JP5601564B2 - Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate - Google Patents

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Description

本発明は、サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ、並びにサスペンション用基板の製造方法に係り、とりわけ、配線層の差動インピーダンスを容易に調整することができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ、並びにサスペンション用基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a suspension board, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension board, and more particularly, a suspension board, a suspension, and a suspension board capable of easily adjusting a differential impedance of a wiring layer. The present invention relates to a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み込みを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板を備えている。このサスペンション用基板は、複数の配線層と、スライダが実装される実装領域の近傍に設けられた複数の配線パッドとを有し、各配線パッドが配線層にそれぞれ接続されている。これらの配線パッドが磁気ヘッドスライダのスライダパッドにそれぞれ接続されることにより、磁気ヘッドスライダに対してデータの受け渡しを行うようになっている。   Generally, a hard disk drive (HDD) includes a suspension board on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk on which data is stored is mounted. The suspension substrate has a plurality of wiring layers and a plurality of wiring pads provided in the vicinity of a mounting region on which the slider is mounted, and each wiring pad is connected to the wiring layer. By connecting these wiring pads to the slider pads of the magnetic head slider, data is transferred to the magnetic head slider.

このような磁気ヘッドスライダのスライダパッドと各配線パッドとの接続方法としては、例えば、半田ボールを介して接続する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。ここでは、磁気ヘッドスライダの側面にスライダパッドが設けられ、各スライダパッドとこれに対応する配線層の配線パッドとの間に半田ボールが形成されて接続されている。   As a method of connecting the slider pad of the magnetic head slider and each wiring pad, for example, a method of connecting via a solder ball is known (for example, see Patent Document 1). Here, slider pads are provided on the side surfaces of the magnetic head slider, and solder balls are formed and connected between the slider pads and the wiring pads of the wiring layer corresponding thereto.

ところで、近年の高度情報化社会においては、HDDドライブに対して書き込みまたは読み込みされる情報量を増大させることが要求されている。このようにHDDドライブの情報処理量を増大させるためには、情報を記録する磁気ディスクを従来よりも高密度化することが必要となり、そのため、磁気ディスクと磁気ヘッドスライダとの相対位置をさらに高精度に制御する必要がある。スライダの位置を高精度に制御するためには、スライダに位置制御機能を付加させることが必要となり、それに伴いスライダの端子数が増加する。したがって、サスペンション用基板側の各配線層とスライダとの接続端子数を増加させることが必要となる。   Incidentally, in the recent advanced information society, it is required to increase the amount of information written to or read from the HDD drive. Thus, in order to increase the information processing amount of the HDD drive, it is necessary to increase the density of the magnetic disk for recording information as compared with the conventional one. Therefore, the relative position between the magnetic disk and the magnetic head slider is further increased. It is necessary to control the accuracy. In order to control the position of the slider with high accuracy, it is necessary to add a position control function to the slider, and accordingly, the number of terminals of the slider increases. Therefore, it is necessary to increase the number of connection terminals between each wiring layer on the suspension substrate side and the slider.

しかしながら、このような方法では、磁気ヘッドスライダの側面のスペースは限られているため、スライダとの接続端子数を増加させることは困難である。   However, in such a method, since the space on the side surface of the magnetic head slider is limited, it is difficult to increase the number of connection terminals with the slider.

このことにより、磁気ヘッドスライダの裏面に複数のスライダパッドを設けて、サスペンション用基板の各配線層の配線パッドに接続させる方法が考えられている(例えば、特許文献2参照)。この場合、磁気ヘッドスライダに、より多くのスライダパッドを形成することができるため、スライダとの接続端子数を増加させることが可能となる。   Thus, a method is considered in which a plurality of slider pads are provided on the back surface of the magnetic head slider and connected to the wiring pads of each wiring layer of the suspension substrate (see, for example, Patent Document 2). In this case, since more slider pads can be formed on the magnetic head slider, the number of connection terminals with the slider can be increased.

特開2004−152393号公報JP 2004-152393 A 米国特許出願公開第2007/0274005号明細書US Patent Application Publication No. 2007/0274005

しかしながら、サスペンション用基板においては、HDDを小型化するために、磁気ヘッドスライダが実装される実装領域のスペースは限られている。このことにより、実装領域内に多くの配線パッドを設けた場合に、配線層の幅または配線層間の距離を調整して配線層の差動インピーダンスを調整することが困難であるという問題がある。   However, in the suspension board, in order to reduce the size of the HDD, the space of the mounting area where the magnetic head slider is mounted is limited. Thus, when many wiring pads are provided in the mounting region, there is a problem that it is difficult to adjust the differential impedance of the wiring layer by adjusting the width of the wiring layer or the distance between the wiring layers.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、配線層の差動インピーダンスを容易に調整することができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ、並びにサスペンション用基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and a suspension board, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension board capable of easily adjusting the differential impedance of a wiring layer. It aims at providing the manufacturing method of.

本発明は、裏面にスライダパッドが設けられたスライダを実装する実装領域と、この実装領域に連結され、基部側に位置する外部接続基板接続部とを有するサスペンション用基板において、第1絶縁層と、この第1絶縁層の一方の面に設けられたバネ性金属層と、第1絶縁層の他方の面に設けられた第1配線層と、第1配線層に対して絶縁された第2配線層と、を備え、第2配線層は、実装領域において第1配線層と同一平面上に配置され、実装領域から外部接続基板接続部に亘って第1配線層に第2絶縁層を介して積層され、第1配線層、およびこの第1配線層と同一平面上に配置された第2配線層の部分に、スライダのスライダパッドに導通される配線パッドが設けられていることを特徴とするサスペンション用基板である。   The present invention provides a suspension substrate having a mounting region for mounting a slider having a slider pad on the back surface, and an external connection substrate connecting portion connected to the mounting region and positioned on the base side. A spring metal layer provided on one surface of the first insulating layer; a first wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer; and a second insulated from the first wiring layer. A wiring layer, and the second wiring layer is disposed on the same plane as the first wiring layer in the mounting region, and extends from the mounting region to the external connection board connecting portion via the second insulating layer to the first wiring layer. The first wiring layer and the second wiring layer disposed on the same plane as the first wiring layer are provided with wiring pads that are electrically connected to the slider pad of the slider. This is a suspension substrate.

本発明は、第2配線層のうち第1配線層と同一平面上に配置された部分は、第2配線層のうち第2絶縁層に積層された部分に、転移部を介して接続されていることを特徴とするサスペンション用基板である。   In the present invention, a portion of the second wiring layer that is disposed on the same plane as the first wiring layer is connected to a portion of the second wiring layer that is stacked on the second insulating layer via a transition portion. The suspension substrate is characterized in that:

本発明は、第2絶縁層に貫通孔が形成され、この貫通孔に導電性を有する導電接続部が設けられ、この導電接続部が転移部を構成していることを特徴とするサスペンション用基板である。   The suspension substrate according to the present invention is characterized in that a through hole is formed in the second insulating layer, a conductive connection portion having conductivity is provided in the through hole, and the conductive connection portion forms a transition portion. It is.

本発明は、第1配線層と第2配線層とにより、書き込み用配線が構成されていることを特徴とするサスペンション用基板である。   The present invention is the suspension substrate characterized in that the first wiring layer and the second wiring layer constitute a writing wiring.

本発明は、サスペンション用基板を有することを特徴とするサスペンションである。   The present invention is a suspension having a suspension substrate.

本発明は、サスペンションと、このサスペンションに実装されたスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンションである。   The present invention is a suspension with a head including a suspension and a slider mounted on the suspension.

本発明は、ヘッド付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブである。   The present invention is a hard disk drive having a suspension with a head.

本発明は、裏面にスライダパッドが設けられたスライダを実装する実装領域と、この実装領域に連結され、基部側に位置する外部接続基板接続部とを有するサスペンション用基板の製造方法において、第1絶縁層と、この第1絶縁層の一方の面に設けられたバネ性材料層と、第1絶縁層の他方の面に設けられた配線層とを有する積層体を準備する工程と、配線層から第1配線層を形成するとともに、実装領域において、この第1配線層と同一平面上に、第1配線層と絶縁された第2配線層の一部分を形成する工程と、第1配線層に第2絶縁層を形成する工程と、基部から実装領域に亘って、第1配線層に対して第2絶縁層を介して積層された第2配線層の他の部分を形成する工程と、第1配線層、およびこの第1配線層と同一平面上に配置された第2配線層の当該一部分に、スライダのスライダパッドに導通される配線パッドを形成する工程と、を備えたことを特徴とするサスペンション用基板の製造方法である。   The present invention provides a method for manufacturing a suspension board having a mounting area for mounting a slider having a slider pad on the back surface, and an external connection board connecting part connected to the mounting area and located on the base side. A step of preparing a laminate having an insulating layer, a spring material layer provided on one surface of the first insulating layer, and a wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer; Forming a first wiring layer from the first wiring layer and forming a portion of the second wiring layer insulated from the first wiring layer on the same plane as the first wiring layer in the mounting region; A step of forming a second insulating layer, a step of forming another portion of the second wiring layer stacked on the first wiring layer via the second insulating layer from the base portion to the mounting region, 1 wiring layer and the same wiring layer as this first wiring layer And to the portion of the second wiring layer, a method for producing a suspension substrate, characterized in that it comprises the steps of forming a wiring pad to be electrically connected to the slider pads of the slider, the.

本発明は、第2絶縁層を形成した後、第2配線層の当該一部分に接続される転移部が形成され、第2配線層の当該他の部分を形成する際、第2配線層の当該他の部分は転移部に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法である。   In the present invention, after the second insulating layer is formed, a transition portion connected to the part of the second wiring layer is formed, and when the other part of the second wiring layer is formed, the part of the second wiring layer is formed. The other part is connected to the transition part, which is a method for manufacturing a suspension substrate.

本発明は、転移部を形成する際、第2絶縁層のうち第2配線層の当該一部分に対応する領域に貫通孔が形成され、この貫通孔に導電性を有する導電接続部が形成され、この導電接続部が転移部を構成していることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法である。   In the present invention, when forming the transition portion, a through hole is formed in a region of the second insulating layer corresponding to the portion of the second wiring layer, and a conductive connection portion having conductivity is formed in the through hole. A method for manufacturing a suspension substrate, wherein the conductive connection portion constitutes a transition portion.

本発明によれば、配線層の差動インピーダンスを容易に調整することができる。   According to the present invention, the differential impedance of the wiring layer can be easily adjusted.

図1は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の一例を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing an example of a suspension substrate according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の実装領域の一例を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing an example of a mounting area of the suspension board in the embodiment of the present invention. 図3は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の実装領域の断面構成の一例を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a cross-sectional configuration of a mounting region of the suspension substrate in the embodiment of the present invention. 図4(a)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の実装領域におけるバネ性材料層の平面形状の一例を示す図。図4(b)は、第1絶縁層の平面形状の一例を示す図。図4(c)は、各配線層の平面形状の一例を示す図。図4(d)は、第2絶縁層の平面形状の一例を示す図。図4(e)は、第2配線層の平面形状の一例を示す図。図4(f)は、保護層の平面形状の一例を示す図。FIG. 4A is a diagram showing an example of a planar shape of the spring material layer in the suspension board mounting region in the embodiment of the present invention. FIG. 4B is a diagram illustrating an example of a planar shape of the first insulating layer. FIG. 4C illustrates an example of a planar shape of each wiring layer. FIG. 4D illustrates an example of a planar shape of the second insulating layer. FIG. 4E is a diagram illustrating an example of a planar shape of the second wiring layer. FIG. 4F shows an example of the planar shape of the protective layer. 図5は、本発明の実施の形態におけるサスペンションの一例を示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing an example of a suspension in the embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施の形態におけるヘッド付サスペンションの一例を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing an example of a suspension with a head in the embodiment of the present invention. 図7は、本発明の実施の形態におけるハードディスクドライブの一例を示す平面図。FIG. 7 is a plan view showing an example of a hard disk drive according to the embodiment of the present invention. 図8(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、配線層を形成する工程を示す図。FIGS. 8A, 8B, 8C, and 8D are views showing a process of forming a wiring layer in the method for manufacturing a suspension substrate according to the embodiment of the present invention. 図9(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、第2絶縁層を形成する工程を示す図。FIGS. 9A, 9B, 9C, and 9D are views showing a process of forming a second insulating layer in the method for manufacturing a suspension substrate according to the embodiment of the present invention. 図10(a)、(b)、(c)、(d)、(e)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、第2配線層を形成する工程を示す図。FIGS. 10A, 10B, 10C, 10D, and 10E are views showing a process of forming a second wiring layer in the suspension board manufacturing method according to the embodiment of the present invention. 図11(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、保護層を形成する工程を示す図。11A, 11B, 11C, and 11D are diagrams showing a process of forming a protective layer in the method for manufacturing a suspension substrate in the embodiment of the present invention. 図12(a)、(b)、(c)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、第1絶縁層をエッチングする工程を示す図。12A, 12B, and 12C are views showing a process of etching the first insulating layer in the method for manufacturing the suspension substrate in the embodiment of the present invention. 図13は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、配線パッドを形成する工程を示す図。FIG. 13 is a diagram showing a process of forming a wiring pad in the method for manufacturing a suspension board in the embodiment of the present invention. 図14(a)、(b)、(c)は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法において、バネ性材料層をエッチングする工程を示す図。FIGS. 14A, 14B, and 14C are views showing a step of etching the spring material layer in the method for manufacturing the suspension substrate in the embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。ここで、図1乃至図114は、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスク、並びにサスペンション用基板の製造方法を示す図である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, FIG. 1 to FIG. 114 are diagrams showing a manufacturing method of a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk, and a suspension substrate in an embodiment of the present invention.

まず、図1によりサスペンション用基板1の全体構成について説明する。図1に示すサスペンション用基板1は、裏面に複数(例えば、12個)のスライダパッド(図示せず)が設けられたスライダ52(図6参照)を実装する実装領域2と、この実装領域2に連結され、基部側に位置する外部接続基板接続部3と、実装領域2と外部接続基板接続部3とを接続する11個の配線層(第1配線層14、第2配線層15、および他の配線層16を含む)とを有している。なお、図2に示すように、実装領域2に実装されるスライダ52は、970μmの縦寸法と、730μmの横寸法とを有している。ここで、実装領域2とは、図2に示すように、実装されたスライダ52に対応する領域のことをいう。   First, the overall configuration of the suspension substrate 1 will be described with reference to FIG. A suspension substrate 1 shown in FIG. 1 has a mounting area 2 for mounting a slider 52 (see FIG. 6) provided with a plurality of (for example, 12) slider pads (not shown) on the back surface, and the mounting area 2. Are connected to the external connection substrate connection portion 3 located on the base side, and 11 wiring layers (the first wiring layer 14, the second wiring layer 15, and the connection region 2 and the external connection substrate connection portion 3). Other wiring layer 16 is included). As shown in FIG. 2, the slider 52 mounted in the mounting region 2 has a vertical dimension of 970 μm and a horizontal dimension of 730 μm. Here, the mounting area 2 refers to an area corresponding to the mounted slider 52, as shown in FIG.

次に、図2乃至図4を用いてサスペンション用基板1の断面構成について説明する。サスペンション用基板1は、第1絶縁層10と、この第1絶縁層10の一方の面(下面)に設けられ、導電性を有するバネ性材料層11と、第1絶縁層10の他方の面(上面)に設けられた第1配線層14と、この第1配線層14に対して絶縁された第2配線層15および他の配線層16とを備えている。   Next, a cross-sectional configuration of the suspension substrate 1 will be described with reference to FIGS. The suspension substrate 1 is provided on the first insulating layer 10, one surface (lower surface) of the first insulating layer 10, the spring material layer 11 having conductivity, and the other surface of the first insulating layer 10. A first wiring layer 14 provided on the (upper surface), a second wiring layer 15 and another wiring layer 16 insulated from the first wiring layer 14 are provided.

このうち第2配線層15は、実装領域2において、第1配線層14と同一平面上に配置されるとともに、実装領域2から外部接続基板接続部3に亘って、第1配線層14に第2絶縁層12を介して積層されている。すなわち、第2配線層15は、実装領域2において第1配線層14と同一平面上に配置されたスライダ側部分15aと、実装領域2内から外部接続基板接続部3に延び、第1配線層14に第2絶縁層12を介して積層された基部側部分15bとを有している。このうち第2配線層15のスライダ側部分15aは、基部側部分15bに対して、実装領域2内に設けられた転移部21を介して接続されている。   Among these, the second wiring layer 15 is arranged on the same plane as the first wiring layer 14 in the mounting region 2, and the first wiring layer 14 extends from the mounting region 2 to the external connection substrate connecting portion 3. Two insulating layers 12 are stacked. That is, the second wiring layer 15 extends from the mounting region 2 to the external connection board connecting portion 3 to the external connection board connecting portion 3 and is disposed on the same plane as the first wiring layer 14 in the mounting region 2. 14 and a base portion 15b laminated via the second insulating layer 12. Of these, the slider-side portion 15a of the second wiring layer 15 is connected to the base-side portion 15b via a transition portion 21 provided in the mounting region 2.

ここで、図3においては、図面を明瞭化するために、他の配線層16(第1配線層14および第2配線層15以外の配線層)を省略しているが、図2および図4に示すように、他の配線層16は、第1配線層14と同一平面上に設けられている。また、第1配線層14は、第2配線層15のスライダ側部分15aの両側方で分離して示されているが、図4に示すように、一体に形成されている。   Here, in FIG. 3, other wiring layers 16 (wiring layers other than the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15) are omitted for the sake of clarity, but FIGS. 2 and 4 are omitted. As shown, the other wiring layer 16 is provided on the same plane as the first wiring layer 14. The first wiring layer 14 is shown separately on both sides of the slider side portion 15a of the second wiring layer 15, but is integrally formed as shown in FIG.

また、図2および図4に示すように、第2配線層15の基部側部分15bは、転移部21から延び、他の配線層16と略同一の線幅を有する小幅部分15cと、この小幅部分15cに接続され、実装領域2内から外部接続基板接続部3に延び、小幅部分15cよりも大きな線幅を有する大幅部分15dとを有している。これら小幅部分15cと大幅部分15dとの間に、線幅を連続的に変化させる幅変換部分15eが介在されている。同様にして、図4に示すように、第1配線層14は、第2配線層15の小幅部分15cに対応する線幅を有する小幅部分14cと、第2配線層15の大幅部分15dに対応する線幅を有する大幅部分14dと、第2配線層15の幅変換部分15eに対応する形状を有する幅変換部分14eとを有している。このようにして、第1配線層14および第2配線層15は、互いに積層されている部分において、略同一の平面形状を有している。   As shown in FIGS. 2 and 4, the base portion 15 b of the second wiring layer 15 extends from the transition portion 21 and has a small width portion 15 c having substantially the same line width as the other wiring layers 16. A large portion 15d is connected to the portion 15c, extends from the mounting region 2 to the external connection board connecting portion 3, and has a larger line width than the small width portion 15c. A width converting portion 15e that continuously changes the line width is interposed between the small width portion 15c and the large portion 15d. Similarly, as shown in FIG. 4, the first wiring layer 14 corresponds to a small width portion 14 c having a line width corresponding to the small width portion 15 c of the second wiring layer 15 and a large portion 15 d of the second wiring layer 15. A large portion 14d having a line width and a width conversion portion 14e having a shape corresponding to the width conversion portion 15e of the second wiring layer 15. Thus, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 have substantially the same planar shape in the portion where they are stacked.

このような第1配線層14および第2配線層15は、書き込み用配線(ライター用配線)を構成している。なお、図2および図4においては、第1配線層14と第2配線層15が2組設けられているが、このことに限られることはなく、第1配線層14と第2配線層15は一組だけであっても良い。   The first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 as described above constitute a writing wiring (lighter wiring). 2 and 4, two sets of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 are provided. However, the present invention is not limited to this, and the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 are not limited thereto. There may be only one set.

各配線層14、15、16に、スライダ52のスライダパッドに導通される円形状の配線パッド17が設けられている。このうち、第2配線層15については、第1配線層14と同一平面上に配置された部分、すなわちスライダ側部分15aに、配線パッド17が設けられている。なお、本実施の形態においては、スライダ52の12個のスライダパッドに対応して、接地用端子17aを含む12個の配線パッド17が形成されている。各配線パッド17は、100μmの直径を有し、図2に示すように、各配線パッド17の縦ピッチは125μm、横ピッチは218μmとなるように配置されている。   Each wiring layer 14, 15, 16 is provided with a circular wiring pad 17 that is electrically connected to the slider pad of the slider 52. Among these, for the second wiring layer 15, the wiring pad 17 is provided on a portion arranged on the same plane as the first wiring layer 14, that is, on the slider side portion 15 a. In the present embodiment, twelve wiring pads 17 including the grounding terminal 17 a are formed corresponding to the twelve slider pads of the slider 52. Each wiring pad 17 has a diameter of 100 μm, and as shown in FIG. 2, each wiring pad 17 is arranged so that the vertical pitch is 125 μm and the horizontal pitch is 218 μm.

図4に示すように、第1絶縁層10には、接地用端子17aに対応する接地用貫通孔10aが設けられ、この接地用貫通孔10aに設けられた導電部(図示せず)を介して、接地用端子17aがバネ性金属層11に接続されるようになっている。   As shown in FIG. 4, the first insulating layer 10 is provided with a grounding through hole 10a corresponding to the grounding terminal 17a, and through a conductive portion (not shown) provided in the grounding through hole 10a. Thus, the grounding terminal 17 a is connected to the spring metal layer 11.

図2および図4に示すように、第2絶縁層12に、円筒状の2つの貫通孔(ビア)20が形成されている。各貫通孔20は、第2配線層15のスライダ側部分15aに対応する領域に配置され、70μmの開口径を有している。また、第2絶縁層12には、配線パッド17を形成するための円形状の孔12aが設けられている。   As shown in FIGS. 2 and 4, two cylindrical through holes (vias) 20 are formed in the second insulating layer 12. Each through hole 20 is disposed in a region corresponding to the slider side portion 15a of the second wiring layer 15 and has an opening diameter of 70 μm. The second insulating layer 12 is provided with a circular hole 12 a for forming the wiring pad 17.

各貫通孔20には、図3に示すように、導電性を有する導電接続部21aが設けられ、この導電接続部21aが転移部21を構成している。導電接続部21aは、後述する金属薄膜層23およびCuスパッタリング層24を介して第2配線層15のスライダ側部分15aに接続されている。このようにして、第2配線層15のスライダ側部分15aおよび基部側部分15bは、導電接続部21aを介して接続されている。   As shown in FIG. 3, each through hole 20 is provided with a conductive connection portion 21 a having conductivity, and this conductive connection portion 21 a constitutes a transition portion 21. The conductive connection portion 21a is connected to the slider side portion 15a of the second wiring layer 15 through a metal thin film layer 23 and a Cu sputtering layer 24 which will be described later. In this way, the slider side portion 15a and the base portion 15b of the second wiring layer 15 are connected via the conductive connection portion 21a.

また、図3に示すように、本実施の形態におけるバネ性材料層11は、破断溝11aを介して、3つのバネ性材料部分11bに区画されている。   Moreover, as shown in FIG. 3, the spring material layer 11 in this Embodiment is divided into the three spring material parts 11b through the fracture | rupture groove | channel 11a.

第2絶縁層12上には、第2配線層15の基部側部分15bを覆う保護層22が設けられ、第2配線層15の基部側部分15bが劣化することを防止している。この保護層22には、配線パッド17を形成するための円形状の孔22aが設けられている。   On the second insulating layer 12, a protective layer 22 that covers the base portion 15b of the second wiring layer 15 is provided to prevent the base portion 15b of the second wiring layer 15 from deteriorating. The protective layer 22 is provided with a circular hole 22 a for forming the wiring pad 17.

第2配線層15の基部側部分15bおよび導電接続部21aと第2絶縁層12との間に、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、もしくはそれらの合金からなる金属薄膜層23と、銅(Cu)からなるCuスパッタリング層24が介在されている。すなわち、第2絶縁層12側に金属薄膜層23が形成され、この金属薄膜層23上にCuスパッタリング層24が形成されている。このようにして、第2絶縁層12に対して、第2配線層15の基部側部分15bおよび導電接続部21aを確実に付着させるように構成されている。   Between the base side portion 15b of the second wiring layer 15 and the conductive connection portion 21a and the second insulating layer 12, a metal thin film layer 23 made of nickel (Ni), chromium (Cr), or an alloy thereof, and copper ( A Cu sputtering layer 24 made of Cu) is interposed. That is, a metal thin film layer 23 is formed on the second insulating layer 12 side, and a Cu sputtering layer 24 is formed on the metal thin film layer 23. In this way, the base portion 15b of the second wiring layer 15 and the conductive connection portion 21a are securely attached to the second insulating layer 12.

次に、各構成部材について詳細に述べる。   Next, each component will be described in detail.

第1絶縁層10および第2絶縁層12の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、各絶縁層10、12の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。また、各絶縁層10、12の厚さは、5μm〜30μm、とりわけ10μm〜20μmであることが好ましい。このことにより、バネ性材料層11と各配線層14、15、16との間の絶縁性能を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての弾力性が喪失されることを防止することができる。   The material of the first insulating layer 10 and the second insulating layer 12 is not particularly limited as long as it has a desired insulating property. For example, it is preferable to use polyimide (PI). Note that the material of each of the insulating layers 10 and 12 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Moreover, it is preferable that the thickness of each insulating layers 10 and 12 is 5 micrometers-30 micrometers, especially 10 micrometers-20 micrometers. As a result, it is possible to ensure the insulation performance between the spring material layer 11 and the wiring layers 14, 15, 16 and to prevent the elasticity of the suspension substrate 1 as a whole from being lost.

各配線層14、15、16の材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線層14、15、16の厚さは、例えば1μm〜18μm、とりわけ5μm〜12μmであることが好ましい。このことにより、各配線層14、15、16の導電性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての弾力性が喪失されることを防止することができる。   The material of each of the wiring layers 14, 15, and 16 is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, but it is preferable to use copper (Cu). In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used. Here, the thickness of each of the wiring layers 14, 15, 16 is, for example, preferably 1 μm to 18 μm, and particularly preferably 5 μm to 12 μm. As a result, it is possible to ensure the conductivity of each of the wiring layers 14, 15, 16 and to prevent the elasticity of the suspension substrate 1 as a whole from being lost.

配線パッド17は、各配線層14、15、16上に形成されたニッケル(Ni)からなるNiめっき層18と、このNiめっき層18上に形成された金(Au)からなるAuめっき層19とからなっている。このようにして、配線パッド17の表面が劣化することを防止するとともに、スライダ52のスライダパッドとの間における接触抵抗を低減させている。   The wiring pad 17 includes a Ni plating layer 18 made of nickel (Ni) formed on each wiring layer 14, 15, 16 and an Au plating layer 19 made of gold (Au) formed on the Ni plating layer 18. It is made up of. In this way, the surface of the wiring pad 17 is prevented from being deteriorated, and the contact resistance between the slider 52 and the slider pad is reduced.

各導電接続部21aの材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、各配線層14、15、16と同じ材料、すなわち銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。   The material of each conductive connection portion 21a is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, but the same material as each wiring layer 14, 15, 16 is used, that is, copper (Cu). Is preferred. In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used.

バネ性材料層11の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、好ましくはステンレスを用いることが好適である。また、バネ性材料層11の厚さは、10μm〜30μm、とりわけ15μm〜25μmであることが好ましい。このことにより、バネ性材料層11の導電性および弾力性を確保することができる。   The material of the spring material layer 11 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, elasticity, and strength. For example, stainless steel, aluminum, beryllium copper, or other copper alloys are used. It is possible to use stainless steel, preferably stainless steel. Further, the thickness of the spring material layer 11 is preferably 10 μm to 30 μm, more preferably 15 μm to 25 μm. Thereby, the conductivity and elasticity of the spring material layer 11 can be ensured.

保護層22の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、保護層22の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層22の厚さは、3μm〜30μmであることが好ましい。   As a material of the protective layer 22, it is preferable to use a resin material, for example, polyimide (PI). The material of the protective layer 22 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the protective layer 22 is preferably 3 μm to 30 μm.

次に、図5により、本実施の形態におけるサスペンション41について説明する。図5に示すサスペンション41は、上述したサスペンション用基板1と、サスペンション用基板1の実装領域2とは反対側となる面(下面)に設けられ、後述するスライダ52(図6参照)をディスク63(図7参照)に対して保持するためのロードビーム42とを有している。   Next, the suspension 41 in the present embodiment will be described with reference to FIG. The suspension 41 shown in FIG. 5 is provided on the surface (lower surface) opposite to the suspension substrate 1 and the mounting area 2 of the suspension substrate 1 described above, and a slider 52 (see FIG. And a load beam 42 for holding (see FIG. 7).

次に、図6により、本実施の形態におけるヘッド付サスペンション51について説明する。図6に示すヘッド付サスペンション51は、上述したサスペンション41と、サスペンション用基板1の実装領域2に実装され、裏面に12個のスライダパッドが設けられたスライダ52とを有している。   Next, the suspension with head 51 in the present embodiment will be described with reference to FIG. A suspension 51 with a head shown in FIG. 6 includes the suspension 41 described above and a slider 52 mounted on the mounting region 2 of the suspension substrate 1 and having 12 slider pads on the back surface.

次に、図7により、本実施の形態におけるハードディスクドライブ61について説明する。図7に示すハードディスクドライブ61は、ケース62と、このケース62に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク63と、このディスク63を回転させるスピンドルモータ64と、ディスク63に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク63に対してデータの書き込みおよび読み込みを行うスライダ52を含むヘッド付サスペンション51とを有している。このうちヘッド付サスペンション51は、ケース62に対して移動自在に取り付けられ、ケース62にはヘッド付サスペンション51のスライダ52をディスク63上に沿って移動させるボイスコイルモータ65が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション51とボイスコイルモータ65との間には、アーム66が連結されている。   Next, the hard disk drive 61 in the present embodiment will be described with reference to FIG. A hard disk drive 61 shown in FIG. 7 has a case 62, a disk 63 that is rotatably attached to the case 62 and stores data, a spindle motor 64 that rotates the disk 63, and a desired flying height on the disk 63. And a suspension 51 with a head including a slider 52 for writing and reading data to and from the disk 63. Among them, the suspension with head 51 is attached to the case 62 so as to be movable, and the voice coil motor 65 for moving the slider 52 of the suspension with head 51 along the disk 63 is attached to the case 62. An arm 66 is connected between the suspension 51 with head and the voice coil motor 65.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわちサスペンション用基板1の製造方法について説明する。なお、図8乃至図14では他の配線層16は省略されているが、以下に示す第1配線層14を形成する工程と同様にして所望の形状に形成することができる。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration, that is, a method for manufacturing the suspension substrate 1 will be described. Although the other wiring layer 16 is omitted in FIGS. 8 to 14, it can be formed in a desired shape in the same manner as the step of forming the first wiring layer 14 shown below.

まず、図8(a)に示すように、第1絶縁層10と、この第1絶縁層10の下面に設けられ、導電性を有するバネ性材料層11と、第1絶縁層10の上面に設けられた配線材料層26とを有する積層体25を準備する。この積層体25においては、バネ性材料層11および配線材料層26はめっきにより形成されていても良く、あるいは第1絶縁層10とバネ性材料層11および配線材料層26とが互いに接着されていても良い。   First, as shown in FIG. 8A, a first insulating layer 10, a spring material layer 11 having conductivity provided on the lower surface of the first insulating layer 10, and an upper surface of the first insulating layer 10. A laminated body 25 having the provided wiring material layer 26 is prepared. In the laminate 25, the spring material layer 11 and the wiring material layer 26 may be formed by plating, or the first insulating layer 10, the spring material layer 11 and the wiring material layer 26 are bonded to each other. May be.

次に、図8(b)に示すように、積層体25の両面にレジスト27、28が形成される。すなわち、配線材料層26の表面に、各配線層14、15を形成するためのパターン状のレジスト27が形成され、バネ性材料層11の全面にレジスト28が形成される。   Next, as shown in FIG. 8B, resists 27 and 28 are formed on both surfaces of the laminate 25. That is, a patterned resist 27 for forming the wiring layers 14 and 15 is formed on the surface of the wiring material layer 26, and a resist 28 is formed on the entire surface of the spring material layer 11.

次に、パターン状のレジスト27の開口部から、塩化第二鉄水溶液などの腐食液により、配線材料層26がエッチングされて、各配線層14、15が形成される(図8(c)参照)。すなわち、第1配線層14とともに、実装領域2において第1配線層14と同一平面上に位置し、第1配線層14と絶縁された第2配線層15のスライダ側部分15aが形成される。その後、これらのレジスト27、28が剥離される(図8(d)参照)。   Next, the wiring material layer 26 is etched from the opening of the patterned resist 27 with a corrosive liquid such as a ferric chloride aqueous solution to form the wiring layers 14 and 15 (see FIG. 8C). ). That is, together with the first wiring layer 14, the slider-side portion 15 a of the second wiring layer 15 that is located on the same plane as the first wiring layer 14 in the mounting region 2 and is insulated from the first wiring layer 14 is formed. Thereafter, these resists 27 and 28 are peeled off (see FIG. 8D).

次に、図9に示すように、第1配線層14に第2絶縁層12が形成されて貫通孔20が形成される。この場合、まず、図9(a)に示すように、第1絶縁層10の上方に、各配線層14、15を覆うように第2絶縁層12が形成される。次に、第2絶縁層12の表面に、貫通孔20および配線パッド17のための孔12aを形成するためのパターン状のレジスト29が形成され、バネ性材料層11の全面にレジスト30が形成される(図9(b)参照)。   Next, as shown in FIG. 9, the second insulating layer 12 is formed in the first wiring layer 14 to form the through hole 20. In this case, first, as shown in FIG. 9A, the second insulating layer 12 is formed above the first insulating layer 10 so as to cover the wiring layers 14 and 15. Next, a patterned resist 29 for forming the through hole 20 and the hole 12a for the wiring pad 17 is formed on the surface of the second insulating layer 12, and a resist 30 is formed on the entire surface of the spring material layer 11. (See FIG. 9B).

次に、パターン状のレジスト29の開口部から、有機アルカリ液などのエッチング液により第2絶縁層12がエッチングされて、貫通孔20および孔12aが形成される(図9(c)参照)。この場合、貫通孔20および各孔12aにおいて、各配線層14、15の一部が露出している。その後、これらのレジスト29、30が剥離される(図9(d)参照)。   Next, the second insulating layer 12 is etched from the opening of the patterned resist 29 with an etching solution such as an organic alkaline solution to form the through holes 20 and the holes 12a (see FIG. 9C). In this case, a part of each wiring layer 14 and 15 is exposed in the through hole 20 and each hole 12a. Thereafter, these resists 29 and 30 are peeled off (see FIG. 9D).

次に、図10に示すように、導電接続部21a、および第2配線層15の基部側部分15bが形成される。この場合、まず、図10(a)に示すように、第2絶縁層12上、および各配線層14、15の露出されている部分に、金属薄膜層23、Cuスパッタリング層24が順次形成される。このCuスパッタリング層24上に、導電接続部21aおよび第2配線層15の基部側部分15bを形成するためのパターン状のレジスト31が形成され、バネ性材料層11の全面にレジスト32が形成される(図10(b)参照)。   Next, as shown in FIG. 10, the conductive connection portion 21 a and the base portion 15 b of the second wiring layer 15 are formed. In this case, first, as shown in FIG. 10A, the metal thin film layer 23 and the Cu sputtering layer 24 are sequentially formed on the second insulating layer 12 and the exposed portions of the wiring layers 14 and 15. The A patterned resist 31 for forming the conductive connection portion 21a and the base portion 15b of the second wiring layer 15 is formed on the Cu sputtering layer 24, and a resist 32 is formed on the entire surface of the spring material layer 11. (See FIG. 10B).

次に、パターン状のレジスト31の開口部に、電解銅めっき法により第2絶縁層12の貫通孔20に導電接続部21aが形成されるとともに、第2配線層15の基部側部分15bが形成される(図10(c)参照)。この場合、第2配線層15は導電接続部21aに接続され、導電接続部21aは、金属薄膜層23およびCuスパッタリング層24を介して第2配線層15のスライダ側部分15aに接続される。その後、これらのレジスト31、32が剥離されて(図10(d)参照)、金属薄膜層23およびCuスパッタリング層24のうち露出されている部分が除去される(図10(e)参照)。   Next, the conductive connection portion 21a is formed in the through hole 20 of the second insulating layer 12 and the base portion 15b of the second wiring layer 15 is formed in the opening of the patterned resist 31 by electrolytic copper plating. (See FIG. 10C). In this case, the second wiring layer 15 is connected to the conductive connection portion 21a, and the conductive connection portion 21a is connected to the slider side portion 15a of the second wiring layer 15 through the metal thin film layer 23 and the Cu sputtering layer 24. Thereafter, the resists 31 and 32 are peeled off (see FIG. 10D), and the exposed portions of the metal thin film layer 23 and the Cu sputtering layer 24 are removed (see FIG. 10E).

次に、図11に示すように、第2配線層15にパターン状の保護層22が形成される。この場合、まず、第1絶縁層10の上方の全領域に亘って保護層22が形成される(図11(a)参照)。次に、保護層22上に、パターン状のレジスト33が形成され、バネ性材料層11の全面にレジスト34が形成される(図11(b)参照)。次に、パターン状のレジスト33の開口部から、エッチング液により保護層22がエッチングされる(図11(c)参照)。この場合、保護層22に、配線パッド17を形成するための孔22aが形成され、各孔22aにおいて、各配線層14、15の一部が露出する。その後、これらのレジスト33、34が剥離される(図11(d)参照)。   Next, as shown in FIG. 11, a patterned protective layer 22 is formed on the second wiring layer 15. In this case, first, the protective layer 22 is formed over the entire region above the first insulating layer 10 (see FIG. 11A). Next, a patterned resist 33 is formed on the protective layer 22, and a resist 34 is formed on the entire surface of the spring material layer 11 (see FIG. 11B). Next, the protective layer 22 is etched from the opening of the patterned resist 33 with an etchant (see FIG. 11C). In this case, a hole 22a for forming the wiring pad 17 is formed in the protective layer 22, and a part of each wiring layer 14, 15 is exposed in each hole 22a. Thereafter, these resists 33 and 34 are peeled off (see FIG. 11D).

次に、図12に示すように、第1絶縁層10がエッチングされる。この場合、まず、図12(a)に示すように、第1絶縁層10の上方にパターン状のレジスト35が形成されるとともに、バネ性材料層11の全面にレジスト36が形成される。次に、パターン状のレジスト35の開口部から、エッチング液により第1絶縁層10がエッチングされて、第1絶縁層10のうち露出されている部分が除去される(図12(b)参照)。その後、これらのレジスト35、36が剥離される(図12(c)参照)。   Next, as shown in FIG. 12, the first insulating layer 10 is etched. In this case, first, as shown in FIG. 12A, a patterned resist 35 is formed above the first insulating layer 10 and a resist 36 is formed on the entire surface of the spring material layer 11. Next, the exposed portion of the first insulating layer 10 is removed by etching the first insulating layer 10 with an etchant from the opening of the patterned resist 35 (see FIG. 12B). . Thereafter, these resists 35 and 36 are peeled off (see FIG. 12C).

次に、図13に示すように、第1配線層14の露出されている部分、および第2配線層15のスライダ側部分15aの露出されている部分に、Niめっき層18およびAuめっき層19が順次形成される。このようにして、各配線層14、15に配線パッド17が形成される。   Next, as shown in FIG. 13, the Ni plating layer 18 and the Au plating layer 19 are formed on the exposed portion of the first wiring layer 14 and the exposed portion of the slider-side portion 15 a of the second wiring layer 15. Are sequentially formed. In this way, the wiring pads 17 are formed on the wiring layers 14 and 15.

次に、図14に示すように、バネ性材料層11が、破断溝11aを介して3つのバネ性材料部分11bに分離される。この場合、まず、図14(a)に示すように、バネ性材料層11の上方の全領域に亘ってレジスト37が形成されるとともに、バネ性材料層11の下面に、パターン状のレジスト38が形成される。次に、パターン状のレジスト38の開口部から、塩化第二鉄水溶液などの腐食液により、バネ性材料層11がエッチングされる。このようにして、破断溝11aが形成され、バネ性材料層11が3つのバネ性材料部分11bに分離される(図14(b)参照)。その後、レジスト37、38が剥離され、本実施の形態によるサスペンション用基板1の断面構成が得られる(図3および図14(c)参照)。   Next, as shown in FIG. 14, the spring material layer 11 is separated into three spring material portions 11b via the fracture grooves 11a. In this case, first, as shown in FIG. 14A, a resist 37 is formed over the entire region above the spring material layer 11, and a patterned resist 38 is formed on the lower surface of the spring material layer 11. Is formed. Next, the spring material layer 11 is etched from the opening of the patterned resist 38 with a corrosive liquid such as a ferric chloride aqueous solution. Thus, the fracture | rupture groove | channel 11a is formed and the springy material layer 11 is isolate | separated into the three springy material parts 11b (refer FIG.14 (b)). Thereafter, the resists 37 and 38 are peeled off to obtain a cross-sectional configuration of the suspension substrate 1 according to the present embodiment (see FIGS. 3 and 14C).

このようにして得られたサスペンション用基板1の下面に、ロードビーム42が取り付けられて図5に示すサスペンション41が得られる。このサスペンション41の実装領域2に、裏面に12個のスライダパッドが設けられたスライダ52が実装されて図6に示すヘッド付サスペンション51が得られる。この場合、スライダ52のスライダパッドが各配線層14、15、16の配線パッド17に接続される。さらに、このヘッド付サスペンション51がハードディスクドライブ61のケース62に取り付けられて、図7に示すハードディスクドライブ61が得られる。   The load beam 42 is attached to the lower surface of the suspension substrate 1 obtained in this way, and the suspension 41 shown in FIG. 5 is obtained. A suspension 52 with a head shown in FIG. 6 is obtained by mounting a slider 52 having 12 slider pads on the back surface in the mounting area 2 of the suspension 41. In this case, the slider pad of the slider 52 is connected to the wiring pad 17 of each wiring layer 14, 15, 16. Further, the suspension 51 with the head is attached to the case 62 of the hard disk drive 61 to obtain the hard disk drive 61 shown in FIG.

図7に示すハードディスクドライブ61においてデータの読み込みおよび書き込みを行う際、ボイスコイルモータ65によりヘッド付サスペンション51のスライダ52がディスク63上に沿って移動し、スピンドルモータ64により回転しているディスク63に所望のフライングハイトを保って近接する。このことにより、スライダ52とディスク63との間で、スライダパッドおよび配線パッド17を介してデータの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1の実装領域2と外部接続基板接続部3との間に接続された各配線層14、15、16により電気信号が伝送される。   When data is read and written in the hard disk drive 61 shown in FIG. 7, the slider 52 of the head suspension 51 is moved along the disk 63 by the voice coil motor 65, and the disk 63 is rotated by the spindle motor 64. Keep close to the desired flying height. As a result, data is transferred between the slider 52 and the disk 63 via the slider pad and the wiring pad 17. During this time, electrical signals are transmitted by the respective wiring layers 14, 15, 16 connected between the mounting region 2 of the suspension substrate 1 and the external connection substrate connecting portion 3.

このように本実施の形態によれば、実装領域2から外部接続基板接続部3に亘って、第1配線層14と第2配線層15とが第2絶縁層12を介して積層されている。このことにより、実装領域2において、各配線層を引き回すためのスペースを増大させることができる。このため、第1配線層14および第2配線層15の差動インピーダンスを容易に調整することができる。この場合、例えば、図2および図4に示すように、第1配線層14および第2配線層15の線幅を増やすことができる。このことにより、第1配線層14および第2配線層15の差動インピーダンスを低下させることができる。また、第1配線層14と第2配線層15(基部側部分15b)との間の第2絶縁層12の厚みを増大させて、第1配線層14および第2配線層15の差動インピーダンスを低減させることもできる。このことにより、第1配線層14と第2配線層15との間の伝送損失を低減させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 are stacked via the second insulating layer 12 from the mounting region 2 to the external connection substrate connecting portion 3. . This can increase the space for routing each wiring layer in the mounting region 2. For this reason, the differential impedance of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 can be easily adjusted. In this case, for example, as shown in FIGS. 2 and 4, the line widths of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 can be increased. As a result, the differential impedance of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 can be reduced. Further, the differential impedance of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 is increased by increasing the thickness of the second insulating layer 12 between the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 (base portion 15b). Can also be reduced. As a result, transmission loss between the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 can be reduced.

また、本実施の形態によれば、上述したような第1配線層14および第2配線層15により、書き込み用配線が構成されている。このことにより、書き込み用配線の差動インピーダンスが低下するため、ディスク63に対するデータの書き込み速度を向上させるとともに、消費電力を抑制することができる。さらには、第1配線層14および第2配線層15の伝送損失が低減することにより、ディスク63に対するデータの書き込みの安定性を向上させることができる。なお、第1配線層14および第2配線層15により、書き込み用配線ではなく、読み込み用配線が構成されるようにしても良い。この場合にも、上記の効果が得られるため、ディスク63からのデータの読み込みの信頼性を向上させることができる。   Further, according to the present embodiment, the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 as described above constitute the writing wiring. As a result, the differential impedance of the write wiring decreases, so that the speed of writing data to the disk 63 can be improved and the power consumption can be suppressed. Further, the transmission loss of the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 is reduced, so that the stability of data writing to the disk 63 can be improved. Note that the first wiring layer 14 and the second wiring layer 15 may constitute a reading wiring instead of a writing wiring. Also in this case, since the above-mentioned effect can be obtained, the reliability of reading data from the disk 63 can be improved.

また、本実施の形態によれば、上述したように、第1配線層14と第2配線層とが第2絶縁層12を介して積層されている。このことにより、スペースが限られている実装領域2において多数の配線パッドが設けられている場合に、各配線パッド17から延びる各配線層14、15、16を互いに絶縁距離を確保しながら引き回すことができる。このため、サスペンション用基板1に形成される配線パッド17の個数を増加させて、多数(例えば、12個)のスライダパッドを有するスライダ52を実装することができ、情報処理量を増大させて、磁気ディスクと磁気ヘッドスライダの相対位置を高精度に制御することができる。   Further, according to the present embodiment, as described above, the first wiring layer 14 and the second wiring layer are laminated via the second insulating layer 12. As a result, when a large number of wiring pads are provided in the mounting area 2 where the space is limited, the wiring layers 14, 15, 16 extending from the wiring pads 17 are routed while securing an insulating distance. Can do. For this reason, the number of wiring pads 17 formed on the suspension substrate 1 can be increased, and the slider 52 having a large number (for example, 12) of slider pads can be mounted. The relative position of the magnetic disk and the magnetic head slider can be controlled with high accuracy.

また、本実施の形態によれば、上述した効果を有するサスペンション41、ヘッド付サスペンション51、およびハードディスクドライブ61を得ることができる。   Further, according to the present embodiment, the suspension 41, the suspension with head 51, and the hard disk drive 61 having the above-described effects can be obtained.

なお、本実施の形態においては、第2配線層15のスライダ側部分15aと基部側部分15bとの間に第2絶縁層12が介在され、この第2絶縁層12の貫通孔20に設けられた導電性接続部21aが転移部21を構成している例について述べた。しかしながらこのことに限られることはなく、第2配線層15のスライダ側部分15aと基部側部分15bとの間に第2絶縁層12を介在させることなく、これらスライダ側部分15aと基部側部分15bとの間を、任意の形状からなる導電部(図示せず)を介して接続しても良い。さらには、このような転移部を介在させることなく、スライダ側部分15aと基部側部分15bを接続させるようにしても良い。   In the present embodiment, the second insulating layer 12 is interposed between the slider-side portion 15a and the base-side portion 15b of the second wiring layer 15, and is provided in the through hole 20 of the second insulating layer 12. The example in which the conductive connecting portion 21a constitutes the transition portion 21 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the slider-side portion 15a and the base-side portion 15b can be provided without interposing the second insulating layer 12 between the slider-side portion 15a and the base-side portion 15b of the second wiring layer 15. May be connected via a conductive portion (not shown) having an arbitrary shape. Furthermore, the slider side portion 15a and the base side portion 15b may be connected without interposing such a transition portion.

また、本実施の形態においては、図2乃至図4に示すように、絶縁層10に対して各配線層14、15、16が上方に、バネ性材料層11が下方に配置される例について述べたが、各配線層14、15、16を下方に、バネ性材料層11を上方に配置しても良い。   Further, in the present embodiment, as shown in FIGS. 2 to 4, an example in which the wiring layers 14, 15, 16 are disposed above the insulating layer 10 and the spring material layer 11 is disposed below the insulating layer 10. As described above, the wiring layers 14, 15, 16 may be disposed below and the spring material layer 11 may be disposed above.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板およびサスペンション用基板の製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。   As described above, the embodiment of the present invention has been described in detail. However, the suspension substrate and the method for manufacturing the suspension substrate according to the present invention are not limited to the above-described embodiment, and depart from the spirit of the present invention. Various modifications can be made without departing from the scope.

1 サスペンション用基板
2 実装領域
3 外部接続基板接続部
10 第1絶縁層
10a 接地用貫通孔
11 バネ性材料層
11a 破断溝
11b バネ性材料部分
12 第2絶縁層
12a 孔
14 第1配線層
14c 小幅部分
14d 大幅部分
14e 幅変換部分
15 第2配線層
15a スライダ側部分
15b 基部側部分
15c 小幅部分
15d 大幅部分
15e 幅変換部分
16 他の配線層
17 配線パッド
17a 接地用端子
18 Niめっき層
19 Auめっき層
20 貫通孔
21 転移部
21a 導電接続部
22 保護層
22a 孔
23 金属薄膜層
24 Cuスパッタリング層
25 積層体
26 配線材料層
27〜38 レジスト
41 サスペンション
42 ロードビーム
51 ヘッド付サスペンション
52 スライダ
61 ハードディスクドライブ
62 ケース
63 ディスク
64 スピンドルモータ
65 ボイスコイルモータ
66 アーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Mounting area | region 3 External connection board | substrate connection part 10 1st insulating layer 10a Grounding through-hole 11 Springy material layer 11a Breaking groove 11b Springy material part 12 2nd insulating layer 12a Hole 14 1st wiring layer 14c Small width Part 14d Large part 14e Width conversion part 15 Second wiring layer 15a Slider side part 15b Base part 15c Small part 15d Large part 15e Width conversion part 16 Other wiring layer 17 Wiring pad 17a Grounding terminal 18 Ni plating layer 19 Au plating Layer 20 Through hole 21 Transition portion 21a Conductive connection portion 22 Protective layer 22a Hole 23 Metal thin film layer 24 Cu sputtering layer 25 Laminate 26 Wiring material layers 27 to 38 Resist 41 Suspension 42 Load beam 51 Suspension with head 52 Slider 61 Hard disk drive 62 Case 63 Disc 6 The spindle motor 65 voice coil motor 66 arm

Claims (10)

裏面にスライダパッドが設けられたスライダを実装する実装領域と、この実装領域に連結され、基部側に位置する外部接続基板接続部とを有するサスペンション用基板において、
第1絶縁層と、
この第1絶縁層の一方の面に設けられたバネ性金属層と、
第1絶縁層の他方の面に設けられた第1配線層と、
第1配線層に対して絶縁された第2配線層と、を備え、
第2配線層は、実装領域において第1配線層と同一平面上に配置され、実装領域から外部接続基板接続部に亘って第1配線層に第2絶縁層を介して積層され、
第1配線層、およびこの第1配線層と同一平面上に配置された第2配線層の部分に、スライダのスライダパッドに導通される配線パッドが設けられ、
第1配線層は、小幅部分と、小幅部分よりも大きな線幅を有する大幅部分と、を有し、
第2配線層は、小幅部分と、小幅部分よりも大きな線幅を有する大幅部分であって、第1配線層の大幅部分に積層された、当該大幅部分に対応する線幅を有する大幅部分と、を有していることを特徴とするサスペンション用基板。
In a suspension board having a mounting area for mounting a slider provided with a slider pad on the back surface, and an external connection board connecting part connected to the mounting area and located on the base side,
A first insulating layer;
A spring metal layer provided on one surface of the first insulating layer;
A first wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer;
A second wiring layer insulated from the first wiring layer,
The second wiring layer is disposed on the same plane as the first wiring layer in the mounting region, and is stacked on the first wiring layer via the second insulating layer from the mounting region to the external connection substrate connecting portion,
In the first wiring layer and the portion of the second wiring layer disposed on the same plane as the first wiring layer, a wiring pad that is conducted to the slider pad of the slider is provided,
The first wiring layer has a narrow portion and a large portion having a larger line width than the narrow portion,
The second wiring layer includes a narrow portion, a large portion having a larger line width than the narrow portion, and a large portion having a line width corresponding to the large portion, which is stacked on the large portion of the first wiring layer. A suspension substrate characterized by comprising:
第2配線層のうち第1配線層と同一平面上に配置された部分は、第2配線層のうち第2絶縁層に積層された部分に、転移部を介して接続されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   A portion of the second wiring layer disposed on the same plane as the first wiring layer is connected to a portion of the second wiring layer laminated on the second insulating layer via a transition portion. The suspension substrate according to claim 1. 第2絶縁層に貫通孔が形成され、この貫通孔に導電性を有する導電接続部が設けられ、 この導電接続部が転移部を構成していることを特徴とする請求項2に記載のサスペンション用基板。   The suspension according to claim 2, wherein a through hole is formed in the second insulating layer, and a conductive connection portion having conductivity is provided in the through hole, and the conductive connection portion forms a transition portion. Substrate. 第1配線層と第2配線層とにより、書き込み用配線が構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のサスペンション用基板。   4. The suspension substrate according to claim 1, wherein the first wiring layer and the second wiring layer constitute a writing wiring. 請求項1乃至4のいずれかに記載のサスペンション用基板を有することを特徴とするサスペンション。   A suspension comprising the suspension substrate according to claim 1. 請求項5記載のサスペンションと、このサスペンションに実装されたスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンション。   A suspension with a head, comprising the suspension according to claim 5 and a slider mounted on the suspension. 請求項6に記載のヘッド付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 6. 裏面にスライダパッドが設けられたスライダを実装する実装領域と、この実装領域に連結され、基部側に位置する外部接続基板接続部とを有するサスペンション用基板の製造方法において、
第1絶縁層と、この第1絶縁層の一方の面に設けられたバネ性材料層と、第1絶縁層の他方の面に設けられた配線層とを有する積層体を準備する工程と、
配線層から第1配線層を形成するとともに、実装領域において、この第1配線層と同一平面上に、第1配線層と絶縁された第2配線層の一部分を形成する工程と、
第1配線層に第2絶縁層を形成する工程と、
基部から実装領域に亘って、第1配線層に対して第2絶縁層を介して積層された第2配線層の他の部分を形成する工程と、
第1配線層、およびこの第1配線層と同一平面上に配置された第2配線層の当該一部分に、スライダのスライダパッドに導通される配線パッドを形成する工程と、を備え、
第1配線層は、小幅部分と、小幅部分よりも大きな線幅を有する大幅部分と、を有し、
第2配線層は、小幅部分と、小幅部分よりも大きな線幅を有する大幅部分であって、第1配線層の大幅部分に積層された、当該大幅部分に対応する線幅を有する大幅部分と、を有していることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
In a method for manufacturing a suspension board having a mounting area for mounting a slider provided with a slider pad on the back surface, and an external connection board connecting part connected to the mounting area and located on the base side,
Preparing a laminate having a first insulating layer, a spring material layer provided on one surface of the first insulating layer, and a wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer;
Forming a first wiring layer from the wiring layer and forming a portion of the second wiring layer insulated from the first wiring layer on the same plane as the first wiring layer in the mounting region;
Forming a second insulating layer on the first wiring layer;
Forming the other part of the second wiring layer laminated from the base part to the mounting region via the second insulating layer with respect to the first wiring layer;
Forming a wiring pad connected to the slider pad of the slider on the first wiring layer and a portion of the second wiring layer disposed on the same plane as the first wiring layer,
The first wiring layer has a narrow portion and a large portion having a larger line width than the narrow portion,
The second wiring layer includes a narrow portion, a large portion having a larger line width than the narrow portion, and a large portion having a line width corresponding to the large portion, which is stacked on the large portion of the first wiring layer. A method for manufacturing a suspension substrate, comprising:
第2絶縁層を形成した後、第2配線層の当該一部分に接続される転移部が形成され、
第2配線層の当該他の部分を形成する際、第2配線層の当該他の部分は転移部に接続されることを特徴とする請求項8に記載のサスペンション用基板の製造方法。
After forming the second insulating layer, a transition portion connected to the portion of the second wiring layer is formed,
9. The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 8, wherein when the other portion of the second wiring layer is formed, the other portion of the second wiring layer is connected to the transition portion.
転移部を形成する際、第2絶縁層のうち第2配線層の当該一部分に対応する領域に貫通孔が形成され、この貫通孔に導電性を有する導電接続部が形成され、
この導電接続部が転移部を構成していることを特徴とする請求項9に記載のサスペンション用基板の製造方法。
When forming the transition portion, a through hole is formed in a region of the second insulating layer corresponding to the portion of the second wiring layer, and a conductive connection portion having conductivity is formed in the through hole.
The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 9, wherein the conductive connection portion constitutes a transition portion.
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