JP5144212B2 - 光学マスクおよび光源装置 - Google Patents
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Description
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Claims (6)
- 入力される光のビーム断面において空間的に強度変調して当該変調後の光を出力する光学マスクであって、
所定位置を中心とするp個の半径r1〜rp(pは偶数、rp>rp−1>…>r2>r1、かつ、rp−rp−1>rp−1−rp−2>…>r3−r2>r2−r1>r1)の各円周によって区分され内側から順に領域A0〜Apを設定したときに、
領域Am(mは0以上p以下の偶数)が光透過領域であり、
領域An(nは0以上p以下の奇数)が光遮断領域である、
ことを特徴とする光学マスク。 - p次のLaguerre多項式のp個の実数根a 1 〜a p (a p >a p−1 >…>a 2 >a 1 >0)に対してr i /√a i (i=1,2,3,…,p)が一定値となるように前記p個の半径r 1 〜r p が設定されていることを特徴とする請求項1記載の光学マスク。
- コヒーレント光を出力する光源と、
前記光源から出力される光を集光点に集光する集光光学系と、
前記光源と前記集光点との間の光路上に設けられた請求項1または2に記載の光学マスクと、
を備え
前記光学マスクが、前記光源から出力される光を前記領域A0〜Apに入力して、前記光透過領域を透過する光を出力する、
ことを特徴とする光源装置。 - 前記光源と前記光学マスクとの間に設けられ、前記光源から出力される光を入力し、その光のビーム断面上の位置に応じて該光を位相変調して、その位相変調後の光を出力する光位相変調素子を更に備え、
前記光位相変調素子から出力されて前記光学マスクに入力される光のビーム断面において、前記光透過領域および前記光遮断領域それぞれに入力される光の位相が互いにπだけ異なる、
ことを特徴とする請求項3記載の光源装置。 - 前記光位相変調素子が、入力光を位相変調して動径指数pのLGモード光を出力する、ことを特徴とする請求項4記載の光源装置。
- 前記光位相変調素子が、外部から入力される制御信号に基づいて各画素の位相変調量が設定される素子である、ことを特徴とする請求項4記載の光源装置。
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