JP5145042B2 - 可動な平らなターゲットを用いて材料を飛散させるためのスパッタ装置及び方法 - Google Patents
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Description
1a 側壁または狭幅の両側面部
1b 下側または前面部
1c 内部領域
1d 上側または後面部
2 ターゲット
2a ターゲットの表面
3 磁気装置
4 ターゲット底板
5 冷却通路
6 アノード装置
6a 定置アノード
6b 可動アノード
7 カソード供給導線
8 ステータ
9 ロータ
10 暗室遮蔽体
11 取付けフランジ
12a ギャップ
12b ギャップ
12c ギャップ
12d ギャップ
12e ギャップ
13 絶縁構造体
14 真空室壁
15 磁石
16 ターゲット囲繞体
16a 側壁または狭幅の側面部
16b 上方の壁
17 絶縁エレメント
18 取付けフランジ
L 行程
V 真空室
Claims (20)
- 真空室内で材料を飛散させるためのスパッタ装置であって、
平らでかつカソードとして機能する少なくとも1つのターゲットを有するターゲット装置と、
該ターゲット装置に適合させた方形の内部領域を有し、かつ固定設置された定置のターゲット囲繞体と、
前記ターゲット装置を駆動させるための駆動装置と、
カソードとして機能する前記ターゲットに対応して配置された少なくとも1つのアノードを有するアノード装置と、
前記ターゲットの飛散表面からの材料の遊離を助けるための磁場を発生させ、かつ固定設置された定置の磁気装置と
を備え、前記ターゲットが非回転対称的に設けられ、該ターゲットが、ターゲット装置を用いて一平面内で可動する形式のものにおいて、
前記少なくとも1つのアノードが、
固定設置された少なくとも1つの定置アノードと、
前記ターゲット装置に連結され、前記ターゲット装置と共に可動する少なくとも1つの可動アノードと
を有するスプリットアノードで構成してなることを特徴とするスパッタ装置。 - 前記ターゲットが、方形のターゲットプレートとして構成される請求項1記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲット装置は、内部領域を備えたターゲットケーシングを有し、
前記磁気装置は、前記ターゲットケーシングの内部領域に配置され、そして、
前記ターゲット囲繞体は、前記ターゲットケーシングが配置された内部領域を有する請求項1または2記載のスパッタ装置。 - 前記ターゲットケーシングが、前面部と後面部と狭幅の両側面部とを有する方形ケーシングとして構成され、前記ターゲットが、前記ターゲットケーシングの前面部の領域に配置されている、請求項3記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲットケーシングの少なくとも1つの外側面に、寄生プラズマを抑制するための暗室遮蔽体が配置されている、請求項3又は4記載のスパッタ装置。
- 前記暗室遮蔽体が、前記方形ケーシングの前記側面部の表面の少なくとも部分領域、又は前記前面部の表面の少なくとも部分領域に配置されている請求項5記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲットケーシングの後面部に絶縁構造体が配置されており、該絶縁構造体が、前記ターゲットケーシングを駆動装置に連結する連結エレメントを有している、請求項3から6までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲットの飛散表面の少なくとも部分領域の上に、磁場を発生させるための定置の磁気装置が構成されている、請求項1から7までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記駆動装置が、直接駆動装置として構成されている、請求項1から8までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記直接駆動装置が、リニアモータとして構成されている、請求項9記載のスパッタ装置。
- 前記リニアモータが、真空室の内部に配置されたステータを有している、請求項10記載のスパッタ装置。
- 前記リニアモータが、真空室の外部に配置されたステータを有している、請求項10記載のスパッタ装置。
- 前記駆動装置が、クランク駆動装置として構成されている、請求項1から12までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記クランク駆動装置が、クランクアーム、駆動ローラ及び滑子案内装置を有する、請求項13記載のスパッタ装置。
- 前記磁石装置が、スパッタマグネットロンとして構成されている、請求項1から14までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲットが、金属製のターゲットである、請求項1から15までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記ターゲットが、酸化物製のターゲットである、請求項1から15までのいずれか1項記載のスパッタ装置。
- 前記暗室遮蔽体が、アースされているか又は浮遊電位にある、請求項5または6記載のスパッタ装置。
- 平らで、かつカソードとして機能するターゲットを有する可動なターゲット装置と、
該ターゲット装置に適合させた方形の内部領域を有し、かつ固定設置された定置のターゲット囲繞体と、
前記ターゲット装置を駆動させるための駆動装置と、
カソードとして機能するターゲットに対応して配置された少なくとも1つのアノードを有するアノード装置と、
前記ターゲットの飛散表面からの材料の遊離を助けるための磁場を発生させ、かつ固定設置された定置の磁気装置と、
を有するスパッタリング装置を使用し、前記ターゲットが非回転対称的に設けられ、ターゲット装置を用いて一平面内で前記ターゲットを移動させて、真空室内で材料を飛散させるためのスパッタ方法において、
前記少なくとも1つのアノードが、
固定設置された少なくとも1つの定置アノードと、
前記ターゲット装置に連結され、前記ターゲット装置と共に可動する少なくとも1つの可動アノードと
を有するスプリットアノードで構成してなることを特徴とするスパッタ方法。 - 前記ターゲットが、方形のターゲットプレートとして構成される請求項19記載のスパッタ方法。
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