JP5178495B2 - 試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 - Google Patents
試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5178495B2 JP5178495B2 JP2008324894A JP2008324894A JP5178495B2 JP 5178495 B2 JP5178495 B2 JP 5178495B2 JP 2008324894 A JP2008324894 A JP 2008324894A JP 2008324894 A JP2008324894 A JP 2008324894A JP 5178495 B2 JP5178495 B2 JP 5178495B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- wafer
- foreign matter
- adsorption
- hand
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
2,2a ウェーハ
3 搬送ロボット
4 試料吸着ハンド
5 アライナー
6 真空予備室
7 ホルダ
8 針
9,10 ゲートバルブ
11 試料室
12 ステージ
13 電子光学系鏡筒
14,14a 接触面
15 ノズル
16 吸引口
17,18,20 流路
19 真空吸着口
A 気体
B 気体源
P 異物
R,Ra 密閉空間
V1,V2 真空源
Claims (3)
- 試料を吸着する吸着機構と、当該吸着機構によって吸着された試料を搬送する搬送ロボットを備えた試料搬送装置であって、前記吸着機構が設けられ、当該吸着機構による試料の吸着によって、前記試料に接触する接触面を有し、当該接触面と前記試料との接触によって前記吸着機構とは別の位置に閉空間が形成される形状を有するハンドを備え、当該ハンドの前記閉空間には、前記試料が前記吸着機構に吸着されているときに、前記閉空間内で前記試料に気体を吹付けるための吹付口と、当該閉空間内の気体を吸引するための吸引口が内在していることを特徴とする試料搬送装置。
- 請求項1において、
前記閉空間内での気体の吹付け及び吸引は、前記吸着機構による試料の吸着後に行われることを特徴とする試料搬送装置。 - 試料カセット内に保持される試料を吸着機構によって吸着しつつ搬送するハンドを備えた搬送機構と、
当該搬送機構によって搬送された試料に電子ビームを照射する電子顕微鏡鏡体を備えた走査電子顕微鏡であって、
当該電子ビームが照射される試料に電圧を印加するための接触端子を備え、 前記試料に対する当該接触端子の接触個所に付着する異物を除去するための異物除去機構が、前記搬送機構に設けられると共に、
当該異物除去機構は、
前記吸着機構による試料の吸着によって、前記試料に接触する接触面を有し、
前記吸着機構によって前記試料が吸着されているときに、前記ハンドの前記吸着機構とは別の位置に形成される閉空間内に内在する前記試料に気体を吹付けるための吹付口と、当該閉空間内の気体を吸引するための吸引口を有し、
前記試料カセットに向かって搬送される試料に付着した異物を除去するように動作することを特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008324894A JP5178495B2 (ja) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | 試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008324894A JP5178495B2 (ja) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | 試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010146927A JP2010146927A (ja) | 2010-07-01 |
JP2010146927A5 JP2010146927A5 (ja) | 2011-05-12 |
JP5178495B2 true JP5178495B2 (ja) | 2013-04-10 |
Family
ID=42567103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008324894A Expired - Fee Related JP5178495B2 (ja) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | 試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5178495B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106158714A (zh) * | 2015-05-15 | 2016-11-23 | 苏斯微技术光刻有限公司 | 用于操作对准晶片对的装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6609448B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2019-11-20 | 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス | 試料搬送装置 |
JP7497150B2 (ja) * | 2019-12-03 | 2024-06-10 | キヤノン株式会社 | 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
CN111710628B (zh) * | 2020-06-03 | 2023-04-28 | 西安交通大学 | 一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58141536A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体ウエハ−の吸着ヘツド |
JPH0650987Y2 (ja) * | 1985-07-02 | 1994-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | ウエハ吸着保持装置 |
JPS6371141U (ja) * | 1986-10-24 | 1988-05-13 | ||
JPH0750336A (ja) * | 1993-08-04 | 1995-02-21 | Hitachi Ltd | 差動排気型真空吸着治具 |
JP4642787B2 (ja) * | 2006-05-09 | 2011-03-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び縦型熱処理装置 |
-
2008
- 2008-12-22 JP JP2008324894A patent/JP5178495B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106158714A (zh) * | 2015-05-15 | 2016-11-23 | 苏斯微技术光刻有限公司 | 用于操作对准晶片对的装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010146927A (ja) | 2010-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8585112B2 (en) | Sample conveying mechanism | |
JP2009032877A (ja) | 基板搬送モジュール及び基板処理システム | |
JP5580806B2 (ja) | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2007266058A (ja) | 常温接合装置 | |
JP5178495B2 (ja) | 試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡 | |
WO2013136982A1 (ja) | 剥離装置、剥離システム及び剥離方法 | |
US20100264330A1 (en) | Charged particle beam application apparatus | |
KR101837227B1 (ko) | 박리 장치, 박리 시스템, 박리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 | |
US20140158303A1 (en) | Bonding system, substrate processing system, and bonding method | |
US9105446B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US8409328B2 (en) | Substrate transfer device and substrate transfer method | |
KR101805964B1 (ko) | 박리 시스템, 박리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 | |
JP2016105458A (ja) | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | |
CN112640039A (zh) | 接合系统以及接合方法 | |
JP2007265971A (ja) | ウエハホルダ、試料作製装置 | |
JP2009302415A (ja) | 荷電粒子線装置,試料保持システム,試料の保持方法、および、試料の離脱方法 | |
KR20230118995A (ko) | 메인터넌스 장치, 진공 처리 시스템 및 메인터넌스 방법 | |
JPH11354621A (ja) | 光照射による除電方法及びこれを用いた処理装置 | |
JPH0596057U (ja) | クリーニングウエーハ | |
US8110818B2 (en) | Method of controlling particle absorption on a wafer sample being inspected by a charged particle beam imaging system | |
US10847495B2 (en) | Bonding system and bonding method | |
US20080217534A1 (en) | Scanning Electron Microscope | |
JP4883712B2 (ja) | ウエハアース機構及び試料作製装置 | |
JP2015088620A (ja) | 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JPH1174182A (ja) | マスク搬送装置及びマスクステージ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110228 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121211 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130108 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5178495 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |