JP5158331B2 - Euv露光装置 - Google Patents
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Description
基材上に設けられる全てのMo-Siペア層数が40であり、基材直上の第1番目のMo-Siペア層から第14番目のMo-Siペア層におけるMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくなるように設定されると共に、第15番目以降のMo-Siペア層にはMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくないものが含まれる多層膜反射鏡、又は、基材上にMoを主成分とするMo層とSiを主成分とするSi層とからなるMo-Siペア層を交互に設け、Mo-Siペア層上に、吸収パターンが形成された吸収層を設けた多層膜反射マスクであって、基材上に設けられる全てのMo-Siペア層数が40であり、基材直上の第1番目のMo-Siペア層から第14番目のMo-Siペア層におけるMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくなるように設定されると共に、第15番目以降のMo-Siペア層にはMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくないものが含まれる多層膜反射マスク、のいずれかを用いたことを特徴とするEUV露光装置である。
Claims (1)
- 基材上にMoを主成分とするMo層とSiを主成分とするSi層とからなるMo-Siペア層を交互に設けた多層膜反射鏡であって、
基材上に設けられる全てのMo-Siペア層数が40であり、基材直上の第1番目のMo-Siペア層から第14番目のMo-Siペア層におけるMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくなるように設定されると共に、第15番目以降のMo-Siペア層にはMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくないものが含まれる多層膜反射鏡、
又は、
基材上にMoを主成分とするMo層とSiを主成分とするSi層とからなるMo-Siペア層を交互に設け、Mo-Siペア層上に、吸収パターンが形成された吸収層を設けた多層膜反射マスクであって、
基材上に設けられる全てのMo-Siペア層数が40であり、基材直上の第1番目のMo-Siペア層から第14番目のMo-Siペア層におけるMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくなるように設定されると共に、第15番目以降のMo-Siペア層にはMo層の厚さとSi層の厚さとが等しくないものが含まれる多層膜反射マスク、
のいずれかを用いたことを特徴とするEUV露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007219228A JP5158331B2 (ja) | 2007-08-27 | 2007-08-27 | Euv露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007219228A JP5158331B2 (ja) | 2007-08-27 | 2007-08-27 | Euv露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009052998A JP2009052998A (ja) | 2009-03-12 |
JP5158331B2 true JP5158331B2 (ja) | 2013-03-06 |
Family
ID=40504206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007219228A Active JP5158331B2 (ja) | 2007-08-27 | 2007-08-27 | Euv露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5158331B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010118437A (ja) * | 2008-11-12 | 2010-05-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 多層膜反射鏡、多層膜反射マスク及びそれらを用いたeuv露光装置 |
DE102009017095A1 (de) * | 2009-04-15 | 2010-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
DE102009032779A1 (de) * | 2009-07-10 | 2011-01-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0634107B2 (ja) * | 1986-06-18 | 1994-05-02 | キヤノン株式会社 | X線用多層膜反射鏡 |
JP2831349B2 (ja) * | 1986-12-25 | 1998-12-02 | キヤノン株式会社 | X線又は真空紫外線用多層膜反射鏡 |
US6643353B2 (en) * | 2002-01-10 | 2003-11-04 | Osmic, Inc. | Protective layer for multilayers exposed to x-rays |
JP2007057450A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡および露光装置 |
JP2007163180A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Canon Inc | 軟x線多層膜ミラー |
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2007
- 2007-08-27 JP JP2007219228A patent/JP5158331B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009052998A (ja) | 2009-03-12 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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