JP5184283B2 - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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Description
(媒体製造)
図1は、本実施の形態に係る磁気ディスク100の構成を説明する図である。同図に示す磁気ディスク100は、ディスク基板110、磁気記録層120、媒体保護層130、潤滑層140を有して構成される。
図2は、本実施の形態に係る磁気ディスク100の製造方法の流れを説明するためのフローチャートである。
まず磁気ディスク100を回転させ、回転により磁気ディスク100の上方に磁気ヘッドを浮上させる(ステップS10)。次に、磁気ディスク100を一定の速度で回転させた状態で、測定装置内の気圧を段階的に減少させることにより磁気ヘッドを磁気ディスク100の表面に接触させ、接触したときの圧力(TDP)を測定する(ステップS11)。接触を確認した後に気圧を段階的に増加させて、磁気ヘッドが浮上したときの圧力(TOP)を測定する(ステップS12)。このとき気圧の減少・増加速度の絶対値は等しいものとする。
本実施例において、外径65mm、内径20mm、ディスク厚0.635mmのディスク基板110上に、真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にてAr雰囲気中で、磁気記録層120から潤滑層140まで順次成膜を行った。このとき、媒体保護層130はCVD法によりC2H4及びCNを用いて成膜し、潤滑層140はディップコート法によりPFPEを用いて形成した。
図3は、本実施例における磁気ディスク100のTOPを測定した結果を説明するための図であり、例として磁気ディスク#1を測定した結果を示す。本実施例におけるTOP測定には、Kubota Comps株式会社製の磁気ディスクテストシステムHDF tester 2007を用いた。図3では縦軸に磁気ヘッドに与えられる振動を検出したAE電圧を示し、横軸に測定環境気圧を示しており、縦軸のAE電圧が検出限界値である2Vとなると磁気ヘッドが磁気ディスク100の表面に接触したことを示す。
次に、磁気ディスク#1、磁気ディスク#2について、再度、磁気ディスク100上に、磁気ヘッドをロードさせ、気圧を5(Torr/sec)刻みで減少させて磁気ヘッドを磁気ディスク100の表面に接触させた後に、得られたTOPを含む所定の気圧間としてTOP±50(Torr)の幅で磁気ディスク100の気圧を100(Torr/sec)で増加させた。
110 ディスク基板
120 磁気記録層
130 媒体保護層
140 潤滑層
200 磁気ヘッドのスライダ
300 メニスカス
300a 移着潤滑剤
Claims (4)
- 最上層に潤滑層を有する磁気ディスクの前記潤滑層を評価する評価工程を含む製造方法であって、前記評価工程は、前記磁気ディスクを回転させて前記磁気ディスクの上方に磁気ヘッドを浮上させる磁気ヘッド浮上工程と、前記磁気ディスクを回転させた状態で、測定環境の気圧を徐々に減少させて前記磁気ヘッドを前記磁気ディスクの表面に接触させた後、前記測定環境の気圧を徐々に増加させて前記磁気ヘッドが前記磁気ディスクの表面から浮上したときの圧力を測定するTOP測定工程と、前記TOP測定後の前記磁気ヘッドのスライダ表面への潤滑剤の付着量に基づき、前記磁気ディスクの浮上特性の合否を判定する第1ヘッド判定工程と、前記磁気ディスクを回転させた状態でTOP測定圧力以下の気圧において前記測定環境の気圧を急速に増加させて前記磁気ヘッドを前記磁気ディスクの表面から引き離す急速離脱工程と、前記磁気ヘッドのスライダ表面への潤滑剤の付着量に基づき、前記磁気ディスクの浮上特性の合否を判定する第2ヘッド判定工程と、を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
- 前記TOP測定工程における気圧の増加速度をA(Torr/sec2)とし、前記急速離脱工程における気圧の増加速度をB(Torr/sec2)とした場合、絶対値がB≧10Aであることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスクの製造方法。
- 前記磁気ディスクは、ロード・アンロード方式のハードディスクドライブ装置に用いられる磁気ディスクであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の磁気ディスクの製造方法。
- 前記磁気ディスクは、2.5インチ以下の直径を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008253081A JP5184283B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 磁気ディスクの製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008253081A JP5184283B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010086591A JP2010086591A (ja) | 2010-04-15 |
JP5184283B2 true JP5184283B2 (ja) | 2013-04-17 |
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ID=42250392
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008253081A Expired - Fee Related JP5184283B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5184283B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209716A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-14 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 磁気記録媒体 |
JP2001056928A (ja) * | 1999-08-19 | 2001-02-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JP2001143255A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-05-25 | Sony Corp | 磁気記録媒体の評価方法 |
JP4474376B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2010-06-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスクの評価方法 |
JP2007095176A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Hitachi Metals Ltd | 浮上ヘッドの離脱特性の評価方法および離脱特性評価装置 |
JP2007272995A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Hoya Corp | 磁気ディスク装置および非磁性基板の良否判定方法、磁気ディスク、並びに磁気ディスク装置 |
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2008
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Publication number | Publication date |
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JP2010086591A (ja) | 2010-04-15 |
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Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125 Year of fee payment: 3 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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