JP5172571B2 - エレクトロウエッティングディスプレイ - Google Patents

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Description

本発明は、エレクトロウエッティングディスプレイに関する。
情報機器の普及に伴い、各種の表示装置が開発されている。エレクトロウエッティングディスプレイ(Electro−wetting Display)は、近年表示装置に応用された新技術であって、低消費電力・広視角・速い応答時間などの特性を有するので、研究及び重視の程度が倍増している。
図1は、従来のエレクトロウエッティングディスプレイの一部拡大断面図である。前記エレクトロウエッティングディスプレイ10は、互いに対向配置された第一基板11及び第二基板18と、前記第一基板11と第二基板18との間に配置されたマトリックス型の回路層12と、疎水性絶縁層13と、親油性の複数の突起(Pixel Wall)14と、第一流体15と、第二流体16と、を備える。
前記回路層12は、前記第二基板18の表面に配置されている。前記疎水性絶縁層13は、前記回路層12を覆い、AF1600のような疎水性の透明なアモルファス・フルオロポリマーから構成される。前記複数の突起14は、格子構造で前記疎水性絶縁層13の表面に配置され、隣り合う突起14が限定する最小ユニットは、1つの画素ユニットRを構成する。前記複数の画素ユニットRは、長尺の長方形であり、互いに平行し且つ相対する2つの短辺及び前記2つの短辺に直交する2つの長辺を備える。前記第一流体15は、隣り合う突起14の間に前記疎水性絶縁層13の上に封入され、不透明なオイルまたはセタンのようなパラフィンである。前記第二流体16は、前記第一流体15と前記第一基板11の間に封入され、前記第一流体15と互いに混和しなく(Immiscible)、水または塩の水溶液に溶解する透明導電性液体である。例えば、水とエチルアルコールの混合物に溶解される塩化カリウムの水溶液が挙げられる。
図2は、図1に示すエレクトロウエッティングディスプレイ10の回路層12の1つの画素ユニットRに対応した部分の構造を示す平面図である。前記回路層12は、互いに平行する複数のゲートライン121と、前記ゲートライン121に絶縁的に直交する複数のデータライン122及び複数の共通信号ライン123を備える。前記ゲートライン121とデータライン122は、前記複数の突起14に対応して配置される。即ち、前記ゲートライン121及びデータライン122が限定する最小区域は、前記画素ユニットRに対応する。前記最小区域毎は、1つの薄膜トランジスタ124及び1つの画素電極125を備え、前記薄膜トランジスタ124は、前記ゲートライン121と前記データライン122が交差する所に配置され、ゲート電極140、ソース電極150及びドレイン電極160を備え、前記ゲート電極140は、前記ゲートライン121に電気接続され、前記ソース電極150は、前記データライン122に電気接続され、前記ドレイン電極160は、前記画素電極125に電気接続される。前記画素電極125は、前記最小区域において、前記薄膜トランジスタ124を配置された所から以外の区域にL字型に配置される。前記共通信号ライン123はそれぞれ、前記ゲートライン121に平行して前記最小区域を貫いて、且つ隣り合う画素ユニットRのゲートライン121に近接して配置され、製造過程において、前記共通信号ライン123と隣り合う画素ユニットRのゲートライン121との間に短絡現象が発生することを防止するために、前記共通信号ライン123は、隣り合う画素ユニットRのゲートライン121に約10〜20umの距離を保持するとともに、前記共通信号ライン123の該画素ユニットRの薄膜トランジスタ124に隣り合う側から1つの共通電極パッド127が延びている。前記共通電極パッド127、前記画素電極125及び両者の間に配置される絶縁層(図示せず)は、1つの積蓄容量126を構成する。
開通電圧を印加すると、前記ゲートライン121によって前記薄膜トランジスタ124のゲート電極140が開通する。データ電圧は、前記データライン122と、前記薄膜トランジスタ124のソース電極150及びドレイン電極160を順番に通じてから前記画素電極250に印加されるとともに、共通電圧が前記共通信号ライン123を通じて前記第二流体16に持続的に印加される。前記画素電極125と前記第二流体16との間の電圧差が閾値電圧より小さい時、前記第一流体15は、前記画素ユニットR内の疎水性絶縁層13の上を平坦的に覆い、前記第二流体16と前記第一流体15が積み重ね、入射光は、前記第一流体15に吸収されるため、前記画素ユニットRが暗い状態になる。反して、前記画素電極125と前記第二流体16との間の電圧差が閾値電圧より大きい時、第二流体16が第一流体15を押し出すことにより、前記第一流体15が薄膜トランジスタ124領域に移動し、従って前記第二流体16と前記疎水性絶縁層13との間の接触面積を増大させ、前記画素電極125と前記第二流体16との間の電圧差が段階的に増大する時、前記画素ユニットRが異なる階調を表示する。理想状態で、前記画素電極125と前記第二流体16との間の電圧差が標準最大である時、前記第一流体15全部が薄膜トランジスタ124領域に集まるため、入射光は、前記第二流体16を通じて出射し、前記エレクトロウエッティングディスプレイ10の対応する画素ユニットRが明るい状態になる。
図3は、図2に示す回路層12の1つの画素ユニットRに対応する部分の分布状態を示す平面図である。前記画素ユニットRは、薄膜トランジスタ区域R1、積蓄容量区域R2及び画素電極区域R3を備える。前記薄膜トランジスタ区域R1は、前記薄膜トランジスタ124が配置された区域である。前記積蓄容量区域R2は、前記積蓄容量126及び前記共通信号ライン123が配置された区域である。前記画素電極区域R3は、L字型区域であり、前記画素電極125が配置され、前記薄膜トランジスタ区域R1に平行に配置された区域Xを備える。前記エレクトロウエッティングディスプレイ10にとって、前記画素電極125と前記第二流体16との間に印加する電圧差が最大になる時、それ自身不透明的な前記薄膜トランジスタ区域R1及び積蓄容量区域R2を除いて、前記画素ユニットR内の区域Xに対応する前記第一流体15は、前記突起14との吸引力がその他の区域より強いため、区域Xに残っていることによって、入射光が区域Xにある第一流体15に吸収されるため、前記画素ユニットR内の区域Xは、光が透過しなくなる。また、前記薄膜トランジスタ124の周辺区域Yの電場が弱いため、該区域Yに対応した第一流体15は、全部が薄膜トランジスタ区域R1に集まることができないので、また部分的に第一流体15は区域Yに残っていて、区域Yが、光を透過しなくなる。従って、前記エレクトロウエッティングディスプレイ10は、薄膜トランジスタ区域R1、積蓄容量区域R2、区域X及び区域Yにおいて光が全部透過しなく、前記画素ユニットRの開口率(Aperture Ratio)は、60%以内である。また、区域X及び区域Yに残った第一流体15を全体的に薄膜トランジスタ区域R1に移動させるため、更に大きい電圧を印加する必要があり、定額以外の消費電力を浪費する。
本発明の目的は、前記課題を解決し、開口率が大きく、且つ定額以外の消費電力を浪費しないエレクトロウエッティングディスプレイを提供することである。
前記目的を達成するため、本発明は、互いに対向配置された第一基板及び第二基板と、前記第二基板の対向面側に格子構造で配置されて、複数の画素ユニットを定義する複数の突起と、隣り合うつの突起の間の画素ユニットに封入された非導電性な第一流体と、前記第一流体と前記第一基板の間に封入され、且つ前記第一流体と互いに混和しない導電性又は極性液体である第二流体と、を備え、前記画素ユニットはそれぞれ、互いに平行な第一の短い突起及び第二の短い突起と、2つの短い突起に直交する2つの長い突起と、前記第一の短い突起と第二の短い突起との間に平行して前記第一の短い突起に近接して配置され、且つ前記第一の短い突起に隣り合う側から1つの共通電極パッドが延びた1つの共通信号ラインと、1つの積蓄容量と、少なくとも1つの薄膜トランジスタとを備えるエレクトロウエッティングディスプレイであって、前記1つの積蓄容量及び少なくとも1つの薄膜トランジスタが、前記共通信号ラインと、前記第一の短い突起と、2つの長い突起と共に限定される区域に配置されており、前記少なくとも1つの薄膜トランジスタのドレイン電極から1つのドレイン電極パッドが延び、前記ドレイン電極パッドが、前記共通電極パッド及び前記共通信号ラインと部分的に重なり前記積蓄容量を構成していることを特徴とするエレクトロウエッティングディスプレイを提供する。
前記エレクトロウエッティングディスプレイは、積蓄容量と少なくとも1つの薄膜トランジスタの全部が画素ユニットの前記共通信号ラインと、前記第一短辺と、2つの長辺と共に限定される区域に配置され、従って前記画素電極と前記第二流体との間に最大電圧差を印加する時、前記第一流体は、それ自身不透明な積蓄容量少なくとも1つの薄膜トランジスタが配置された区域に集まるため、駆動電圧を増大しないでも、前記エレクトロウエッティングディスプレイが、大きいな開口率を得ることができる。
図4は、本発明の第1実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの一部断面図である。前記エレクトロウエッティングディスプレイ30は、互いに対向配置された第一基板31及び第二基板38と、前記第一基板31と第二基板38との間に配置されたマトリックス型の回路層32と、疎水性絶縁層33と、親油性の複数の突起(Pixel Wall)34と、第一流体35と、第二流体36と、を備える。
前記回路層32は、前記第二基板38の表面に配置されている。前記疎水性絶縁層33は、前記回路層32を覆い、AF1600のような疎水性の透明なアモルファス・フルオロポリマーから構成される。前記複数の突起34は、格子構造で前記疎水性絶縁層33の表面に配置され、隣り合う突起34が限定する最小ユニットは、1つの画素ユニットPである。前記複数の画素ユニットPは、長尺の長方形であり、互いに平行し且つ相対する第一短辺、第二短辺及び前記2つの短辺に直交する2つの長辺を備える。前記第一流体35は、隣り合う突起34の間に前記疎水性絶縁層33の上に封入され、不透明なオイルまたはセタンのようなパラフィンである。前記第二流体36は、前記第一流体35と前記第一基板31の間に封入され、前記第一流体35と互いに混和しなく(Immiscible)、水または塩の水溶液に溶解する透明導電性液体である。例えば、水とエチルアルコールの混合物に溶解される塩化カリウムの水溶液が挙げられる。
図5は、図4に示すエレクトロウエッティングディスプレイ30の回路層32の1つの画素ユニットPに対応した部分の構造を示す平面図である。前記回路層32は、互いに平行する複数のゲートライン311と、前記ゲートライン311に絶縁的に直交する複数のデータライン312及び複数の共通信号ライン313を備える。前記ゲートライン311とデータライン312は、前記複数の突起34に対応して配置され、即ち前記ゲートライン311及びデータライン312が限定する最小区域は、前記画素ユニットPに対応する。前記共通信号ライン313はそれぞれ、前記隣り合う2つのゲートライン311に平行して前記最小区域を貫いて、前記第一短辺に前記2つの短辺の間の距離の長さの約三分の一になるように配置され、前記共通信号ライン313の前記第一短辺に隣り合う側から1つの共通電極パッド314が前記共通信号ライン313に直交するように延び、前記共通電極パッド314の延びた長さが前記2つの短辺の間の距離の長さの0.1〜0.25倍である。前記最小区域は、第一薄膜トランジスタ315と、第二薄膜トランジスタ316及び画素電極317を備える。前記画素電極317は、前記最小区域内に連続的に分布され、且つ前記共通信号ライン313と、前記第一短辺と2つの長辺と共に限定される非透過区域P1に前記画素電極317が分布しなくなる1つの欠口318を備え、前記第一薄膜トランジスタ315と、前記第二薄膜トランジスタ316及び前記共通電極パッド314は、前記欠口318に対応して配置される。
図6〜図7を共に参照する。図6は、図5の線VI−VIに沿った断面拡大図であり、図7は、図5の線VII−VIIに沿った断面拡大図である。前記第一薄膜トランジスタ315は、第一ゲート電極320と、第一ソース電極321と、第一ドレイン電極323と、第一絶縁層324及び第一半導体層325を備える。前記第二薄膜トランジスタ316は、第二ゲート電極330と、第二ソース電極331と、第二ドレイン電極333及び第二半導体層335を備える。前記第一ゲート電極320、第二ゲート電極330及び共通電極パッド314は、前記第二基板38の上に配置され、前記第一ゲート電極320及び第二ゲート電極330は、別々に前記ゲートライン311に電気接続される。前記第一絶縁層324は、前記前記第一ゲート電極320、第二ゲート電極330、共通電極パッド314及び第二基板38の電気素子が配置されない表面を覆う。前記第一半導体層325は、前記第一ゲート電極320に対応して前記第一絶縁層324の上に配置される。前記第二半導体層335は、前記第二ゲート電極330に対応して前記第一絶縁層324の上に配置される。前記第一ソース電極321と第一ドレイン電極323は、対向して前記第一半導体層325に部分的に重なり、前記第一ソース電極321はまた、前記データライン312に電気接続される。前記第二ソース電極331は、前記第一ドレイン電極323から延びて形成され、前記第二ドレイン電極333と対向するように配置されて前記第二半導体層335に部分的に重なる。前記第二ドレイン電極333の前記共通電極パッド314に隣り合う側から1つのドレイン電極パッド334が延び、前記ドレイン電極パッド334は、前記共通電極パッド314に重なり、又前記共通信号ライン313と部分的に重ねる。前記ドレイン電極パッド334、前記共通電極パッド314及び両者の間に配置された前記第一絶縁層324は、1つの積蓄容量336を構成する。
前記最小区域に対応された回路層32は、第二絶縁層340及び接続孔350を更に備える。前記第二絶縁層340は、前記第一薄膜トランジスタ315と、前記第二薄膜トランジスタ316と、前記積蓄容量336と、前記ドレイン電極パッド334とを覆う。前記接続孔350は、前記画素電極317と前記ドレイン電極パッド334との交差して重なる処に配置されるため、前記画素電極317は、前記接続孔350及びドレイン電極パッド334を通じて前記第二ドレイン電極333に電気接続される。
開通電圧を印加して、前記ゲートライン311によって第一ゲート電極320と第二ゲート電極330をオンにする。データ電圧は、前記データライン312と、第一ソース電極321と、第一ドレイン電極323と、第二ソース電極331と、第二ドレイン電極333と、ドレイン電極パッド334と、接続孔350とを順番に通じて前記画素電極317に印加され、共通電圧が前記第二流体36に持続的に印加される。前記画素電極317と前記第二流体36との間の電圧差が閾値電圧より小さい時、前記第一流体35は、前記画素ユニットP内の疎水性絶縁層33の上を平坦的に覆い、前記第二流体36と前記第一流体35が積み重なる。入射光は、前記第一流体35に吸収されるため、前記画素ユニットPが暗い状態になる。反して、前記画素電極317と前記第二流体36との間の電圧差が閾値電圧より大きい時、第二流体36は第一流体35を押し出すことにより、前記第一流体35が2つの薄膜トランジスタ315,316領域に移動し、前記第二流体36と前記疎水性絶縁層33との間の接触面積を増大させ、前記画素電極317と前記第二流体36との間の電圧差が段階的に増大する時、前記画素ユニットPは異なる階調を表示する。
図8は、図4に示すエレクトロウエッティングディスプレイ30の1つの画素ユニットPの分布状態を示す平面図である。前記画素ユニットPは、並行配列された非透過区域P1及び透過区域P2を備える。前記非透過区域P1は、薄膜トランジスタ区域P11及び積蓄容量区域P12を備える。前記薄膜トランジスタ区域P11は、前記第一薄膜トランジスタ315及び前記第二薄膜トランジスタ316が配置された区域である。前記積蓄容量区域P12は、前記積蓄容量336及び前記共通信号ライン313が配置された区域である。前記透過区域P2は、前記画素電極317が配置される。
前記エレクトロウエッティングディスプレイ30では、積蓄容量336と2つの薄膜トランジスタ315、316の全部が前記画素ユニットPの同側に配置され、即ち前記前記積蓄容量336と2つの薄膜トランジスタ315、316が、前記非透過区域P1に配置される。前記画素電極317と前記第二流体36との間に最大電圧差を印加する時、従来の技術の第一流体が残るので光が透過しない区域(例えば、図3に示す区域Xと区域Y)には、それ自身不透明な積蓄容量336が配置される。従って駆動電圧を増大しないでも、前記エレクトロウエッティングディスプレイ30は、大きな開口率を得ることができる。
また、前記積蓄容量336は、前記ドレイン電極パッド334、前記共通電極パッド314及び両者の間に配置された前記第一絶縁層324から構成され、前記画素電極317、前記共通電極パッド314及び両者の間に配置された前記第一絶縁層324から構成されない、前記積蓄容量336の2つの電極の間の距離が小さく、同じ容量が必要とされる条件であれば、前記ドレイン電極パッド334と前記共通電極パッド314との重なる面積を減少させることができる。即ち、前記積蓄容量336の断面の面積を減少して、前記エレクトロウエッティングディスプレイ30の開口率を増大させることができる。
図9〜図11を共に参照する。図9は、本発明の第2実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の構造を示す平面図であって、図10は、図9のその他の内容を示す図であり、図11は、図10の線XI−XIに沿った断面拡大図である。本実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの構造は、第1実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイ30の構造と類似するが、異なるのは、共通電極パッド414の幅が、画素ユニットNの長辺の長さの0.1〜0.25倍である点である。画素電極417は、前記共通電極パッド414の幅と同じ幅で前記画素ユニットNに連続的に分布される。前記第一薄膜トランジスタ415の第一ゲート電極と前記第二薄膜トランジスタ416の第二ゲート電極は、1つのゲート電極パッド420を一緒に用いて、前記ゲート電極パッド420は、ゲートライン411から前記画素ユニットNの内に延びた長方形構造であり、それの長さL1が前記画素ユニットNの短辺の長さの0.7〜0.98倍であり、幅W1が前記画素ユニットNの長辺の長さの0.12倍である。第一絶縁層424は、前記ゲート電極パッド420、共通電極パッド414及び前記第二基板48の表面を覆う。前記第一薄膜トランジスタ415の第一半導体層425と前記第二薄膜トランジスタ416の第二半導体層435は、間隔を置いて、前記ゲート電極パッド420に対応するように前記第一絶縁層424の上に配置される。前記第一薄膜トランジスタ415の第一ソース電極421と第一ドレイン電極423は、前記第一半導体層425を通じて電気接続し、且つ前記第一ソース電極421は、前記データライン412に接続する。前記第二薄膜トランジスタ416の第二ソース電極431は、前記第一ドレイン電極423に電気接続し、第二ドレイン電極433の前記共通電極パッド414に隣り合う側から前記共通電極パッド414と重なる1つのドレイン電極パッド434が延びている。前記ドレイン電極パッド434の長さが前記ゲート電極パッド420の長さL1と大体同じであり、且つ製造の制御が容易であるため、前記ドレイン電極パッド434または前記共通電極パッド414と前記ゲート電極パッド420との間の隙間Dは、図2に示す共通信号ラインと隣り合う画素ユニットのゲートラインとの間の距離より小さく、本実施形態で隙間Dは3〜10μmであって、クロストーク(Crosstalk)の発生を防止することができる。別に、前記ドレイン電極パッド434、前記共通電極パッド414及び両者の間に配置された前記第一絶縁層424は、1つの積蓄容量436を構成する。前記画素電極417と前記ドレイン電極パッド434との交差して重なる処に1つの接続孔450が配置されるため、前記画素電極417は、前記接続孔450及びドレイン電極パッド434を通じて前記第二ドレイン電極433に電気接続する。
前記エレクトロウエッティングディスプレイ40では、前記積蓄容量436と2つの薄膜トランジスタ415、416の全部が前記画素ユニットNの同側に配置され、即ち従来の技術の原本不透明な薄膜トランジスタの周辺区域(例えば、図3に示す区域Y)にそれ自身不透明な積蓄容量436が配置され、従って前記画素電極417と前記第二流体46との間に最大電圧差を印加する時、不透明な第一流体45は、それ自身不透明な前記積蓄容量436と2つの薄膜トランジスタ415、416が配置された区域に集まる。従って、光の透過区域面積が増大し、前記エレクトロウエッティングディスプレイ40の開口率が増大する。また、前記隙間Dは、図2に示す共通信号ラインと隣り合う画素ユニットのゲートラインとの間の距離より小さいので、前記積蓄容量436と2つの薄膜トランジスタ415、416から構成される不透明面積は、前記共通信号ラインと2つの薄膜トランジスタを画素ユニットの透明区域の両側に配置される時に構成される不透明面積より小さいため、開口率が更に増大する。また、前記積蓄容量436は、前記ドレイン電極パッド434、前記共通電極パッド414及び両者の間に配置された前記第一絶縁層424から構成され、前記積蓄容量436の2つの電極の間の距離が小さく、前記積蓄容量436の断面の面積を減少させて、前記エレクトロウエッティングディスプレイ40の開口率を更に増大させることができる。
図12は、本発明の第3実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の構造を示す平面図である。本実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの構造は、第2実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイ40の構造と類似するが、異なるのは、本実施形態のエレクトロウエッティングディスプレイ50の回路層52が、画素ユニットM毎にただ1つの薄膜トランジスタ515を備える点である。前記薄膜トランジスタ515は、ゲート電極520と、ソース電極521と、ドレイン電極523と、半導体層525と、絶縁層(図示せず)とを備える。前記ゲート電極520は、ゲートライン511から前記画素ユニットMの内に延びた長方形構造であり、前記ゲート電極520の前記ゲートライン511から延びた長さL2は、前記画素ユニットMの短辺の長さの0.7〜0.98倍であり、幅W2は、前記画素ユニットMの長辺の長さの0.12倍である。前記絶縁層は、前記ゲート電極520と第二基板(図示せず)の表面を覆う。前記半導体層525は、前記ゲート電極520に対応して前記第一絶縁層の上に配置される。前記ドレイン電極521は、データライン512から前記画素ユニットMの内に延びて形成し、前記ドレイン電極523は、前記半導体層535を通じてソース電極521に電気接続し、且つその末端に共通電極パッド514と重なったドレイン電極パッド534が延びていて、且つ前記ドレイン電極パッド534と前記ゲート電極520との間の隙間D’は、図2に示す共通信号ラインと隣り合う画素ユニットのゲートラインとの間の距離より小さく、本実施形態で隙間D’は3〜10μmであって、クロストーク(Crosstalk)の発生を防止することができる。また、前記ドレイン電極パッド534、前記共通電極パッド514及び両者の間に配置された前記第一絶縁層は、1つの積蓄容量536を構成する。前記画素電極517と前記ドレイン電極パッド534との交差して重なる処に1つの接続孔550が配置されるため、前記画素電極517は、前記接続孔550及びドレイン電極パッド534を通じて前記ドレイン電極523に電気接続する。
前記エレクトロウエッティングディスプレイ50は、前記積蓄容量536及び薄膜トランジスタ515の全部が前記画素ユニットMの同側に配置され、即ち従来の技術の元々不透明な薄膜トランジスタの周辺区域(例えば、図3に示す区域Y)にそれ自身不透明な積蓄容量536配置されている。従って、前記画素電極517と前記第二流体56との間に最大電圧差を印加する時、不透明な第一流体55は、それ自身不透明な前記積蓄容量536と薄膜トランジスタ515が配置された区域に集まり、光が透過区域面積を増大し、前記エレクトロウエッティングディスプレイ50の開口率が増大する。また、前記隙間D’は、図2に示す共通信号ラインと隣り合う画素ユニットのゲートラインとの間の距離より小さいので、前記積蓄容量536と薄膜トランジスタ515から構成される不透明面積は、前記共通信号ラインと薄膜トランジスタを画素ユニットの透明区域の両側に配置する時に構成される不透明面積より小さいため、開口率が更に増大する。また、前記積蓄容量536は、前記ドレイン電極パッド534、前記共通電極パッド514及び両者の間に配置された前記第一絶縁層から構成され、前記積蓄容量536の2つの電極の間の距離が小さく、前記積蓄容量536の断面の面積を減少させて、前記エレクトロウエッティングディスプレイ50の開口率を更に増大させることができる。
上述したエレクトロウエッティングディスプレイ30、40、50の各々の薄膜トランジスタのゲート電極の材料は、アルミニウム又はAlNd系合金であり、ソース電極及びドレイン電極の材料は、モリブデン又は三層構造のアルミニウム―ニッケル―ランタンである。電圧の増加のない状態で、前記エレクトロウエッティングディスプレイ30、40、50の共通信号ライン313,413,513と前記画素ユニットP、N、Mの第一短辺との間の距離が、前記2つの短辺の間の距離の0.2〜0.5倍であるので、全てにおいて開口率が増大する。前記共通信号ライン313,413,513と前記画素ユニットP、N、Mの第一短辺との間の距離は、前記2つの短辺の間の距離の三分の一である時、開口率は66.6%である。第1実施形態のエレクトロウエッティングディスプレイ30において、第一流体が残るので元々光が透過しない区域Xを更に利用したので、開口率は70%以上である。前記第一基板に、前記第二基板のゲートラインと、データラインと、前記共通信号ラインと、前記第一短辺と、2つの長辺と共に限定される区域に対応する1つのブラックマトリックスを備える。
従来のエレクトロウエッティングディスプレイの一部拡大断面図である。 図1に示すエレクトロウエッティングディスプレイの回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の構造を示す平面図である。 図2に示す回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の分布状態を示す平面図である。 本発明の第1実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの一部断面図である。 図4に示すエレクトロウエッティングディスプレイの回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の構造を示す平面図である。 図5の線VI−VIに沿った断面拡大図である。 図5の線VII−VIIに沿った断面拡大図である。 図4に示すエレクトロウエッティングディスプレイの1つの画素ユニットの分布状態を示す平面図である。 本発明の第2実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の構造を示す平面図である。 図9のその他の内容を示す図である。 図10の線XI−XIに沿った断面拡大図である。 本発明の第3実施形態に係るエレクトロウエッティングディスプレイの回路層の1つの画素ユニットに対応する部分の構造を示す平面図である。
符号の説明
30 エレクトロウエッティングディスプレイ
31 第一基板
311、411、511 ゲートライン
312、412、512 データライン
313、413、513 共通信号ライン
314、414、514 共通電極パッド
315、415 第一薄膜トランジスタ
316、416 第二薄膜トランジスタ
317、417、517 画素電極
318、418 欠口
32、42、52 回路層
320 第一ゲート電極
321、421 第一ソース電極
323、423 第一ドレイン電極
324、424、524 第一絶縁層
325、425 第一半導体層
33 疎水性絶縁層
330 第二ゲート電極
331 第二ソース電極331
333、433 第二ドレイン電極
334、434、534 ドレイン電極パッド
335、435 第二半導体層
336、436、536 積蓄容量
34 突起
340 第二絶縁層
35 第一流体
350、450、550 接続孔
36 第二流体
38、48 第二基板
420 ゲート電極パッド
515 薄膜トランジスタ
520 ゲート電極
521 ソース電極
523 ドレイン電極
525 半導体層
P、N、M 画素ユニット
P1、N1 非透過区域
P11 薄膜トランジスタ区域
P12 積蓄容量区域
P2 透過区域
D、D’ 隙間
L1、L2 長さ
W1、W2 幅

Claims (7)

  1. 互いに対向配置された第一基板及び第二基板と、前記第二基板の対向面側に格子構造で配置されて、複数の画素ユニットを定義する複数の突起と、隣り合う2つの突起の間の画素ユニットに封入された非導電性な第一流体と、前記第一流体と前記第一基板の間に封入され、且つ前記第一流体と互いに混和しない導電性又は極性液体である第二流体と、を備え、前記画素ユニットがそれぞれ、互いに平行な第一の短い突起及び第二の短い突起と、2つの短い突起に直交する2つの長い突起と、前記第一の短い突起と第二の短い突起との間に平行して前記第一の短い突起に近接して配置され、且つ前記第一の短い突起に隣り合う側から1つの共通電極パッドが延びた1つの共通信号ラインと、1つの積蓄容量と、少なくとも1つの薄膜トランジスタとを備えるエレクトロウエッティングディスプレイであって、
    前記1つの積蓄容量及び少なくとも1つの薄膜トランジスタが、前記共通信号ラインと、前記第一の短い突起と、2つの長い突起と共に限定される区域に配置されており、
    前記少なくとも1つの薄膜トランジスタのドレイン電極から1つのドレイン電極パッドが延び、前記ドレイン電極パッドが、前記共通電極パッド及び前記共通信号ラインと部分的に重なり前記積蓄容量を構成していることを特徴とするエレクトロウエッティングディスプレイ。
  2. 前記第二基板の上に、互いに平行な複数のゲートライン及び前記ゲートラインに絶縁的に直交する複数のデータラインが更に配置され、前記複数のゲートライン及び複数のデータラインは、前記複数の突起に対応して配置されていることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウエッティングディスプレイ。
  3. 前記共通信号ラインと前記第一の短い突起との間の距離は、前記第一の短い突起と第二の短い突起との間の距離の0.2〜0.5倍であることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウエッティングディスプレイ。
  4. 前記共通電極パッドの前記共通信号ラインから延びた長さは、前記第一の短い突起と第二の短い突起との間の距離の0.1〜0.25倍であることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウエッティングディスプレイ。
  5. 前記第二基板の上の各々の画素ユニットに、前記共通信号ラインと、前記第一の短い突起と2つの長い突起と共に限定される区域を部分的に覆う1つの画素電極を更に備えることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウエッティングディスプレイ。
  6. 前記第二基板の上に1つの疎水性絶縁層を更に備えることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウエッティングディスプレイ。
  7. 前記第一基板に、前記第二基板のゲートラインと、データラインと、前記共通信号ラインと、前記第一の短い突起と、2つの長い突起と共に限定される区域に対応する1つのブラックマトリックスを備えることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロウエッティングディスプレイ。
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