１によりレーザ加工が施される。

レーザ加工の終了後、隔室部６３ｂ、６３ｃに接続された真空排気ライン１３ｂ、１３ｃの開閉弁１４ｂ、１４ｃを閉止し、隔室部６３ｂ、６３ｃに接続されたガス供給ライン１６ｂ、１６ｃの開閉弁１７ｂ、１７ｃを開放する。なお、他のガス供給ライン１６ａ、１６ｄの開閉弁１７ａ、１７ｄは、閉止状態を維持する。

次いで、ガス供給源１８によりガス供給ライン１６ｂ、１６ｃを通して隔室部６３ｂ、６３ｃにガスを供給する。ガス供給源１８により供給するガスとしては、例えば、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガス、クリーンドライエアなどのエアを用いる。
これにより、フィルム材２が吸着されている吸着領域６２ｂ、６２ｃには、吸着領域６２ｂ、６２ｃに設けられた複数の通気孔を通じてガスが供給され、前記した差圧が解消されてフィルム材２の吸着が解除される。また、ガスの供給量によっては、フィルム材２を吸着部６１から押し剥がす作用も得られる。フィルム材２の吸着が解除された後、開閉弁１７ｂ、１７ｃを閉止する。

次いで、搬送ローラ１９ａ、１９ｂにより、吸着が解除されたフィルム材２を搬送し、次に処理を行う部分を吸着部６１上に位置させて、同様に処理を行う。
以後、上記と同様にして、フィルム材２の吸着、レーザ加工、フィルム材２の吸着の解除、およびフィルム材２の搬送を順次繰り返すことにより、長尺帯状のフィルム材２の各部分にレーザ加工を施すことができる。

次に、レーザ加工を施すフィルム材２が、吸着領域６２ａ〜６２ｄのうちの３領域分の幅のものに変更された場合について説明する。
まず、搬送ローラ１９ａ、１９ｂにより、幅の広いフィルム材２を搬送し、フィルム材２ａのレーザ加工を施す部分を吸着部６１上に位置させる。その後、フィルム材２の搬送を停止する。この際、吸着領域６２ａ〜６２ｄのうちの３領域分の幅を有するフィルム材２が、例えば吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃの３領域と重なるように、フィルム材２と吸着装置３との相対位置を予め設定しておく。

次いで、フィルム材２が重なっている吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃに対応する隔室部６３ａ〜６３ｃに接続された真空排気ライン１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開閉弁１４ａ、１４ｂ、１４ｃを開放し、他の真空排気ライン１３ｄの開閉弁１４ｄを閉止する。なお、ガス供給ライン１６ａ〜１６ｄの開閉弁１７ａ〜１７ｄは、すべて閉止しておく。

次いで、真空ポンプ１５により真空排気ライン１３ａ、１３ｂ、１３ｃを通して隔室部６３ａ、６３ｂ、６３ｃの真空排気を行う。これにより、フィルム材２が重なっている吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃでは、吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃに設けられた複数の通気孔を通じて差圧が生じ、フィルム材２が吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃに吸着されて固定される。

フィルム材２を吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃに吸着して固定した後、レーザ光源４２からレーザ光４１を出力する。レーザ光４１は、光学系４３により、レーザ加工の内容に応じて所定の軌跡を描きつつ吸着台６上のフィルム材２に照射される。こうして、フィルム材２に対して、レーザ光４１によりレーザ加工が施される。

レーザ加工の終了後、隔室部６３ａ、６３ｂ、６３ｃに接続された真空排気ライン１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開閉弁１４ａ、１４ｂ、１４ｃを閉止し、隔室部６３ａ、６３ｂ、６３ｃに接続されたガス供給ライン１６ａ、１６ｂ、１６ｃの開閉弁１７ａ、１７ｂ、１７ｃを開放する。なお、他のガス供給ライン１６ｄの開閉弁１７ｄは、閉止状態を維持する。

次いで、ガス供給源１８によりガス供給ライン１６ａ、１６ｂ、１６ｃを通して隔室部６３ａ、６３ｂ、６３ｃにガスを供給する。
これにより、フィルム材２が吸着されている吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃには、吸着領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃに設けられた複数の通気孔を通じてガスが供給され、前記した差圧が解消されてフィルム材２の吸着が解除される。また、ガスの供給によっては、フィルム材２を吸着部６１から押し剥がす作用も得られる。フィルム材２の吸着が解除された後、開閉弁１７ａ、１７ｂ、１７ｃを閉止する。

次いで、搬送ローラ１９ａ、１９ｂにより、吸着が解除されたフィルム材２を搬送し、次に処理を行う部分を吸着部６１上に位置させて、同様に処理を行う。
以後、上記と同様にして、フィルム材２の吸着、レーザ加工、フィルム材２の吸着の解除、およびフィルム材２の搬送を順次繰り返すことにより、長尺帯状のフィルム材２の各部分にレーザ加工を施すことができる。

以上のように、フィルム材２が幅の異なるものに変更された場合であっても、フィルム材２の幅に応じて、吸着動作させる吸着領域６２ａ〜６２ｄを適宜変更することで容易に対応することができる。したがって、フィルム材２の吸着固定の作業効率を向上することができ、ひいてはレーザ加工の作業効率をも向上することができる。

なお、フィルム材２の幅が、吸着領域６２ａ〜６２ｄの幅に対応しない場合、例えば、フィルム材の幅方向端部が吸着領域の央部などに位置する場合には、吸着台６を、吸着領域の幅がフィルム材２の幅に合ったものに交換することにより対応することができる。
吸着台６を交換する場合には、以下のようにして、基台５上に設置固定されている吸着台６を取り外した後、新たな吸着台を基台５上に設置固定する。

まず、真空排気ライン７の開閉弁８を閉止するとともに、ガス供給ライン１０の開閉弁１１を開放する。この状態で、ガス供給ライン１０の他端に接続されたガス供給源１２からガスの供給を行う。これにより、吸着台吸着部５２には、ガス供給ライン１０、空洞部５１、および吸着台空着部５２に設けられた複数の通気孔を通じてガスが供給される。この結果、吸着台６を吸着する差圧が解消されて、吸着台６の吸着が解除される。その後、吸着が解除された吸着台６を基台５上から取り外す。

次いで、基台５上に、レーザ加工を施すフィルム材２のサイズに対応したサイズの吸着領域を有する新たな吸着台（図示しない）を設置する。次いで、ガス供給ライン１０の開閉弁１１を閉止するとともに、真空排気ライン７の開閉弁８を開放する。この状態で、真空排気ライン７の他端に接続された真空ポンプ９により真空排気する。これにより、吸着台吸着部５２は、吸着台吸着部５２に設けられた複数の通気孔および空洞部５１を介して真空排気される。この結果、差圧により新たな吸着台が基台５上に吸着されて設置固定される。
このように、吸着台を容易に交換することができるため、吸着動作させるべき吸着領域６２ａ〜６２ｄの変更では対応できないサイズのフィルム材２についても容易に対応することができる。また、変更した吸着台では、吸着領域の幅に合えば、さらにサイズの異なるフィルム材２に対しレーザ加工を行うことができる。

なお、上記実施形態では、長尺帯状の形状を有するフィルム材２を吸着するものについて説明したが、フィルム材２は、長尺帯状の形状を有するものに限定されるものではなく、あらゆる形状を有するものであってよい。

また、上記実施形態では、フィルム材２を吸着装置３に吸着し、フィルム材２に対してレーザ加工を施すものについて説明したが、吸着装置２に吸着される被吸着体は、フィルム材に限定されるものではなく、差圧により吸着することができるものであればよい。また、被吸着体に施す処理もレーザ加工に限定されるものでなく、種々の処理を施すことができる。

また、上記実施形態では、吸着部６１が４つの吸着領域６２ａ〜６２ｄに区画されているものについて説明したが、吸着領域の数や吸着部の区画の態様は、上記内容に限定されるものではなく、吸着すべき被吸着体のサイズ、形状などに応じて適宜変更することができる。

１ レーザ加工装置
２ フィルム材
３ 吸着装置
４ レーザ加工部
５ 基台
５２ 吸着台吸着部
６ 吸着台
６１ 吸着部
６２ａ〜６２ｄ 吸着領域
６３ａ〜６３ｄ 隔室部
７ 真空排気ライン
８ 開閉弁
１０ ガス供給ライン
１１ 開閉弁
１３ａ〜１３ｄ 真空排気ライン
１４ａ〜１４ｄ 開閉弁
１６ａ〜１６ｄ ガス供給ライン
１７ａ〜１７ｄ 開閉弁
１９ａ、１９ｂ 搬送ローラ

Claims (8)

1. 被吸着体を差圧により吸着する面状の吸着部を備え、該吸着部はそれぞれ独立して吸着動作が可能な複数の面状の吸着領域に区画され、それぞれの前記吸着領域に吸着用の通気孔が複数設けられており、
   前記吸着部は、前記吸着領域の区画が異なるものに交換可能に基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられており、
   前記吸着台に、前記通気孔に連通する隔室部が前記吸着領域ごとに設けられ、前記基台に前記複数の通気孔および前記隔室部を介して前記吸着領域にそれぞれ連通可能に複数の真空排気ラインが接続されていることを特徴とする吸着装置。
2. 前記基台は、前記吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部を備えることを特徴とする請求項１記載の吸着装置。
3. 被吸着体を差圧により吸着する吸着部を備え、該吸着部は、それぞれ独立して吸着動作が可能な複数の吸着領域に区画され、基台に着脱自在に設置された吸着台に設けられており、
   前記基台は、前記吸着台を差圧により吸着して設置固定する吸着台吸着部を備えることを特徴とする吸着装置。
4. 前記基台に前記複数の通気孔および前記隔室部を介して前記吸着領域にそれぞれ連通可能に複数のガス供給ラインが接続されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の吸着装置。
5. 前記被吸着体は、フィルム材であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の吸着装置。
6. 前記フィルム材は、長尺帯状の形状を有し、前記長尺の方向に沿って間欠的に搬送されつつ、前記吸着部上で前記吸着およびその解除がなされるものであり、
   前記複数の吸着領域は、前記搬送方向と直交する方向に並び、かつ前記搬送方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項５記載の吸着装置。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の吸着装置と、
   前記吸着部に吸着された前記被吸着体に対して所定の処理を施す処理部とを備えることを特徴とする処理装置。
8. 前記処理部は、前記被吸着体に対してレーザ加工を施すレーザ加工部であることを特徴とする請求項７記載の処理装置。

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