JP5150147B2 - 厚さ計測装置及び研削装置 - Google Patents
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Description
(Zi/cosα)=(Li/sin2α)・・・(1)
Zi=Li/2sinα・・・(2)
T=(Y+y)−(X+x)・・・(3)
h=T=(Y+y)−(X+x)・・・(4)
h=T=(Y+y)−(X+x)=y−x・・・(5)
2:検出手段
20:第一室
200:レーザー発光部 201:スケール素子
21:第二室 210:側壁 211:水供給部
22:仕切り壁 23a:発光レンズ 23b:受光レンズ
24:水源
3:駆動手段
30:回転軸 31:アーム部 32:回動モータ 33:ボールネジ
34:昇降モータ 35:ガイド枠 36:読み取りヘッド 37:リニアスケール
4:制御手段
40:厚さ方向位置記憶部 41:上面位置記憶部 42:仕上がり値記憶部
43:演算部 44:監視部
5:チャックテーブル 5a:上面
6a:レーザー光 6b、6c:反射光
7:研削装置
70:チャックテーブル 700:基台 701:ジャバラ
71:研削手段
710:スピンドル 711:スピンドルハウジング 712:モータ
713:ホイールマウント 714:研削ホイール 715:研削砥石
72:研削送り手段
720:ボールネジ 721:ガイドレール 722:パルスモータ 723:昇降部
Claims (6)
- チャックテーブルに保持されたウェーハの厚さまたはウェーハの研削量を計測する厚さ計測装置であって、
所定の入射角をもってレーザー光を発光するレーザー発光部と、該レーザー光の反射光の受光位置を認識して該反射光の受光位置から該レーザー光の反射位置の厚さ方向の位置を算出するスケール素子と、該レーザー発光部と該スケール素子とが収容される第一室と、該レーザー光が反射する位置を覆う第二室と、該第一室と該第二室とを仕切る仕切り壁と、該第二室に水を供給して水で満たす水供給部とから構成される検出手段と、
該検出手段を移動させる駆動手段と
から構成され、
該検出手段は該厚さ方向に移動可能であり、
該検出手段の該厚さ方向の位置を認識すると共に該駆動手段を制御して該検出手段の該厚さ方向の位置を制御する制御手段を備え、
該制御手段は、該反射光受光時における該検出手段の厚さ方向の位置を記憶する厚さ方向位置記憶部と、該スケール素子によって算出される該反射位置の厚さ方向の位置を記憶する上面位置記憶部と、該ウェーハの所望研削量または所望仕上がり厚さを記憶する仕上がり値記憶部とを少なくとも備えた厚さ計測装置。 - 前記厚さ方向位置記憶部には、前記チャックテーブルで反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第一の位置情報Xと前記ウェーハで反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第二の位置情報Yとが記憶され、
前記上面位置記憶部には、該チャックテーブルの上面位置が前記スケール素子によって算出されて第一の上面位置情報xとして記憶されると共に該ウェーハの上面位置が前記スケール素子によって算出されて第二の上面位置情報yとして記憶され、
前記制御手段には、
ウェーハの厚さT=(Y+y)−(X+x)
を演算する演算部を備えた請求項1に記載の厚さ計測装置。 - 前記厚さ方向位置記憶部には、研削中のウェーハの研削面で反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第一の位置情報Xと研削前のウェーハで反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第二の位置情報Yとが記憶され、
前記上面位置記憶部には、該研削中のウェーハの研削面の位置が前記スケール素子によって算出されて第一の上面位置情報xとして記憶されると共に該研削前のウェーハの上面位置が前記スケール素子によって算出されて第二の上面位置情報yとして記憶され、
前記制御手段には、
ウェーハの研削量h=(Y+y)−(X+x)
を演算する演算部を備えた請求項1に記載の厚さ計測装置。 - ウェーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハを研削する研削手段と、該チャックテーブルに保持されたウェーハの厚さを計測する厚さ計測装置とを少なくとも備えた研削装置であって、
該厚さ計測装置は、所定の入射角をもってレーザー光を発光するレーザー発光部と、該レーザー光の反射光の受光位置を認識して該反射光の受光位置から該レーザー光の反射位置の厚さ方向の位置を算出するスケール素子と、該レーザー発光部と該スケール素子とが収容される第一室と、該反射位置を覆う第二室と、該第一室と第二室とを仕切る仕切り壁と、該第二室に水を供給して水で満たす水供給部とから構成される検出手段と、
該検出手段を移動させる駆動手段と
から構成され、
該検出手段は該厚さ方向に移動可能であり、
該検出手段の該厚さ方向の位置を認識すると共に該駆動手段を制御して該検出手段の該厚さ方向の位置を制御する制御手段を備え、
該制御手段は、反射光受光時における該検出手段の厚さ方向の位置を記憶する厚さ方向位置記憶部と、該スケール素子によって算出される該反射位置の厚さ方向の位置を記憶する上面位置記憶部と、該ウェーハの所望研削量または所望仕上がり厚さを記憶する仕上がり値記憶部とを少なくとも備えた研削装置。 - 前記厚さ方向位置記憶部には、前記チャックテーブルで反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第一の位置情報Xと前記ウェーハで反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第二の位置情報Yとが記憶され、
前記上面位置記憶部には、該チャックテーブルの上面位置が前記スケール素子によって算出されて第一の上面位置情報xとして記憶されると共に該ウェーハの上面位置が前記スケール素子によって算出されて第二の上面位置情報yとして記憶され、
前記制御手段には、
ウェーハの厚さT=(Y+y)−(X+x)
を演算する演算部を備え、
前記仕上がり値記憶部に所望仕上がり厚さT1が記憶されており、
該制御手段には、T=T1となった時に研削を終了する監視部を備えた請求項4に記載の研削装置。 - 前記厚さ方向位置記憶部には、研削中のウェーハの研削面で反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第一の位置情報Xと研削前のウェーハで反射した反射光の受光時の検出手段の厚さ方向位置情報である第二の位置情報Yとが記憶され、
前記上面位置記憶部には、該研削中のウェーハの研削面の位置が前記スケール素子によって算出されて第一の上面位置情報xとして記憶されると共に該研削前のウェーハの上面位置が前記スケール素子によって算出されて第二の上面位置情報yとして記憶され、
前記制御手段には、
ウェーハの研削量h=(Y+y)−(X+x)
を演算する演算部を備えた請求項4に記載の研削装置。
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