JP5131605B2 - Suspension board - Google Patents

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Description

本発明は、サスペンション用基板に係り、とりわけ、差動インピーダンスを低減すると共に浮上安定性を向上させることができるサスペンション用基板に関する。   The present invention relates to a suspension substrate, and more particularly to a suspension substrate that can reduce differential impedance and improve flying stability.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板を備えている。このサスペンション用基板は、バネ性金属層と、バネ性金属層に絶縁層を介して積層された複数(例えば、4本〜6本)の配線層とを備えており、各配線層に電気信号を流すことにより、ディスクに対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。   In general, a hard disk drive (HDD) includes a suspension board on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted. The suspension substrate includes a spring metal layer and a plurality (for example, 4 to 6) of wiring layers laminated on the spring metal layer via an insulating layer, and each wiring layer has an electric signal. The data is written to or read from the disk.

近年、伝送線路を高速化し、情報処理量を増大させるとともに処理スピードを向上させることが要求されている。このためには、高周波領域における伝送損失を低減させるほか、差動配線の低インピーダンスなど、基板の電気特性を向上させることが必要となる。   In recent years, it has been required to increase the speed of transmission lines, increase the amount of information processing, and improve the processing speed. For this purpose, it is necessary to reduce the transmission loss in the high frequency region and improve the electrical characteristics of the substrate such as the low impedance of the differential wiring.

また、情報を記録する磁気ディスクは従来よりも高密度化されており、そのため、ディスクと磁気ヘッドスライダとの相対位置をさらに高精度に制御する必要がある。スライダの位置を高精度に制御するためには、サスペンション用基板に対し、ねじれ等の変形が低減されていることが求められている。   Further, the magnetic disk for recording information has a higher density than the conventional one, and therefore, it is necessary to control the relative position between the disk and the magnetic head slider with higher accuracy. In order to control the position of the slider with high accuracy, it is required that deformation such as torsion is reduced with respect to the suspension substrate.

これらのことに対処するために、低インピーダンス化として配線を積層方向に重複させたサスペンション用基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。ここでは、サスペンション用基板の長手方向に延びる中心線に対して一方の側のみに、配線が積層されており、当該中心線に対して他方の側において、第一絶縁部上の配線を覆う第二絶縁部の厚さまたは幅を調整し、サスペンション用基板の歪みの低減を図っている。   In order to deal with these problems, a suspension substrate in which wirings are overlapped in the stacking direction has been proposed as a technique for reducing impedance (see, for example, Patent Document 1). Here, the wiring is laminated only on one side with respect to the central line extending in the longitudinal direction of the suspension substrate, and the wiring on the first insulating portion is covered on the other side with respect to the central line. The thickness or width of the two insulating parts is adjusted to reduce the distortion of the suspension substrate.

特開2010−135053号公報JP 2010-135053 A

しかしながら、この場合、当該中心線の両側に位置する第二絶縁部同士の厚さまたは幅が非対称となる。このため、製造時の加熱等により偏った反りが発生すると共に、サスペンション用基板の剛性のバランスが失われ、サスペンション用基板のディスクに対する浮上安定性が損なわれるという問題がある。   However, in this case, the thickness or width of the second insulating portions located on both sides of the center line is asymmetric. For this reason, there is a problem that uneven warping occurs due to heating or the like during manufacturing, the balance of rigidity of the suspension substrate is lost, and the floating stability of the suspension substrate with respect to the disk is impaired.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、差動インピーダンスを低減すると共に浮上安定性を向上させることができるサスペンション用基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object of the present invention is to provide a suspension substrate that can reduce differential impedance and improve flying stability.

本発明は、第1絶縁層と、前記第1絶縁層の一方の面に設けられたバネ性材料層と、前記第1絶縁層の他方の面に設けられた第1配線層と、前記第1絶縁層の前記第1配線層側の面に設けられ、当該第1配線層を覆う第2絶縁層と、前記第1配線層に前記第2絶縁層を介して積層された第2配線層と、前記第2絶縁層の前記第2配線層側の面に設けられ、当該第2配線層を覆う保護層と、を備え、前記第1絶縁層と前記第2絶縁層と前記保護層は、サスペンション用基板の長手方向に延びる中心線に対して、対称の平面形状をそれぞれ有していることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   The present invention provides a first insulating layer, a spring material layer provided on one surface of the first insulating layer, a first wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer, A second insulating layer provided on a surface of the first insulating layer on the first wiring layer side and covering the first wiring layer; and a second wiring layer laminated on the first wiring layer via the second insulating layer And a protective layer that is provided on a surface of the second insulating layer on the second wiring layer side and covers the second wiring layer, wherein the first insulating layer, the second insulating layer, and the protective layer are There is provided a suspension substrate characterized by having a plane shape symmetrical with respect to a center line extending in the longitudinal direction of the suspension substrate.

なお、上述したサスペンション用基板において、前記第2配線層は、前記中心線に対して、一方の側に配置され、他方の側に配置されていないようにしてもよい。   In the suspension substrate described above, the second wiring layer may be arranged on one side and not arranged on the other side with respect to the center line.

また、上述したサスペンション用基板において、前記保護層の厚さは、前記第2絶縁層の厚さより小さくなるようにしてもよい。   In the suspension substrate described above, the thickness of the protective layer may be smaller than the thickness of the second insulating layer.

本発明によれば、第1配線層に第2絶縁層を介して第2配線層が積層されている。このことにより、第1配線層と第2配線層との間の差動インピーダンスを低減することができる。また、第1絶縁層と第2絶縁層と保護層が、サスペンション用基板の長手方向に延びる中心線に対して、対称の平面形状をそれぞれ有している。このことにより、製造時の加熱等により偏った反りが発生することを防止すると共に、サスペンション用基板の剛性のバランスを改善することができ、サスペンション用基板のディスクに対する浮上を安定させることができる。このため、差動インピーダンスを低減すると共に浮上安定性を向上させることができる。   According to the present invention, the second wiring layer is laminated on the first wiring layer via the second insulating layer. Thereby, the differential impedance between the first wiring layer and the second wiring layer can be reduced. The first insulating layer, the second insulating layer, and the protective layer have symmetrical plane shapes with respect to the center line extending in the longitudinal direction of the suspension substrate. As a result, it is possible to prevent the occurrence of a biased warp due to heating during manufacturing, to improve the balance of rigidity of the suspension substrate, and to stabilize the floating of the suspension substrate with respect to the disk. Therefore, the differential impedance can be reduced and the flying stability can be improved.

図1は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の一例を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing an example of a suspension substrate according to an embodiment of the present invention. 図2(a)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板において、第1絶縁層と、第1絶縁層上に設けられた各配線層との一例を示す拡大平面図。図2(b)は、第2絶縁層と、第2絶縁層上に設けられた第2配線層との一例を示す拡大平面図。図2(c)は、保護層の一例を示す拡大平面図。FIG. 2A is an enlarged plan view showing an example of the first insulating layer and each wiring layer provided on the first insulating layer in the suspension substrate according to the embodiment of the present invention. FIG. 2B is an enlarged plan view showing an example of a second insulating layer and a second wiring layer provided on the second insulating layer. FIG. 2C is an enlarged plan view showing an example of the protective layer. 図3は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の断面構成の一例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of a cross-sectional configuration of the suspension substrate in the embodiment of the present invention. 図4は、本発明の実施の形態におけるサスペンションの一例を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing an example of a suspension in the embodiment of the present invention. 図5は、本発明の実施の形態におけるヘッド付サスペンションの一例を示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing an example of a suspension with a head according to an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施の形態におけるハードディスクドライブの一例を示す斜視図。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a hard disk drive according to the embodiment of the present invention. 図7(a)〜(e)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法を示す図。7A to 7E are views showing a method for manufacturing a suspension substrate in the embodiment of the present invention.

図1乃至図7を用いて、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板について説明する。   A suspension substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

まず、図1によりサスペンション用基板1の全体構成について説明する。図1に示すサスペンション用基板1は、スライダ52(図5参照)を実装する実装領域2と、図示しない外部接続基板に接続される外部接続領域3と、実装領域2と外部接続領域3との間に配置された中間領域4とを有している。図1および図2に示すように、実装領域2には、スライダ52に接続されるヘッド端子(配線パッド)5が設けられ、外部接続領域3には、外部接続基板に接続される外部接続端子6が設けられており、ヘッド端子5と外部接続端子6との間には、後述する配線層14、15、16が接続されている。   First, the overall configuration of the suspension substrate 1 will be described with reference to FIG. A suspension board 1 shown in FIG. 1 includes a mounting area 2 for mounting a slider 52 (see FIG. 5), an external connection area 3 connected to an external connection board (not shown), and a mounting area 2 and an external connection area 3. And an intermediate region 4 disposed therebetween. As shown in FIGS. 1 and 2, the mounting area 2 is provided with a head terminal (wiring pad) 5 connected to the slider 52, and the external connection area 3 is connected to an external connection terminal. 6, and wiring layers 14, 15, and 16 described later are connected between the head terminal 5 and the external connection terminal 6.

また、図1に示すように、バネ性材料層11には、後述するロードビーム42と接合するための治具孔21が設けられている。この治具孔21は、長穴状または楕円状に形成されており、図1に示すように、サスペンション用基板の全長をL、治具孔21の中心からサスペンション用基板1の先端までの距離をLとした場合に、Lは0.10L〜0.15Lとなっている。 Further, as shown in FIG. 1, the spring material layer 11 is provided with a jig hole 21 for joining with a load beam 42 described later. The jig hole 21 is formed in the shape of an elongated hole or an ellipse. As shown in FIG. 1, the overall length of the suspension board is L 1 , and the center of the jig hole 21 to the tip of the suspension board 1 is used. distance when the L 2, L 2 is a 0.10L 1 ~0.15L 1.

次に、図3を用いてサスペンション用基板1の断面構成について説明する。サスペンション用基板1は、第1絶縁層10と、第1絶縁層10の一方の面(下面)に設けられ、導電性を有するバネ性材料層11と、第1絶縁層10の他方の面(上面)に設けられた第1配線層14とを備えている。第1絶縁層10の第1配線層14の側の面に、第1配線層14を覆う第2絶縁層12が設けられ、第1配線層14に第2絶縁層12を介して第2配線層15が積層されている。   Next, a cross-sectional configuration of the suspension substrate 1 will be described with reference to FIG. The suspension substrate 1 is provided on the first insulating layer 10 and one surface (lower surface) of the first insulating layer 10. The suspension material layer 11 having conductivity and the other surface of the first insulating layer 10 ( And a first wiring layer 14 provided on the upper surface. A second insulating layer 12 that covers the first wiring layer 14 is provided on the surface of the first insulating layer 10 on the first wiring layer 14 side, and the second wiring is connected to the first wiring layer 14 via the second insulating layer 12. Layer 15 is laminated.

第2配線層15は、図2(a)、(b)および図3に示すように、実装領域2において第1配線層14と同一平面上に配置された第1導体部分15aと、中間領域4において第1配線層14に第2絶縁層12を介して積層され、第1導体部分15aに接続された第2導体部分15bと、外部接続領域3において第1配線層14と同一平面上に配置され、第2導体部分15bに接続された第3導体部分(図示せず)とを有している。   As shown in FIGS. 2A, 2B, and 3, the second wiring layer 15 includes a first conductor portion 15a arranged on the same plane as the first wiring layer 14 in the mounting region 2, and an intermediate region. 4 is laminated on the first wiring layer 14 via the second insulating layer 12 and connected to the first conductor portion 15a, and in the external connection region 3, on the same plane as the first wiring layer 14. And a third conductor portion (not shown) connected to the second conductor portion 15b.

図2に示すように、第1配線層14および第2配線層15は、サスペンション用基板1の長手方向に延びる中心線(平面中心線:X)に対して、一方の側(図2(a)、(b)における右側)に配置されている。すなわち、第1配線層14および第2配線層15は、平面中心線(X)に対して他方の側(図2(a)、(b)における左側)に配置されていない。ここで、平面中心線(X)は、上述した治具孔21の長軸(長径)を含んでいる。なお、図3および図7における一点鎖線は、この平面中心線(X)と交わり、かつサスペンション用基板1の積層方向に延びる断面中心線(Y)を示している。   As shown in FIG. 2, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 are arranged on one side (planar center line: X) extending in the longitudinal direction of the suspension substrate 1 (see FIG. 2A). ) And (b) on the right side). That is, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 are not arranged on the other side (the left side in FIGS. 2A and 2B) with respect to the plane center line (X). Here, the plane center line (X) includes the major axis (major axis) of the jig hole 21 described above. 3 and 7 indicates a cross-sectional center line (Y) that intersects with the plane center line (X) and extends in the stacking direction of the suspension substrate 1.

また、図2(a)に示すように、第1配線層14と同一平面上であって、上述の平面中心線(X)に対して、第1配線層14とは反対側(図2(a)における左側)に、2つの第3配線層16およびグランド配線層30が設けられている。   Further, as shown in FIG. 2A, the first wiring layer 14 is on the same plane and is opposite to the first wiring layer 14 with respect to the above-described plane center line (X) (FIG. 2 ( On the left side in a), two third wiring layers 16 and a ground wiring layer 30 are provided.

このような第1配線層14と第2配線層15は、書き込み用配線(ライター用配線)を構成している。また、第2配線層15の第2導体部分15bと、この第2導体部分15bに対応する第1配線層14の部分は、図2(a)、(b)、および図3に示すように、第3配線層16よりも幅が広く形成されており、第1配線層14および第2配線層15のインピーダンスを低減するように構成されている。なお、2つの第3配線層16は、読み込み用配線(リード配線)を構成している。   The first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 constitute a writing wiring (writer wiring). Further, the second conductor portion 15b of the second wiring layer 15 and the portion of the first wiring layer 14 corresponding to the second conductor portion 15b are as shown in FIGS. 2 (a), 2 (b), and FIG. The width is wider than that of the third wiring layer 16, and the impedance of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 is reduced. The two third wiring layers 16 constitute a reading wiring (lead wiring).

図3に示すように、第2絶縁層12の第2配線層15の側の面には、第2配線層15の第2導体部分15bを覆う保護層22が設けられており、第2配線層15の第2導体部分15bが劣化することを防止している。この保護層22の厚さは、第2絶縁層12の厚さより小さくなっていることが好ましい。このことにより、サスペンション用基板1が反ることを抑制することができる。また、この保護層22は、図2(c)に示すように、サスペンション用基板1が反ることを抑制するために、サスペンション用基板1の先端側において分断されていることが好ましい。   As shown in FIG. 3, a protective layer 22 covering the second conductor portion 15b of the second wiring layer 15 is provided on the surface of the second insulating layer 12 on the second wiring layer 15 side, and the second wiring The second conductor portion 15b of the layer 15 is prevented from being deteriorated. The thickness of the protective layer 22 is preferably smaller than the thickness of the second insulating layer 12. This can prevent the suspension substrate 1 from warping. Further, as shown in FIG. 2C, the protective layer 22 is preferably divided at the front end side of the suspension substrate 1 in order to prevent the suspension substrate 1 from warping.

図2に示すように、第1絶縁層10と第2絶縁層12と保護層22は、サスペンション用基板1の平面中心線(X)に対して、対称の平面形状をそれぞれ有している。すなわち、治具孔21から実装領域2に亘る部分において、第1絶縁層10、第2絶縁層12、および保護層22は、平面中心線(X)に対して、線対称となる位置に配置されると共に、各々の幅および厚さが対称になっている。   As shown in FIG. 2, the first insulating layer 10, the second insulating layer 12, and the protective layer 22 have a plane shape that is symmetrical with respect to the plane center line (X) of the suspension substrate 1. That is, in the portion extending from the jig hole 21 to the mounting region 2, the first insulating layer 10, the second insulating layer 12, and the protective layer 22 are arranged at positions that are line-symmetric with respect to the plane center line (X). And the width and thickness of each are symmetrical.

図2(b)に示すように、第2絶縁層12は、サスペンション用基板1の先端側において分断されることなく連続して形成されている。また、第2絶縁層12は、対向する第1配線層14と第2配線層15の第2導体部分15bとの間でインピーダンスなどの電気特性を調整するため、保護層22に比べて厚さが大きくなっている。このため、上述したように、第2絶縁層12の平面形状を平面中心線(X)に対して対称とすることにより、サスペンション用基板1の反りや歪みを抑制することができる。   As shown in FIG. 2B, the second insulating layer 12 is continuously formed without being divided on the front end side of the suspension substrate 1. In addition, the second insulating layer 12 is thicker than the protective layer 22 in order to adjust electrical characteristics such as impedance between the opposing first wiring layer 14 and the second conductor portion 15 b of the second wiring layer 15. Is getting bigger. For this reason, as described above, the warp and distortion of the suspension substrate 1 can be suppressed by making the planar shape of the second insulating layer 12 symmetrical with respect to the planar center line (X).

図2(b)に示すように、第2絶縁層12に、第2配線層15の第1導体部分15aと第2導体部分15bとを接続する配線用導電接続部20が設けられている。この配線用導電接続部20は、第2絶縁層12に形成された図示しない配線用貫通孔に、第2配線層15の第2導体部分15bと一体に形成されている。   As shown in FIG. 2B, a wiring conductive connection portion 20 that connects the first conductor portion 15 a and the second conductor portion 15 b of the second wiring layer 15 is provided in the second insulating layer 12. The wiring conductive connection portion 20 is formed integrally with the second conductor portion 15 b of the second wiring layer 15 in a wiring through hole (not shown) formed in the second insulating layer 12.

図2(a)に示すように、第1絶縁層10に、グランド配線層30とバネ性材料層11とを接続するグランド用導電接続部31が設けられている。このグランド用導電接続部31は、ニッケルめっきまたは銅めっきにより形成され、第1絶縁層10、グランド配線層30、および第2絶縁層12を貫通している。すなわち、グランド用導電接続部31は、第1絶縁層10に形成された第1絶縁層貫通孔と、グランド配線層30に形成されたグランド配線層貫通孔と、第2絶縁層12に形成された第2絶縁層貫通孔(いずれも図示せず)とに、ニッケルめっきまたは銅めっきを施すことにより形成されている。また、保護層22には、図2(c)に示すように、グランド用導電接続部31を外方に露出させる露出孔33が設けられている。   As shown in FIG. 2A, a ground conductive connecting portion 31 that connects the ground wiring layer 30 and the spring material layer 11 is provided in the first insulating layer 10. The ground conductive connection portion 31 is formed by nickel plating or copper plating, and penetrates the first insulating layer 10, the ground wiring layer 30, and the second insulating layer 12. That is, the ground conductive connection portion 31 is formed in the first insulating layer through hole formed in the first insulating layer 10, the ground wiring layer through hole formed in the ground wiring layer 30, and the second insulating layer 12. In addition, the second insulating layer through-holes (both not shown) are formed by applying nickel plating or copper plating. Further, as shown in FIG. 2C, the protective layer 22 is provided with an exposure hole 33 that exposes the ground conductive connection portion 31 to the outside.

なお、図2(a)〜(c)においては、第2配線層15の第1導体部分15aと第2導体部分15bとを接続する配線用導電接続部20と、グランド配線層30とバネ性材料層11とを接続するグランド用導電接続部31は、サスペンション用基板1の平面中心線(X)に対して、対称に配置されている。しかしながら、このことに限られることはなく、配線用導電接続部20と、グランド用導電接続部31は、任意の位置に配置してもよい。   2A to 2C, the wiring conductive connection portion 20 that connects the first conductor portion 15a and the second conductor portion 15b of the second wiring layer 15, the ground wiring layer 30, and the spring property. The ground conductive connection portions 31 that connect the material layer 11 are arranged symmetrically with respect to the plane center line (X) of the suspension substrate 1. However, the present invention is not limited to this, and the wiring conductive connection portion 20 and the ground conductive connection portion 31 may be arranged at arbitrary positions.

次に、各構成部材について詳細に述べる。   Next, each component will be described in detail.

第1絶縁層10および第2絶縁層12の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、各絶縁層10、12の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。第1絶縁層10の厚さは、4μm〜30μm、とりわけ5μm〜15μmであることが好ましい。このことにより、バネ性材料層11と各配線層14、15、16、30との間の絶縁性能を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての弾力性が喪失されることを防止することができる。また、第2絶縁層12の厚さは、4μm〜20μmであることが好ましい。とりわけ、中間領域4における第1配線層14と第2配線層15の第2導体部分15bとの間の厚さが5〜15μmであることが好ましい。このことにより、第1配線層14と第2配線層15との間の絶縁性能を確保するとともに、差動インピーダンスを調整することができ、差動インピーダンスの低減を図ることができる。   The material of the first insulating layer 10 and the second insulating layer 12 is not particularly limited as long as it has a desired insulating property. For example, it is preferable to use polyimide (PI). Note that the material of each of the insulating layers 10 and 12 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the first insulating layer 10 is preferably 4 μm to 30 μm, more preferably 5 μm to 15 μm. As a result, it is possible to ensure insulation performance between the spring material layer 11 and the wiring layers 14, 15, 16, 30 and to prevent loss of the elasticity of the suspension substrate 1 as a whole. it can. Moreover, it is preferable that the thickness of the 2nd insulating layer 12 is 4 micrometers-20 micrometers. In particular, the thickness between the first wiring layer 14 and the second conductor portion 15b of the second wiring layer 15 in the intermediate region 4 is preferably 5 to 15 μm. As a result, the insulation performance between the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 can be secured, the differential impedance can be adjusted, and the differential impedance can be reduced.

各配線層14、15、16、30の材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線層14、15、16、30の厚さは、例えば1μm〜18μm、とりわけ5μm〜12μmであることが好ましい。このことにより、各配線層14、15、16、30の導電性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての弾力性が喪失されることを防止することができる。また、各配線層14、15、16、30の幅は、5μm〜1000μmであり、とりわけ、中間領域4における第1配線層14と第2配線層15の第2導体部分15bの幅が、30〜300μmであることが好ましい。このことにより、差動インピーダンスを調整することができ、差動インピーダンスの低減を図ることができる。   The material of each of the wiring layers 14, 15, 16, and 30 is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, but it is preferable to use copper (Cu). In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used. Here, the thickness of each of the wiring layers 14, 15, 16, and 30 is preferably 1 μm to 18 μm, particularly preferably 5 μm to 12 μm, for example. As a result, the conductivity of each of the wiring layers 14, 15, 16, and 30 can be secured, and loss of the elasticity of the suspension substrate 1 as a whole can be prevented. Moreover, the width of each wiring layer 14, 15, 16, 30 is 5 μm to 1000 μm. In particular, the width of the second conductor portion 15b of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 in the intermediate region 4 is 30. It is preferable that it is -300 micrometers. Thereby, the differential impedance can be adjusted, and the differential impedance can be reduced.

バネ性材料層11の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、好ましくはステンレスを用いることが好適である。また、バネ性材料層11の厚さは、10μm〜30μm、とりわけ15μm〜25μmであることが好ましい。このことにより、バネ性材料層11の導電性および弾力性を確保することができる。   The material of the spring material layer 11 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, elasticity, and strength. For example, stainless steel, aluminum, beryllium copper, or other copper alloys are used. It is possible to use stainless steel, preferably stainless steel. Further, the thickness of the spring material layer 11 is preferably 10 μm to 30 μm, more preferably 15 μm to 25 μm. Thereby, the conductivity and elasticity of the spring material layer 11 can be ensured.

保護層22の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、保護層22の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層22の厚さは、3μm〜20μmであることが好ましく、とりわけ、第1絶縁層10の厚さおよび第2絶縁層12の厚さより小さいことが、より一層好ましい。   As a material of the protective layer 22, it is preferable to use a resin material, for example, polyimide (PI). The material of the protective layer 22 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the protective layer 22 is preferably 3 μm to 20 μm, and particularly preferably smaller than the thickness of the first insulating layer 10 and the thickness of the second insulating layer 12.

ヘッド端子5および外部接続端子6は、各配線層14、15、16、30の端部にニッケル(Ni)および金(Au)を順次施すことにより形成される。このようにして、ヘッド端子5および外部接続端子6の表面が劣化することを防止するとともに、スライダ52のスライダパッド(図示せず)との間における接触抵抗を低減させている。   The head terminal 5 and the external connection terminal 6 are formed by sequentially applying nickel (Ni) and gold (Au) to the end portions of the wiring layers 14, 15, 16, and 30. Thus, the surface of the head terminal 5 and the external connection terminal 6 is prevented from deteriorating, and the contact resistance between the slider 52 and the slider pad (not shown) is reduced.

次に、図4により、本実施の形態におけるサスペンション用基板1を用いたサスペンション41について説明する。図4に示すサスペンション41は、上述したサスペンション用基板1と、サスペンション用基板1の実装領域2とは反対側となる面(下面)に設けられ、後述するスライダ52(図5参照)をディスク63(図6参照)に対して保持するためのロードビーム42とを有している。   Next, a suspension 41 using the suspension substrate 1 in the present embodiment will be described with reference to FIG. The suspension 41 shown in FIG. 4 is provided on the surface (lower surface) opposite to the suspension substrate 1 and the mounting area 2 of the suspension substrate 1 described above, and a slider 52 (see FIG. And a load beam 42 for holding (see FIG. 6).

次に、図5により、本実施の形態におけるサスペンション用基板1を用いたヘッド付サスペンション51について説明する。図5に示すヘッド付サスペンション51は、上述したサスペンション41と、サスペンション用基板1の実装領域2に実装されスライダ52とを有している。   Next, a suspension 51 with a head using the suspension substrate 1 in the present embodiment will be described with reference to FIG. A suspension 51 with a head shown in FIG. 5 includes the above-described suspension 41 and a slider 52 mounted on the mounting region 2 of the suspension substrate 1.

次に、図6により、本実施の形態におけるサスペンション用基板1を用いたハードディスクドライブ61について説明する。図6に示すハードディスクドライブ61は、ケース62と、このケース62に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク63と、このディスク63を回転させるスピンドルモータ64と、ディスク63に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク63に対してデータの書き込みおよび読み込みを行うスライダ52を含むヘッド付サスペンション51とを有している。このうちヘッド付サスペンション51は、ケース62に対して移動自在に取り付けられ、ケース62にはヘッド付サスペンション51のスライダ52をディスク63上に沿って移動させるボイスコイルモータ65が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション51とボイスコイルモータ65との間には、アーム66が連結されている。   Next, a hard disk drive 61 using the suspension substrate 1 in this embodiment will be described with reference to FIG. A hard disk drive 61 shown in FIG. 6 is attached to a case 62, a disk 63 rotatably attached to the case 62 and storing data, a spindle motor 64 for rotating the disk 63, and a desired flying height on the disk 63. And a suspension 51 with a head including a slider 52 for writing and reading data to and from the disk 63. Among them, the suspension with head 51 is attached to the case 62 so as to be movable, and the voice coil motor 65 for moving the slider 52 of the suspension with head 51 along the disk 63 is attached to the case 62. An arm 66 is connected between the suspension 51 with head and the voice coil motor 65.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわちサスペンション用基板1の製造方法について説明する。ここでは、第1配線層14およびグランド配線層30が、サブトラクティブ法により形成される例について説明する。なお、図7では、第2配線層15の第1導体部分15aおよび第3導体部分、並びにグランド配線層30は省略されているが、以下に示す第1配線層14を形成する工程と同様にして所望の形状に形成することができる。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration, that is, a method for manufacturing the suspension substrate 1 will be described. Here, an example in which the first wiring layer 14 and the ground wiring layer 30 are formed by a subtractive method will be described. In FIG. 7, the first conductor portion 15 a and the third conductor portion of the second wiring layer 15 and the ground wiring layer 30 are omitted, but in the same manner as the step of forming the first wiring layer 14 shown below. Can be formed into a desired shape.

まず、図7(a)に示すように、第1絶縁層10と、この第1絶縁層10の下面に設けられ、導電性を有するバネ性材料層11と、第1絶縁層10の上面に設けられた配線材料層26とを有する積層体25を準備する。この積層体25においては、バネ性材料層11および配線材料層26はめっきにより形成されていても良く、あるいは第1絶縁層10とバネ性材料層11および配線材料層26とが互いに接着されていても良い。   First, as shown in FIG. 7A, a first insulating layer 10, a spring material layer 11 having conductivity provided on the lower surface of the first insulating layer 10, and an upper surface of the first insulating layer 10 are provided. A laminated body 25 having the provided wiring material layer 26 is prepared. In the laminate 25, the spring material layer 11 and the wiring material layer 26 may be formed by plating, or the first insulating layer 10, the spring material layer 11 and the wiring material layer 26 are bonded to each other. May be.

次に、図7(b)に示すように、配線材料層26から第1配線層14および第3配線層16が形成されると共に、バネ性材料層11に治具孔(図2参照)が形成される。この場合、まず、積層体25の両面に、図示しないパターン状のレジストが形成される。続いて、このレジストの開口部から、塩化第二鉄水溶液などの腐食液により、配線材料層26がエッチングされて、第1配線層14および第3配線層16が形成されると共に、バネ性材料層11に治具孔が形成される。また、この際、図示しないが、グランド配線層30に、グランド用導電接続部31を形成するためのグランド配線層貫通孔(図示せず)が形成される。その後、これらのレジストが剥離される。   Next, as shown in FIG. 7B, the first wiring layer 14 and the third wiring layer 16 are formed from the wiring material layer 26, and jig holes (see FIG. 2) are formed in the spring material layer 11. It is formed. In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed on both surfaces of the laminate 25. Subsequently, the wiring material layer 26 is etched from the opening of the resist with a corrosive liquid such as a ferric chloride aqueous solution to form the first wiring layer 14 and the third wiring layer 16, and the spring material. A jig hole is formed in the layer 11. At this time, although not shown, a ground wiring layer through hole (not shown) for forming the ground conductive connection portion 31 is formed in the ground wiring layer 30. Thereafter, these resists are peeled off.

次に、図7(c)に示すように、第1配線層14に、第2絶縁層12が積層され、この第2絶縁層12を貫通し、配線用導電接続部20を形成するための配線用貫通孔(図示せず)が形成される。この場合、まず、第1絶縁層10の上方に、各配線層14、16を覆うように第2絶縁層12が形成される。続いて、第2絶縁層12の表面に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成されると共に、バネ性材料層11の全面にレジスト(図示せず)が形成される。次に、パターン状のレジストの開口部から、有機アルカリ液などのエッチング液により第2絶縁層12がエッチングされて、配線用貫通孔が形成される。また、この際、第2絶縁層12に、グランド用導電接続部31を形成するための第2絶縁層貫通孔が形成される。その後、これらのレジストが剥離される。   Next, as shown in FIG. 7C, the second insulating layer 12 is laminated on the first wiring layer 14, and penetrates through the second insulating layer 12 to form the wiring conductive connection portion 20. A wiring through hole (not shown) is formed. In this case, first, the second insulating layer 12 is formed above the first insulating layer 10 so as to cover the wiring layers 14 and 16. Subsequently, a patterned resist (not shown) is formed on the surface of the second insulating layer 12, and a resist (not shown) is formed on the entire surface of the spring material layer 11. Next, the second insulating layer 12 is etched from the opening of the patterned resist with an etching solution such as an organic alkaline solution to form a wiring through hole. At this time, a second insulating layer through-hole for forming the ground conductive connection portion 31 is formed in the second insulating layer 12. Thereafter, these resists are peeled off.

次に、図7(d)に示すように、第2絶縁層12に形成された配線用貫通孔に、配線用導電接続部20が形成されると共に、第2絶縁層12に積層される第2配線層15の第2導体部分15bが形成される。この場合、まず、第2絶縁層12上に、スパッタリングにより、金属薄膜層とCuスパッタリング層とを含むスパッタシード層(図示せず)が形成される。続いて、スパッタシード層上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成される。なお、バネ性材料層11には、全面に亘って、図示しないレジストが形成される。続いて、パターン状のレジストの開口部に、電解銅めっき法により、配線用貫通孔に、配線用導電接続部20が形成されると共に、第2配線層15の第2導体部分15bが形成される。次に、これらのレジストが剥離され、その後、スパッタシード層のうち露出されている部分が除去される。   Next, as shown in FIG. 7D, the wiring conductive connection portion 20 is formed in the wiring through hole formed in the second insulating layer 12, and the second insulating layer 12 is laminated. A second conductor portion 15b of the two wiring layers 15 is formed. In this case, first, a sputter seed layer (not shown) including a metal thin film layer and a Cu sputtering layer is formed on the second insulating layer 12 by sputtering. Subsequently, a patterned resist (not shown) is formed on the sputter seed layer. The spring material layer 11 is formed with a resist (not shown) over the entire surface. Subsequently, the conductive connection part 20 for wiring is formed in the through hole for wiring and the second conductor portion 15b of the second wiring layer 15 is formed in the opening of the patterned resist by electrolytic copper plating. The Next, these resists are stripped, and then the exposed portion of the sputter seed layer is removed.

次に、図7(e)に示すように、第2絶縁層12上に、第2配線層15の第2導体部分15bを覆う保護層22が形成され、この保護層22に、グランド用導電接続部31を外方に露出させるための露出孔33が形成される。この場合、まず、第1絶縁層10の上方の全領域に亘って保護層22が形成される。続いて、保護層22上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成されると共に、バネ性材料層11の全面にレジスト(図示せず)が形成される。次に、パターン状のレジストの開口部から、エッチング液により保護層22がエッチングされ、保護層22が所望の形状に外形加工されて、露出孔33が形成される。その後、これらのレジストが剥離される。   Next, as shown in FIG. 7E, a protective layer 22 that covers the second conductor portion 15b of the second wiring layer 15 is formed on the second insulating layer 12, and a conductive layer for grounding is formed on the protective layer 22. An exposure hole 33 for exposing the connection portion 31 to the outside is formed. In this case, first, the protective layer 22 is formed over the entire region above the first insulating layer 10. Subsequently, a patterned resist (not shown) is formed on the protective layer 22, and a resist (not shown) is formed on the entire surface of the spring material layer 11. Next, the protective layer 22 is etched with an etching solution from the opening of the patterned resist, and the protective layer 22 is trimmed into a desired shape, so that the exposed holes 33 are formed. Thereafter, these resists are peeled off.

次に、第1絶縁層10が、第2絶縁層12と同様にしてエッチングされて所望の形状に外形加工され、第1絶縁層10に、グランド用導電接続部31を形成するための第1絶縁層貫通孔が形成される。   Next, the first insulating layer 10 is etched in the same manner as the second insulating layer 12 to be processed into a desired shape, and a first conductive layer 31 for grounding is formed in the first insulating layer 10. An insulating layer through-hole is formed.

次に、各配線層14、15、16、30の露出されている部分に、NiめっきおよびAuめっきが順次形成され、実装領域2にヘッド端子5が形成されると共に、外部接続領域5において、外部接続端子6が形成される。   Next, Ni plating and Au plating are sequentially formed on the exposed portions of the respective wiring layers 14, 15, 16, 30, the head terminals 5 are formed in the mounting region 2, and in the external connection region 5, External connection terminals 6 are formed.

次に、第1絶縁層貫通孔、グランド配線層貫通孔、および第2絶縁層貫通孔に、ニッケルめっきまたは銅めっきにより、グランド用導電接続部31が形成される。   Next, the ground conductive connection portion 31 is formed in the first insulating layer through hole, the ground wiring layer through hole, and the second insulating layer through hole by nickel plating or copper plating.

その後、バネ性材料層11が、エッチングにより、所望の形状に外形加工される。   Thereafter, the spring material layer 11 is processed into a desired shape by etching.

このようにして得られたサスペンション用基板1の下面に、ロードビーム42が取り付けられて図4に示すサスペンション41が得られる。このサスペンション41の実装領域2にスライダ52が実装されて図5に示すヘッド付サスペンション51が得られる。さらに、このヘッド付サスペンション51がハードディスクドライブ61のケース62に取り付けられて、図6に示すハードディスクドライブ61が得られる。   The load beam 42 is attached to the lower surface of the suspension substrate 1 obtained in this way, and the suspension 41 shown in FIG. 4 is obtained. A slider 52 is mounted on the mounting area 2 of the suspension 41 to obtain a suspension 51 with a head shown in FIG. Furthermore, the suspension 51 with the head is attached to the case 62 of the hard disk drive 61, and the hard disk drive 61 shown in FIG. 6 is obtained.

図6に示すハードディスクドライブ61においてデータの読み込みおよび書き込みを行う際、ボイスコイルモータ65によりヘッド付サスペンション51のスライダ52がディスク63上に沿って移動し、スピンドルモータ64により回転しているディスク63に所望のフライングハイトを保って近接する。このことにより、スライダ52とディスク63との間でデータの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1の実装領域2のヘッド端子5と外部接続領域3の外部接続端子6との間に接続された各配線層14、15、16により電気信号が伝送される。   When reading and writing data in the hard disk drive 61 shown in FIG. 6, the slider 52 of the suspension 51 with the head is moved along the disk 63 by the voice coil motor 65, and the disk 63 rotated by the spindle motor 64 is moved. Keep close to the desired flying height. As a result, data is transferred between the slider 52 and the disk 63. During this time, electrical signals are transmitted by the wiring layers 14, 15, 16 connected between the head terminals 5 in the mounting area 2 of the suspension substrate 1 and the external connection terminals 6 in the external connection area 3.

このように本実施の形態によれば、第1配線層14に第2絶縁層12を介して第2配線層15が積層されている。このことにより、第1配線層と第2配線層との間の差動インピーダンスを低減することができる。また、第1絶縁層10と第2絶縁層12と保護層22が、サスペンション用基板1の長手方向に延びる平面中心線(X)に対して対称の平面形状をそれぞれ有している。このことにより、製造時の加熱等により偏った反りが発生することを防止すると共に、サスペンション用基板1の剛性のバランスを改善することができ、サスペンション用基板1のディスク63に対する浮上を安定させることができる。この結果、差動インピーダンスを低減すると共に浮上安定性を向上させることができる。   Thus, according to the present embodiment, the second wiring layer 15 is laminated on the first wiring layer 14 via the second insulating layer 12. Thereby, the differential impedance between the first wiring layer and the second wiring layer can be reduced. Further, the first insulating layer 10, the second insulating layer 12, and the protective layer 22 have symmetrical plane shapes with respect to the plane center line (X) extending in the longitudinal direction of the suspension substrate 1. As a result, it is possible to prevent the occurrence of biased warping due to heating during manufacturing, to improve the balance of rigidity of the suspension substrate 1, and to stabilize the floating of the suspension substrate 1 with respect to the disk 63. Can do. As a result, the differential impedance can be reduced and the flying stability can be improved.

また、本実施の形態によれば、上述したような第1配線層14および第2配線層15により、書き込み用配線が構成されている。このことにより、書き込み用配線の差動インピーダンスを低減することができ、ディスク63に対するデータの書き込み速度を向上させるとともに、消費電力を抑制することができる。さらには、第1配線層14および第2配線層15の伝送損失が低減することにより、ディスク63に対するデータの書き込みの安定性を向上させることができる。なお、第1配線層14および第2配線層15により、書き込み用配線ではなく、読み込み用配線が構成されるようにしても良い。この場合にも、上記の効果が得られるため、ディスク63からのデータの読み込みの信頼性を向上させることができる。さらには、第1配線層14および第2配線層15が、差動配線による信号が必要な電子素子用配線を構成するようにしても良い。この場合においても、上記の効果が得られるため、電子素子の動作の信頼性を向上させることができる。   Further, according to the present embodiment, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 as described above constitute the writing wiring. Thus, the differential impedance of the write wiring can be reduced, the data writing speed to the disk 63 can be improved, and the power consumption can be suppressed. Further, the transmission loss of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 is reduced, so that the stability of data writing to the disk 63 can be improved. Note that the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 may constitute a reading wiring instead of a writing wiring. Also in this case, since the above-mentioned effect can be obtained, the reliability of reading data from the disk 63 can be improved. Furthermore, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 may constitute an electronic element wiring that requires a signal from a differential wiring. Even in this case, since the above-described effect can be obtained, the reliability of the operation of the electronic element can be improved.

さらに、本実施の形態によれば、上述した効果を有するサスペンション41、ヘッド付サスペンション51、およびハードディスクドライブ61を得ることができる。   Furthermore, according to the present embodiment, the suspension 41, the suspension with head 51, and the hard disk drive 61 having the above-described effects can be obtained.

なお、本実施の形態においては、第1配線層14、第2配線層15の第1導体部分15aおよび第3導体部分、第3配線層16、並びにグランド配線層30が、サブトラクティブ法により形成される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、これらの配線層14、15、16、30をアディティブ法により形成しても良い。   In the present embodiment, the first wiring layer 14, the first conductor portion 15a and the third conductor portion of the second wiring layer 15, the third wiring layer 16, and the ground wiring layer 30 are formed by a subtractive method. An example to be described. However, the present invention is not limited to this, and these wiring layers 14, 15, 16, and 30 may be formed by an additive method.

また、本実施の形態においては、図3に示すように、絶縁層10に対して各配線層14、15、16、30が上方に、バネ性材料層11が下方に配置される例について説明したが、各配線層14、15、16、30を下方に、バネ性材料層11を上方に配置しても良い。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3, an example is described in which the wiring layers 14, 15, 16, and 30 are disposed above and the spring material layer 11 is disposed below the insulating layer 10. However, the wiring layers 14, 15, 16, and 30 may be disposed below and the spring material layer 11 may be disposed above.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。   As mentioned above, although the embodiment of the present invention has been described in detail, the suspension substrate according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Is possible.

1 サスペンション用基板
2 実装領域
3 外部接続領域
4 中間領域
5 ヘッド端子
6 外部接続端子
10 第1絶縁層
11 バネ性材料層
12 第2絶縁層
14 第1配線層
15 第2配線層
15a 第1導体部分
15b 第2導体部分
16 第3配線層
20 配線用導電接続部
21 治具孔
22 保護層
25 積層体
26 配線材料層
30 グランド配線層
31 グランド用導電接続部
33 露出孔
41 サスペンション
42 ロードビーム
51 ヘッド付サスペンション
52 スライダ
61 ハードディスクドライブ
62 ケース
63 ディスク
64 スピンドルモータ
65 ボイスコイルモータ
66 アーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Mounting area | region 3 External connection area | region 4 Intermediate | middle area | region 5 Head terminal 6 External connection terminal 10 1st insulating layer 11 Spring property layer 12 2nd insulating layer 14 1st wiring layer 15 2nd wiring layer 15a 1st conductor Portion 15b Second conductor portion 16 Third wiring layer 20 Wiring conductive connection 21 Jig hole 22 Protective layer 25 Laminate 26 Wiring material layer 30 Ground wiring layer 31 Ground conductive connection 33 Exposed hole 41 Suspension 42 Load beam 51 Suspension with head 52 Slider 61 Hard disk drive 62 Case 63 Disk 64 Spindle motor 65 Voice coil motor 66 Arm

Claims (2)

スライダが実装されるサスペンション用基板において、
第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の一方の面に設けられたバネ性材料層と、
前記第1絶縁層の他方の面に設けられた第1配線層と、
前記第1絶縁層の前記第1配線層側の面に設けられ、当該第1配線層を覆う第2絶縁層と、
前記第1配線層に前記第2絶縁層を介して積層された第2配線層と、
前記第2絶縁層の前記第2配線層側の面に設けられ、当該第2配線層を覆う保護層と、を備え、
前記第1絶縁層と前記第2絶縁層と前記保護層は、サスペンション用基板の長手方向に延びる中心線の両側に配置されるとともに、当該中心線に対して対称の平面形状をそれぞれ有し、
前記第2配線層は、前記中心線に対して、一方の側に配置され、他方の側に配置されておらず、
前記保護層は、前記スライダに接続されるとともに前記第1配線層および前記第2配線層に接続されたヘッド端子より先端側において、分断されていることを特徴とするサスペンション用基板。
In the suspension board on which the slider is mounted,
A first insulating layer;
A spring material layer provided on one surface of the first insulating layer;
A first wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer;
A second insulating layer provided on a surface of the first insulating layer on the first wiring layer side and covering the first wiring layer;
A second wiring layer laminated on the first wiring layer via the second insulating layer;
A protective layer that is provided on a surface of the second insulating layer on the second wiring layer side and covers the second wiring layer;
The first insulating layer, the second insulating layer, and the protective layer are disposed on both sides of a center line extending in the longitudinal direction of the suspension substrate, and each have a plane shape that is symmetric with respect to the center line.
The second wiring layer is disposed on one side with respect to the center line, not disposed on the other side ,
The suspension substrate , wherein the protective layer is connected to the slider and separated from a head terminal connected to the first wiring layer and the second wiring layer .
前記保護層の厚さは、前記第2絶縁層の厚さより小さいことを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein a thickness of the protective layer is smaller than a thickness of the second insulating layer.
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