JP5134995B2 - Ｘ線発生装置 - Google Patents

Description

本発明は、特に、電子銃から出射された電子をターゲットに入射することによりターゲットでＸ線を発生させるＸ線発生装置に関するものである。

従来、このような分野の技術として、例えば、下記特許文献１に示されたＸ線発生装置がある。当該装置は、電子銃から放出される電子が、コイルの電磁作用によってターゲットで焦点を結び、ターゲットから発生したＸ線が電子の入射方向とは異なる方向で取り出される反射型Ｘ線発生装置である。また、同様の反射型Ｘ線発生装置として、図８に模式的に示すようなＸ線発生装置１００が知られている。同図に示されるように、Ｘ線発生装置１００では、電子銃（図示せず）から放出される電子は、コイル１０１の電磁作用によってターゲット１０２で焦点を結び、ターゲット１０２から電子の入射方向とは異なる方向でＸ線が取り出される。さらに、Ｘ線発生装置１００は、ターゲット１０２が消耗した場合に交換可能となるよう、着脱可能となっているが、装置内の真空状態を保持するために、ターゲット１０２には、ターゲット１０２の周面とターゲット収容部１０４の壁面との間の隙間をシールするためのＯリング１０３が設けられている。
特開昭５９−８２５１号公報

しかしながら、Ｘ線発生装置１００では、ターゲット１０２を着脱可能とするために、ターゲット１０２とターゲット収容部１０４の壁面との間に隙間が形成されているため、電子銃からの電子やターゲット１０２等に当って反射、散乱した電子がその隙間に進入してＯリング１０３に直接的に当たりやすく、Ｏリング１０３が劣化しやすい。その結果、Ｘ線発生装置１００の真空度が低下してしまう問題が生じていた。

本発明は、着脱可能なターゲットを有しながらも、高い真空度の維持を可能としたＸ線発生装置を提供することを目的とする。

本発明に係るＸ線発生装置は、電子銃から出射された電子をターゲットに入射することによりターゲットでＸ線を発生させるＸ線発生装置において、電子銃から出射された電子が通過する第１の電子通路を有し、真空状態が保持された筒状部と、筒状部の一方端に設けられており、第１の電子通路と連通する第２の電子通路を有し、かつ外面から第２の電子通路までに至る凹部を有するヘッド部と、先端部にターゲットを有し、ヘッド部の凹部に挿入されたターゲット支持部と、ターゲット支持部の外周面と凹部を形成する壁面との隙間を封止するシール部と、を備え、ターゲット支持部は、ターゲット支持部の先端部とシール部との間に形成された第１の段差面を有し、凹部を形成する壁面は、第１の段差面に対応した形状をなす第２の段差面を有することを特徴とする。

本発明に係るＸ線発生装置では、ターゲット支持部は、ヘッド部の凹部に挿入されるとともに、ターゲット支持部の先端部とシール部との間に形成された第１の段差面を有し、凹部を形成する壁面は、第１の段差面に対応した形状をなす第２の段差面を有する。このような構成を採用することで、電子銃から出射された電子の内でターゲットに当たらなかった電子又はターゲット等に当って反射、散乱した電子が、ターゲット支持部と凹部の壁面との隙間に進入しても、第１及び第２の段差面によりＯリングへ直接当り難くなる。従って、第１及び第２の段差面に一旦衝突した電子が、衝突により運動エネルギーを損失した状態でＯリングに達するため、電子によるＯリングの劣化が抑制される。その結果、着脱可能なターゲットを有しながらも、Ｘ線発生装置内が高い真空度に維持される。

また、ターゲット支持部は、その内部にターゲットに向かって延びる冷却水通路部を有すると好適である。シール部は、電子のみならず熱でも劣化されるため、このようなターゲット支持部を採用することで、冷却水通路内を流動する冷却水によってターゲット支持部が冷却され、熱によるシール部の劣化を抑制することができる。その結果、Ｘ線発生装置内が高い真空度に維持される。

さらに、冷却水通路部は、ターゲット支持部のシール部が配置されている位置付近まで延びると好適である。この場合、シール部に対する熱の影響をより低減できるので、熱によるＯリングの劣化をさらに抑制することができる。その結果、Ｘ線発生装置内が高い真空度に維持される。

また、ヘッド部は、第２の電子通路と凹部との連通部にターゲット支持部の先端部と当接する位置決め部を有すると好適である。このようなヘッド部を採用することで、位置決め部により、ターゲット支持部の熱膨張による位置決め部側へのターゲットの移動が抑制される。その結果、Ｘ線の焦点位置の変位を抑制することができる。

また、シール部はターゲット支持部の外周面に沿って並設して装着されている２以上のＯリングからなると好適である。そのようなシール部を採用することで、装置を高い真空度に維持することができる共に、凹部内に収容されたターゲット支持部のぐらつきを確実に防止し、Ｘ線の焦点位置の変位を抑制することができる。

本発明によれば、着脱可能なターゲットを有しながらも、高い真空度を維持することができる。

以下、図面と共に本発明によるＸ線発生装置の好適な一実施形態について詳細に説明する。

図１に示すように、Ｘ線発生装置１は、真空封止された密封型と異なり、フィラメント（図示せず）やターゲット３１などの消耗品を交換することができるように、大気圧への開放状態と、排気による真空状態との選択を可能にする、いわゆる開放型のＸ線発生装置である。

このＸ線発生装置１は、その内部空間が動作時に真空状態になる円筒形状のステンレス製の筒状部２を有している。この筒状部２は、下側に位置しており内部に電子銃３を収容している固定部４と、上側に位置して後述するヘッド部２０が固定される着脱部５とで二分割されている。着脱部５は、ヒンジ部６を介して横倒しになるように回転することで、固定部４の上端を開放させることができ、固定部４内に収容されている電子銃３に対するアクセスが可能となり、電子銃３のフィラメントの交換が可能となる。

固定部４には、使用中に筒状部２の内部空間を高真空状態に保持するための真空ポンプ７が固定されている。この真空ポンプ７を装備することにより、筒状部２内を大気圧に開放させることができるので、フィラメント及びターゲット３１などの消耗品を交換することができ、その結果として、高倍率と高解像度を維持することができる。

ここで、筒状部２の基端側には、例えばエポキシ樹脂でモールド形成されたモールド電源部８が固定されている。このモールド電源部８内には、高電圧を発生させるようなトランスで構成された高電圧発生部９と、高電圧発生部９に電気的に接続されており且つ電子銃３からの電子の放出タイミングや放出量等を制御する電子放出制御部１０が封入されている。また、モールド電源部８のケース１１には、外部電源に接続させるための電源用端子１２が固定されており、電源用端子１２は、配線１３、１４を介して高電圧発生部９及び電子放出制御部１０に接続されている。

また、ケース１１には、後述するコイル部１５、１６への個別的な給電制御を行うためのコイル用端子１７が設けられている。このように、電源用端子１２とコイル用端子１７とを利用することで、電子銃３を含みＸ線発生装置１への適切な給電が行われる。

前述した構成の固定部４の上方側に位置する着脱部５の内部には、電磁偏向レンズとして機能する筒状のコイル部１５、１６が設けられている。コイル部１５、１６の中心を通るように、筒状部２の長手方向に第１の電子通路１８が延在し、その第１の電子通路１８はコイル部１５、１６により包囲されている。

着脱部５の下端には円盤状の蓋板１９が固定され、この円盤状の蓋板１９の中心には、第１の電子通路１８と同心をなす電子導入孔１９ａが形成されている。この電子導入孔１９ａを通して、電子銃３から出射した電子を第１の電子通路１８に入射させることができる。

着脱部５の上端には、銅からなる多面体ブロックであるヘッド部２０が配置されている。図２及び図３に示すように、後述する第１の電子通路１８及び第２の電子通路２１の軸線Ｃ１、並びにヘッド部２０への挿入時にターゲット支持部２７が延びる方向の軸線Ｃ２に対して垂直な断面から見て、ヘッド部２０は、底面をなす第1面２０ａと、第1面２０ａとの内角が鋭角αをなして交差する第２面２０ｂと、第１面２０ａに対向すると共に第1面２０ａに平行に延在する第３面２０ｃと、第２面２０ｂと鋭角βをなして第３面２０ｃの端部から延在する第４面２０ｄと、第４面２０ｄに交差し且つ第1面２０ａと直交して第１面２０ａの端部から第４面２０ｄの端部まで延在する第５面２０ｅとを有する。

更にヘッド部２０は、互いに対向し且つ平行な第６面２０ｆ及び第７面２０ｇ（図５参照）を有し、第６面２０ｆ及び第７面２０ｇは、第１面２０ａ〜第５面２０ｅに対して直交して延在している。また、図１に示されているように、第２面２０ｂと第1面２０ａとの内角（鋭角）αは、第２面２０ｂを含む平面と着脱部５の先端側とが交わらないような角度となっている。

第1面２０ａは長方形であり、ヘッド部２０には、第１の電子通路１８の軸線Ｃ１と同軸に延びて第１の電子通路１８と連通する第２の電子通路２１が、第１面２０ａの表面から内部に向かって延在している。

第２面２０ｂは長方形であり、ヘッド部２０にはターゲット３１から発生したＸ線を外部に取り出すための円柱状の出射通路２２が、第２面２０ｂの表面から内部に向かって延びている。この出射通路２２は、第２の電子通路２１に連結されている。また、出射通路２２の第２面２０ｂ側の端部には、出射通路２２の直径より大きい直径を有するリング状の溝を有し、溝とほぼ同径の円板状のＸ線出射窓２３が装置内部を真空に保つように装着されている。Ｘ線出射窓２３は、Ｂｅ材により形成されており、ターゲット支持部２７には接触しない。

第４面２０ｄは長方形であり、ヘッド部２０は第４面２０ｄから第２の電子通路２１までに至る、段差を持った円柱状の凹部２４を有している。凹部２４を形成する壁面には、後述するターゲット支持部２７の第１の段差面２９ａの形状に対応する平面を有する第２の段差面２４ａが形成されている。凹部２４の先端は第２の電子通路２１と出射通路２２とが交差する位置にまで到達している。

第４面２０ｄに位置する凹部２４には、ターゲット支持部２７が着脱自在に挿入されている。ターゲット支持部２７は、銅により形成され、断面正方形状の本体部２８と、本体部２８の下端面（一方の端面）から軸線Ｃ２に沿って延在すると共に、本体部２８の下端面の一辺の長さよりも小さい直径を有する断面円形の円柱状の第１挿入部２９と、第１挿入部２９の先端から、軸線Ｃ２に沿って第１挿入部２９と同軸に延在しており、その直径が第１挿入部２９の直径より小さい断面円形の円柱状の第２挿入部３０とを有している。

このように、第１挿入部２９の直径と第２挿入部３０の直径とが異なり、第１挿入部２９と第２挿入部３０との境界部分、つまり第１挿入部２９の先端には軸線Ｃ２に対して垂直な平面を有する第１の段差面２９ａが形成される。第２挿入部３０の先端部、すなわちターゲット支持部２７の先端部にはタングステンからなる円板状のターゲット３１が埋設されており、ターゲット３１は第２の電子通路２１の軸線Ｃ１に対し所定の角度θをなしている。

第１挿入部２９の外周面上には、軸線Ｃ２に沿って並設され、軸線Ｃ２を軸とした２つの環状の溝部２９ｂ、２９ｃが形成されており、それぞれの溝部２９ｂ、２９ｃには、凹部２４を形成する壁面と第１挿入部２９の外周面との隙間を封止するためのゴム又は樹脂製のОリング３２、３３が装着されている。また、本体部２８は、軸線Ｃ２に沿って上端面（他方の端面）２８ａから第１挿入部２９の溝部２９ｂの位置を越えて延びている円柱状の空洞部３４を有している。

本体部２８の上端面２８ａには、軸線Ｃ１を軸に形成された環状の溝部３５が設けられている。溝部３５は、上端面２８ａ上で空洞部３４を囲むように設けられ、その溝部３５には、本体部２８の上端面２８ａと後述する第１蓋部３７との隙間を封止するためのОリング３６が装着されている。

本体部２８の上端面２８ａ上には、ステンレス鋼（ＳＵＳ）からなる第１蓋部３７が当接されている。第１蓋部３７の下面（一方の面）３７ｂからパイプ部３８が突出し、パイプ部３８は、空洞部３４の内径より小さい外径を有すると共に空洞部３４の深さより短い長さを有する。パイプ部３８は、空洞部３４に挿入されており、これにより、空洞部３４とパイプ部３８との間には円筒状の間隙からなる冷却水排出路（冷却水通路部）３４ｂが形成されている。

更に、第１蓋部３７には、下面３７ｂからパイプ部３８と連通する穴部３９を有している。なお、パイプ部３８は、本体部２８の材質の熱伝導率より小さい熱伝導率を有する材質で作られている。

第１蓋部３７の上面（他方の面）３７ａには、軸線Ｃ１を軸に形成された環状の溝部４０が設けられている。その溝部４０は、上面３７ａ上で穴部３９を囲むように設けられ、その溝部４０には、第１蓋部３７と後述する第２蓋部４２との隙間を封止するためのОリング４１が装着されている。

第１蓋部３７の上面３７ａには、ＳＵＳからなる第２蓋部４２が当接されている。第２蓋部４２には、軸線Ｃ２に沿って第２蓋部４２の上面（他方の面）４２ａと下面（一方の面）４２ｂとの間を貫通する穴部４３が設けられており、穴部４３は穴部３９と連通している。第２蓋部４２の穴部４３の内径は、第１蓋部３７の穴部３９の内径と同一であり、穴部４３の上面４２ａ側の壁面には、雌ねじ部が形成されている。また、その雌ねじ部には、流入口パイプ連結部４４の雄ねじ部が螺合されている。流入口パイプ連結部４４には冷却水をターゲット支持部２７に流入させるための冷却水パイプ４５が接続されており、流入口パイプ連結部４４の内部には、冷却水パイプ４５と連通する冷却水通路４６が設けられている。

第１蓋部３７と第２蓋部４２とは、第２蓋部４２の上面４２ａから挿入されたねじ４６ａ、４６ｂによって互いに固定されている。なお、ねじ４６ａ、４６ｂは、軸線Ｃ２に対して対称となる位置に配置されている。また、第１蓋部３７は、第２蓋部４２の上面４２ａから挿入されたねじ４６ｃ、４６ｄを介して本体部２８に固定されている（図５参照）。

また、本体部２８には、その側面から空洞部３４に達する円柱状の穴部４７が設けられている。穴部４７の本体部２８表面側の端部の壁面には雌ねじ部が形成されており、その雌ねじ部には、Ｌ字型の流出口パイプ連結部４８の雄ねじ部が螺合されている。流出口パイプ連結部４８には冷却水を外部に排出するための冷却水パイプ４９が接続されており、流出口パイプ連結部４８の内部には、冷却水パイプ４９と連通するＬ字型の冷却水通路５０が設けられている。

冷却水パイプ４５からターゲット支持部２７の内部に流入された冷却水は、冷却水通路４６、穴部４３、３９及びパイプ部３８の内部３４ａを通って冷却水排出路３４ｂに流入され、穴部４７、Ｌ字型の冷却水通路５０を通って冷却水パイプ４９から排出される。

また、凹部２４は、出射通路２２及び第２の電子通路２１まで達している。そして、第２挿入部３０の先端に埋設されたターゲット３１およびターゲット支持部２７は、凹部２４と、出射通路２２と、第２の電子通路２１とが合流し互いに連通する位置に形成された位置決め部５１ａ、５１ｂ（図４参照）に当接している。詳しくは、ターゲット支持部２７が凹部２４に挿入された際に、位置決め部５１ａ、５１ｂは、ターゲット３１およびターゲット支持部２７の縁部に当接するとともに、その間に挟まれた空間が第２の電子通路２１および出射通路２２との連通部となる。

図５は、図３の矢印Ｂで示された方向から見たターゲット支持部２７及びヘッド部２０を示す。また、図６は図５のVI-VI線に沿った断面図であり、図７は図６のVII-VII線に沿った断面図である。図５、図６及び図７に示すように、ヘッド部２０には、第５面２０ｅに直交して内部に向かって互いに平行に延びる空洞の円柱状の第１冷却水通路５１及び第２冷却水通路５２が設けられており、第１及び第２の冷却水通路５１、５２の第５面２０ｅ側には、雌ねじ部が形成されている。

第１の冷却水通路５１の雌ねじ部には、流入口パイプ連結部５３の雄ねじが螺合されている。流入口パイプ連結部５３には冷却水をヘッド部２０に流入するための冷却水パイプ５３ａが接続されており、流入口パイプ連結部５３の内部には、冷却水パイプ５３ａと第１の冷却水通路５１とを連結する冷却水通路５５が設けられている。同様に、第２の冷却水通路５２の雌ねじ部には、流出口パイプ連結部２５の雄ねじが螺合されている。流出口パイプ連結部２５には冷却水をヘッド部２０から外部に排出するため冷却水パイプ２５ａが接続されており、流出口パイプ連結部２５の内部には、冷却水パイプ２５ａと第２の冷却水通路５２とを連結する冷却水通路５７が設けられている。

また、第１冷却水通路５１と第２冷却水通路５２とは、第３冷却水通路２６によって連結され、第３冷却水通路２６は円柱状の空洞からなると共に第６面２０ｆ及び第７面２０ｇに対して垂直に延在する。第３冷却水通路２６において第６面２０ｆ側と第７面２０ｇ側には雌ねじ部が形成されており、雌ねじ部にねじ５８ａ及びねじ５８ｂを螺合させることで、第３冷却水通路２６の両端はそれぞれ封止されている。

第１冷却水通路５１及び第２冷却水通路５２の中心軸は第３冷却水通路２６の中心軸と直交する。冷却水パイプ５３ａから流入された冷却水は第１〜第３の冷却水通路５１、２６、５２を通して冷却水パイプ２５ａに排出される。なお、第１〜第３の冷却水通路５１、２６、５２をなす円柱状の空洞の断面の直径は同一である。

以上のように、本実施形態に係るＸ線発生装置では、ターゲット支持部２７は、ターゲット支持部２７の先端部とＯリング３２との間に形成された第１の段差面２９ａを有し、凹部２４を形成する壁面が、第１の段差面２９ａに対応した形状をなす第２の段差面２４ａを有している。

従って、電子銃３から出射された電子の内でターゲット３１に当たらなかった電子、又はターゲット３１等で反射して散乱した電子が、ターゲット支持部２７と凹部２４の壁面との隙間に進入しても、第１及び第２の段差面２９ａ、２４ａによりＯリング３２、３３へ直接当り難くなる。すなわち、第１及び第２の段差面２９ａ、２４ａに一旦衝突した電子が、衝突により運動エネルギーを損失した状態でＯリング３２、３３に到達する。そのため、第１及び第２の段差面２９ａ、２４ａがなく直接Ｏリング３２、３３に達する従来の場合に比べて、電子によるＯリング３２、３３の劣化が抑制される。その結果、Ｘ線発生装置１内の高い真空度の維持が実現される。

また、電子によりＯリング３２、３３が劣化すると、Ｏリング３２、３３は細かくひび割れてしまうとともに、柔軟性がなくなり硬化する。そのため、ターゲット支持部２７を着脱したりターゲット３１における電子入射点（Ｘ線の焦点位置）を変更させるために回転させたりする等のターゲット支持部２７の変位により、このような状態のＯリング３２、３３に対して力が加わると、Ｏリング３２、３３の一部が破損して、小さな破片が生じる場合がある。この破片がＸ線発生装置１の内部を移動し、高電圧が印加される電子銃３に到ると、電子銃３で望まない放電が発生し、Ｘ線発生装置１が使用不可能になる可能性があるが、電子によるＯリング３２、３３の劣化を抑制することで、このような放電をも抑制することができる。

Ｘ線発生装置１において、ターゲット支持部２７は、ターゲット３１に向かって、段差面２９ａの付近まで延びている冷却水排出路３４ｂを有している。冷却水パイプ４５からターゲット支持部２７の内部に流入された冷却水は、この冷却水排出路３４ｂの底面まで至り、その流動によりその周囲を冷却する。そのため、ターゲット３１及びターゲット支持部２７が冷却され、ターゲット３１の消耗や、ターゲット支持部２７の熱膨張が抑制される。また、それに伴い、Ｘ線の焦点位置が変位する事態も抑制される。

第１挿入部２９の外周面には溝部２９ｂ、２９ｃが形成されており、その溝部２９ｂ、２９ｃにはそれぞれ、第１挿入部２９の外周面と凹部２４の壁面との隙間を封止するＯリング３２、３３が装着されている。また、冷却水が通る冷却水通路を決める空洞部３４は第１挿入部２９の下側の溝部２９ｂまで達している。そのため、冷却水パイプ４５から流入された冷却水は、空洞部３４の内部に挿入されたパイプ部３８の内部３４ａを経て、冷却水排出路３４ｂを通りながら、溝部２９ｂに装着されているＯリング３２及び溝部２９ｃに装着されているＯリング３３を冷却する。そのため、Ｏリング３２、３３の熱による劣化が抑制され、装置内が高い真空状態に保持される。

また、Ｘ線発生装置１のヘッド部２０には、凹部２４と、出射通路２２と、及び第２の電子通路２１とが合流し、連通する位置に形成された位置決め部５１ａ、５１ｂが設けられているため、位置決め部５１ａ、５１ｂ側へのターゲット支持部２７の膨張が制限され、位置決め部５１ａ、５１ｂ側へのターゲット３１の変位が抑制される。その結果、ターゲット３１上におけるＸ線の焦点位置の変位を抑制することができる。また、ターゲット３１における電子入射点を変更させるためにターゲット支持部２７を回転させる際にも、位置決め部５１ａ、５１ｂに当接しながら回転させることができるため、Ｘ線発生装置１としてのＸ線の焦点位置の変位を抑制することができる。

また、本実施形態に係るＸ線発生装置１においては、第１挿入部２９の外周面上に沿ってＯリング３２、３３が並設して装着されているため、装置１を容易に高真空度に維持できると共に、凹部２４内に収容されたターゲット支持部２７のぐらつきを確実に防止でき、Ｘ線の焦点位置の変位を抑制することができる。

また、第１蓋部３７の材質がＳＵＳであるため、その下面３７ｂ上にパイプ状の筒状部２を容易に溶接することができる。また、第１蓋部３７の下面３７ｂに溶接されているパイプ部３８の材質は、ターゲット支持部２７の本体部２８の材質が有する熱伝導度より低い熱伝導度を有する。そのため、冷却水パイプ４５から流入された冷却水は、パイプ部３８の内部３４ｂを通る間に、ターゲット３１及びＯリング３２、３３から発生した熱を吸収して冷却水排出路３４ｂを流れる、温度が上昇した冷却水の影響を受けずに、最も高温となる空洞部３４の底面まで到達できる。そのため、ターゲット３１とＯリング３２、３３を効果的に冷却することができ、Ｘ線焦点位置の変化の抑制、及び熱によるＯリング３２，３３の劣化防止が実現できる。

また、ヘッド部２０において、Ｘ線出射窓２３が設けられた第２面２０ｂと第1面２０ａとの内角（鋭角）αは、第２面２０ｂを含む平面と筒状部２（着脱部５）の先端側とが交わらないような角度となっているため、Ｘ線出射窓２３に対して平板状の被照射物を非常に近接させることができる。

本発明は、前述した実施形態に限定されない。例えば、ターゲット３１の材質は、タングステンに限定されず、その他のＸ線発生用材料であってもよい。また、本実施形態においては、ターゲット３１とターゲット支持部２７とが別体となるようになっているが、ターゲット３１とターゲット支持部２７とが一体になるようにしてもよい。また、本実施形態においては、第１挿入部２９の直径が第２挿入部３０の直径より大きいが、第１挿入部２９と第２挿入部３０との境界部分に段差面が形成される限り、第１挿入部２９の直径が第２挿入部３０の直径より小さくても良い。

また、第１の段差面２９ａと第２の段差面２４ａとが当接していても、当接していなくてもよい。第１の段差面２９ａと第２の段差面２４ａとが当接していると、電子銃３からの電子がＯリング３２、３３に当ることがより確実に防止される。

第１及び第２の蓋部３７、４２は、ステンレス鋼（ＳＵＳ）からなるものであるが、ＳＵＳである必要はなくアルミニウム、銅又は真鋳等であってもよい。

本実施形態に係るＸ線発生装置の断面図である。 本実施形態に係るＸ線発生装置のヘッド部及びターゲット支持部を拡大して示す分解断面図である。 図２に示したＸ線発生装置のヘッド部及びターゲット支持部の断面図である。 第２面を図３の矢印Ａ方向から見た図である。 ヘッド部及びターゲット支持部を図３の矢印Ｂ方向から見た図である。 図５のVI−VI線に沿った断面図である。 図６のVII−VII線に沿った断面図である。 従来のＸ線発生装置の要部を示す断面図である。

符号の説明

１…Ｘ線発生装置、２…筒状部、３…電子銃、１５，１６…コイル部、１８…第１の電子通路、２０…ヘッド部、２１…第２の電子通路、２４…凹部、２４ａ…第２の段差面、２７…ターゲット支持部、２８…本体部、２９…第１挿入部、２９ａ…第１の段差面、３０…第２挿入部、３１…ターゲット、３２，３３…Ｏリング、３４…空洞部、３４ｂ…冷却水排出路、３７…第１蓋部、３８…円筒部、４２…第２蓋部、５１ａ，５１ｂ…位置決め部。

Claims (5)

1. 電子銃から出射された電子をターゲットに入射することにより前記ターゲットでＸ線を発生させるＸ線発生装置において、
   電子銃から出射された電子が通過する第１の電子通路を有し、真空状態が保持された筒状部と、
   前記筒状部の一方端に設けられており、前記第１の電子通路と連通する第２の電子通路を有し、かつ外面から前記第２の電子通路までに至る凹部を有するヘッド部と、
   先端部に前記ターゲットを有し、前記ヘッド部の前記凹部に挿入されたターゲット支持部と、
   前記ターゲット支持部の外周面と前記凹部を形成する壁面との隙間を封止するシール部と、を備え、
   前記ターゲット支持部は、前記ターゲット支持部の前記先端部と前記シール部との間に形成された第１の段差面を有し、前記凹部を形成する前記壁面は、前記第１の段差面に対応した形状をなす第２の段差面を有することを特徴とするＸ線発生装置。
2. 前記ターゲット支持部は、その内部に前記ターゲットに向かって延びる冷却水通路部を有することを特徴とする請求項１に記載のＸ線発生装置。
3. 前記冷却水通路部は、前記ターゲット支持部の前記シール部が配置されている位置付近まで延びることを特徴とする請求項２に記載のＸ線発生装置。
4. 前記ヘッド部は、前記第２の電子通路と前記凹部との連通部に前記ターゲット支持部の前記先端部と当接する位置決め部を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のＸ線発生装置。
5. 前記シール部は前記ターゲット支持部の前記外周面に沿って並設して装着されている２以上のＯリングからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のＸ線発生装置。

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