JP5171214B2 - フォトニック結晶を用いた波長板の製造方法 - Google Patents
フォトニック結晶を用いた波長板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5171214B2 JP5171214B2 JP2007289544A JP2007289544A JP5171214B2 JP 5171214 B2 JP5171214 B2 JP 5171214B2 JP 2007289544 A JP2007289544 A JP 2007289544A JP 2007289544 A JP2007289544 A JP 2007289544A JP 5171214 B2 JP5171214 B2 JP 5171214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wave plate
- photonic crystal
- transparent substrate
- phase difference
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Optical Head (AREA)
Description
この発明の波長板は、基本的に、一方向に周期凹凸構造を有する透明基板と、屈折率の異なる2種類以上の透明体を周期凹凸構造上に積層した多層膜よりなる積層周期構造体とを備え、透明基板上に積層周期構造体を形成してなるフォトニック結晶波長板であり、所望の位相差を高精度で得るための基準が設けられている。
前記「位相差を測定する工程」は、位相差測定器を用いて測定し、位相差測定器に対して、前記フォトニック結晶波長板を回転させて、前記所望の位相差を与えるときの回転角:θcを測定して基準調整値:Δθcとする工程である。
また、前記「基準を設定する工程」は、前記透明基板に予め形成されたオリエンタルフラットを基準として、前記フォトニック結晶波長板を方位軸方向に基準調整値:Δθcだけ回転して、波長板の基準を設定する工程である。
1.透明基板1の屈折率
2.低屈折率層2の屈折率
3.低屈折率層2の膜厚dL
4.高屈折率層3の屈折率
5.高屈折率層3の膜厚dH
6.周期凹凸構造の周期P
7.周期凹凸構造(V字状)の傾斜θv
を基本として、さらには
8.高屈折率層3と低屈折率層2の積層する層数もしくは周期数
9.積層周期毎の膜厚dLおよび膜厚dH
以上により構成されるパラメータを所望の特性が得られる値に整合させる。
(数1)
位相差(δ)=(λ/180)×θdeg
λは光の波長であり位相差測定器で用いる光源の測定に使用した波長となる。
2 低屈折率層
3 高屈折率層
4 多層膜
7 波長板
8 フォトニック結晶波長板
9 外形
10 真空槽
11 基板ホルダー
12 エッチング源
13 第1のターゲット
14 第2のターゲット
15 反応源
Claims (7)
- 一方向に周期凹凸構造を有する透明基板と、屈折率の異なる2種類以上の透明体を前記周期凹凸構造上に積層した多層膜よりなる積層周期構造体とを備え、前記透明基板上に前記積層周期構造体を形成してなり、所望の位相差のフォトニック結晶波長板を製造する方法であって、
予めオリエンタルフラットが形成された透明基板の一方向に、周期凹凸構造を形成する工程と、
積層周期構造体として前記周期凹凸構造上に屈折率の異なる2種類以上の透明体を積層して多層膜を形成する工程と、
前記透明基板上に前記積層周期構造体を形成したフォトニック結晶波長板の位相差を、
位相差測定器を用いて測定し、位相差測定器に対して、前記フォトニック結晶波長板を回転させて、前記所望の位相差を与えるときの回転角:θcを測定して基準調整値:Δθcとする工程と、
前記オリエンタルフラットを基準として、前記フォトニック結晶波長板を方位軸方向に基準調整値:Δθcだけ回転して、波長板の基準を設定する工程とからなることを特徴とするフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。 - 前記透明基板の一方向に周期凹凸構造を形成する工程において、前記透明基板の両方の面に周期凹凸構造を形成し、前記周期凹凸構造上に屈折率の異なる2種類以上の透明体を積層した多層膜よりなる積層周期構造体を設けてフォトニック結晶波長板を形成することを特徴とする請求項1記載のフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。
- 前記フォトニック結晶波長板において、透明基板と積層周期構造体の多層膜との中間に反射防止機能を形成する工程を設けたことを特徴とする請求項1または2記載のフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。
- 前記フォトニック結晶波長板において、積層周期構造体となる多層膜の表面に反射防止機能を形成する工程を設けたことを特徴とする請求項1、2または3記載のフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。
- 前記反射防止機能が、1種類もしくは複数種類の透明体よりなり単層もしくは複数層の光学薄膜であることを特徴とする請求項3または4記載のフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。
- 前記フォトニック結晶波長板において、所望の位相差とするために、方位軸方向に回転させて切り出す工程を設けたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。
- 前記フォトニック結晶波長板において、積層周期構造体となる多層膜として積層する透明体が、SiO 2 およびAl 2 O 3 およびTa 2 O 5 およびNb 2 O 5 およびTiO 2 のいずれかにより構成されることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに1項に記載のフォトニック結晶を用いた波長板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007289544A JP5171214B2 (ja) | 2007-11-07 | 2007-11-07 | フォトニック結晶を用いた波長板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007289544A JP5171214B2 (ja) | 2007-11-07 | 2007-11-07 | フォトニック結晶を用いた波長板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009116077A JP2009116077A (ja) | 2009-05-28 |
JP5171214B2 true JP5171214B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=40783280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007289544A Expired - Fee Related JP5171214B2 (ja) | 2007-11-07 | 2007-11-07 | フォトニック結晶を用いた波長板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5171214B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001051122A (ja) * | 1999-06-01 | 2001-02-23 | Autocloning Technology:Kk | 複屈折性周期構造体、位相板、回折格子型の偏光ビームスプリッタ及びそれらの作製方法 |
JP2001256654A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Optware:Kk | 光情報記録装置、光情報再生装置、光情報記録再生装置および光情報記録媒体 |
JP3616349B2 (ja) * | 2001-04-04 | 2005-02-02 | 有限会社オートクローニング・テクノロジー | 偏光素子付き磁気光学結晶板 |
WO2004113974A1 (ja) * | 2003-06-25 | 2004-12-29 | Photonic Lattice Inc. | 偏光子および偏光分離素子 |
JP5056059B2 (ja) * | 2006-02-21 | 2012-10-24 | 旭硝子株式会社 | 広帯域波長板 |
JP2007304629A (ja) * | 2007-08-27 | 2007-11-22 | Nec Corp | 2次元あるいは3次元フォトニック結晶への反射防止膜の構造およびその形成方法 |
-
2007
- 2007-11-07 JP JP2007289544A patent/JP5171214B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009116077A (ja) | 2009-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2011162331A1 (ja) | 波長板の製造方法 | |
JP2008216644A (ja) | 複屈折板および光ヘッド装置 | |
JP2001051122A (ja) | 複屈折性周期構造体、位相板、回折格子型の偏光ビームスプリッタ及びそれらの作製方法 | |
WO2011049144A1 (ja) | 反射型波長板および光ヘッド装置 | |
JP5171227B2 (ja) | フォトニック結晶を用いた光アイソレータとその製造方法 | |
JP4009044B2 (ja) | 薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置 | |
JP4300784B2 (ja) | 光ヘッド装置 | |
JP2011187139A (ja) | グレーティング素子及びその製造方法、並びに、そのグレーティング素子を用いた光ピックアップ装置 | |
JP5171214B2 (ja) | フォトニック結晶を用いた波長板の製造方法 | |
JP5228805B2 (ja) | 積層1/4波長板 | |
JP6122045B2 (ja) | 波長板の製造方法 | |
JP5056059B2 (ja) | 広帯域波長板 | |
JP4218393B2 (ja) | 光ヘッド装置 | |
JP2007280460A (ja) | 光ヘッド装置 | |
JP5131244B2 (ja) | 積層位相板及び光ヘッド装置 | |
JP2005293849A (ja) | 光ヘッド装置 | |
JP3616349B2 (ja) | 偏光素子付き磁気光学結晶板 | |
WO2009107355A1 (ja) | 紫外線用自己クローニングフォトニック結晶 | |
JP5508295B2 (ja) | 光ピックアップ用1/4波長板 | |
KR100968208B1 (ko) | 원편광 변환 소자 및 휘도 향상 소자와 그 제작 방법 | |
JP2006134535A (ja) | ビームスプリッタ及び光ピックアップ装置 | |
JP2005339595A (ja) | 光ヘッド装置 | |
KR100536186B1 (ko) | 광대역 위상지연판 및 이를 갖는 광학소자 및/또는광헤드장치 | |
JP4876826B2 (ja) | 位相差素子および光ヘッド装置 | |
JP2013012273A (ja) | 反射型広帯域波長板および光ヘッド装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100806 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100809 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121101 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5171214 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |