JP5807804B2 - Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate - Google Patents
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本発明は、サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に係り、とりわけ、高周波特性を向上させることができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate, and in particular, a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension capable of improving high-frequency characteristics. The present invention relates to a method for manufacturing an industrial substrate.
一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板を備えている。このサスペンション用基板は、金属支持層と、金属支持層に絶縁層を介して積層された複数の配線を有する配線層と、を備えており、各配線に電気信号を流すことにより、ディスクに対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。 In general, a hard disk drive (HDD) includes a suspension board on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted. The suspension substrate includes a metal support layer and a wiring layer having a plurality of wirings stacked on the metal support layer with an insulating layer interposed therebetween. To write or read data.
近年、信号伝送を高速化して、情報処理量を増大させるとともに処理スピードを向上させることが要求されている。このためには、差動インピーダンスなどの電気特性を向上させることが必要となる。 In recent years, it has been demanded to increase the amount of information processing and improve the processing speed by increasing the speed of signal transmission. For this purpose, it is necessary to improve electrical characteristics such as differential impedance.
このことに対処するために、例えば、特許文献1に示すようなサスペンション用基板が知られている。ここでは、第1の書込用配線パターンおよび第2の書込用配線パターンが、分割された2つの線路をそれぞれ有し、第1の書込用配線パターンの分割された線路と第2の書込用配線パターンの分割された線路とが、交互に配列されている。このようにして、第1の書込用配線パターンと第2の書込用配線パターンとの間の差動インピーダンスを低減している。
In order to cope with this, for example, a suspension substrate as shown in
ところで、データの高速化に伴い、サスペンション用基板の配線を分布定数回路として設計し、サスペンション用基板に実装される磁気ヘッドと、当該サスペンション用基板に接続されるプリアンプとのインピーダンスマッチングを取るために、差動インピーダンスを低減させつつ、高周波特性の改善が望まれている。 By the way, in order to achieve impedance matching between the magnetic head mounted on the suspension board and the preamplifier connected to the suspension board, the suspension board wiring is designed as a distributed constant circuit as the data speed increases. It is desired to improve the high frequency characteristics while reducing the differential impedance.
しかしながら、特許文献1に示すサスペンション用基板においては、第1の書込用配線パターンおよび第2の書込用配線パターンは、ステンレスからなる金属支持層に積層されたベース絶縁層上に配置されている。このため、各書込用配線パターンが金属支持層に近接するため、金属支持層に電磁誘導等を介して流れる不要な電流により信号減衰され、各書込用配線パターンの高周波特性を向上させることが困難になっている。
However, in the suspension substrate shown in
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、高周波特性を向上させることができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such points, and provides a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate that can improve high-frequency characteristics. Objective.
本発明は、第1の解決手段として、ヘッドスライダが実装され、当該ヘッドスライダに接続されるヘッド側端子部を含むヘッド領域から、外部接続基板が接続されるテール端子部を含むテール領域に延びるサスペンション用基板において、第1絶縁層と、第1絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、第1絶縁層の他方の面に設けられた第1配線層と、第1絶縁層に設けられ、第1配線層を覆う第2絶縁層と、第2絶縁層に設けられ、第1配線と第2配線とを含む複数の配線を有する第2配線層と、を備え、第2配線層の第1配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割された複数の分割配線部と、を含み、金属支持層は、金属支持層本体と、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体と、を有し、第1絶縁層および第2絶縁層に、当該第1絶縁層および当該第2絶縁層を貫通する複数の導電接続部が設けられ、第1配線の各分割配線部は、対応する導電接続部を介して、金属支持層分離体に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。 According to the present invention, as a first solution, a head slider is mounted and extends from a head region including a head side terminal portion connected to the head slider to a tail region including a tail terminal portion to which an external connection board is connected. In the suspension substrate, a first insulating layer, a metal support layer provided on one surface of the first insulating layer, a first wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer, and a first insulating layer A second insulating layer that covers the first wiring layer, and a second wiring layer that is provided in the second insulating layer and includes a plurality of wirings including the first wiring and the second wiring. The first wiring of the wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion. The metal support layer includes a metal support layer body, a metal A metal support layer separator separated from the support layer body. The first insulating layer and the second insulating layer are provided with a plurality of conductive connection portions penetrating the first insulating layer and the second insulating layer, and each divided wiring portion of the first wiring has a corresponding conductive connection portion. There is provided a suspension substrate characterized in that the suspension substrate is connected to the metal support layer separator.
なお、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第2配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割された複数の分割配線部と、を含み、第1配線の分割配線部と、第2配線の分割配線部とは、交互に配置されている、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solving means described above, the second wiring includes a head side wiring part extending from the head side terminal part, and a plurality of divided wiring parts divided from the head side wiring part, It is preferable that the divided wiring portions of the first wiring and the divided wiring portions of the second wiring are alternately arranged.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第2配線層の第2配線は、テール端子部から延び、各分割配線部に接続されたテール側配線部を含み、金属支持層は、金属支持層分離体よりテール領域側に設けられ、金属支持層本体および金属支持層分離体からそれぞれ分離された第2の金属支持層分離体を更に有し、第1絶縁層および第2絶縁層において、当該第1絶縁層および当該第2絶縁層を貫通する複数の第2の導電接続部が設けられ、第2配線の各分割配線部は、対応する第2の導電接続部を介して、第2の金属支持層分離体に接続されている、ことが好ましい。 Further, in the suspension substrate according to the first solving means described above, the second wiring of the second wiring layer includes a tail side wiring portion extending from the tail terminal portion and connected to each divided wiring portion, and the metal support layer is And a second metal support layer separator provided on the tail region side from the metal support layer separator and separated from the metal support layer main body and the metal support layer separator, respectively. The first insulating layer and the second insulating layer In the layer, a plurality of second conductive connection portions penetrating the first insulating layer and the second insulating layer are provided, and each divided wiring portion of the second wiring is connected via the corresponding second conductive connection portion. It is preferably connected to the second metal support layer separator.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、各導電接続部および各第2の導電接続部は、第1絶縁層および第2絶縁層を貫通する貫通部分と、第2絶縁層から突出し、貫通部分の外縁より外方に位置する外縁を有し、貫通部分に接続された突出部分と、をそれぞれ有している、ことが好ましい。 Further, in the suspension substrate according to the first solving means described above, each of the conductive connection portions and each of the second conductive connection portions includes a through portion that penetrates the first insulating layer and the second insulating layer, and a second insulating layer. It is preferable to have a protruding portion that protrudes and has an outer edge located outward from the outer edge of the penetrating portion, and is connected to the penetrating portion.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、各導電接続部および各第2の導電接続部は、第1絶縁層を貫通する第1絶縁層側導電接続部と、第1絶縁層側導電接続部に接続され、第2絶縁層を貫通する第2絶縁層側導電接続部と、をそれぞれ有し、第1絶縁層側導電接続部は、第1絶縁層を貫通する第1貫通部分と、第1絶縁層から突出し、第1貫通部分の外縁より外方に位置する外縁を有し、第1貫通部分に接続された第1突出部分と、を含み、第2絶縁層側導電接続部は、第2絶縁層を貫通する第2貫通部分と、第2絶縁層から突出し、第2貫通部分の外縁より外方に位置する外縁を有し、第2貫通部分に接続された第2突出部分と、を含んでいる、ことが好ましい。 Further, in the suspension substrate according to the first solving means described above, each of the conductive connection portions and each of the second conductive connection portions includes a first insulating layer side conductive connection portion penetrating the first insulating layer and a first insulating layer. And a second insulating layer-side conductive connecting portion that is connected to the side conductive connecting portion and penetrates the second insulating layer, and the first insulating layer-side conductive connecting portion penetrates the first insulating layer. And a first protruding portion that protrudes from the first insulating layer and has an outer edge located outward from the outer edge of the first penetrating portion, and is connected to the first penetrating portion. The connecting portion has a second penetrating portion that penetrates the second insulating layer, an outer edge that protrudes from the second insulating layer and is located outward from the outer edge of the second penetrating portion, and is connected to the second penetrating portion. 2 projecting portions.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、金属支持層の金属支持層分離体は、ヘッド領域に配置され、第2の金属支持層分離体は、テール領域に配置されている、ことが好ましい。 Further, in the suspension substrate according to the first solution described above, the metal support layer separator of the metal support layer is disposed in the head region, and the second metal support layer separator is disposed in the tail region. It is preferable.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第2配線層の第1配線と第2配線は、一対の書込用配線を構成している、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the first wiring and the second wiring of the second wiring layer constitute a pair of writing wirings.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第2配線層の複数の配線は、一対の読取用配線を有している、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the plurality of wirings of the second wiring layer have a pair of reading wirings.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、ヘッド側端子部の少なくとも一部は、第2絶縁層の第2配線層側の面に設けられている、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that at least a part of the head side terminal portion is provided on the surface of the second insulating layer on the second wiring layer side.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第1配線層は、実装されるレーザーダイオードに電源を供給する電源配線を有している、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the first wiring layer has a power supply wiring for supplying power to the laser diode to be mounted.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第1配線層の電源配線は、平面視で、第2配線層の複数の配線のうち最外側に位置する配線より外側に配置されている、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solution described above, the power supply wiring of the first wiring layer is arranged outside the wiring located on the outermost side among the plurality of wirings of the second wiring layer in plan view. It is preferable.
また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、第1絶縁層の厚さは、第2絶縁層の厚さ以下である、ことが好ましい。 In the suspension substrate according to the first solving means described above, the thickness of the first insulating layer is preferably equal to or less than the thickness of the second insulating layer.
本発明は、ベースプレートと、ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた上述したいずれかのサスペンション用基板と、を有することを特徴とするサスペンションを提供する。 The present invention provides a suspension comprising a base plate and any one of the above-described suspension substrates attached to the base plate via a load beam.
本発明は、上述したサスペンションと、サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を有することを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。 The present invention provides a suspension with a head comprising the above-described suspension and a head slider mounted on the suspension.
本発明は、上述したヘッド付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブを提供する。 The present invention provides a hard disk drive having the above-described suspension with a head.
本発明は、第2の解決手段として、ヘッドスライダが実装され、当該ヘッドスライダに接続されるヘッド側端子部を含むヘッド領域から、外部接続基板が接続されるテール端子部を含むテール領域に延びるサスペンション用基板の製造方法において、第1絶縁層と、第1絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、を有する積層体を準備する工程と、第1絶縁層に、当該第1絶縁層を貫通する複数の第1貫通孔を形成する工程と、第1絶縁層の他方の面に、第1配線層を形成する工程と、第1絶縁層に、第1配線層を覆うように第2絶縁層を形成すると共に、第1貫通孔に対応する位置に、当該第2絶縁層を貫通する複数の第2貫通孔を形成する工程と、第2絶縁層に、第1配線と第2配線とを含む複数の配線を有する第2配線層を形成する工程と、金属支持層において、金属支持層本体と、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体と、を形成する工程と、を備え、第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第1配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割される複数の分割配線部と、を含むように形成されると共に、各第1貫通孔および各第2貫通孔に導電接続部が形成され、第1配線の各分割配線部は、対応する導電接続部を介して、金属支持層分離体に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。 As a second solution of the present invention, a head slider is mounted and extends from a head region including a head side terminal portion connected to the head slider to a tail region including a tail terminal portion to which an external connection board is connected. In the method for manufacturing a suspension substrate, a step of preparing a laminated body having a first insulating layer and a metal support layer provided on one surface of the first insulating layer; Forming a plurality of first through holes penetrating the insulating layer, forming a first wiring layer on the other surface of the first insulating layer, and covering the first wiring layer with the first insulating layer Forming a plurality of second through holes penetrating the second insulating layer at positions corresponding to the first through holes, and forming a first wiring on the second insulating layer Forming a second wiring layer having a plurality of wirings including the second wiring; A step of forming a metal support layer main body and a metal support layer separated body separated from the metal support layer main body in the step of forming a second wiring layer. The first wiring of the wiring layer is formed so as to include a head side wiring portion extending from the head side terminal portion, and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion. A conductive connection portion is formed in each second through hole, and each divided wiring portion of the first wiring is connected to the metal support layer separator through the corresponding conductive connection portion. A manufacturing method is provided.
なお、上述した第2の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第2配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割される複数の分割配線部と、を含むように形成され、第1配線の分割配線部と、第2配線の分割配線部とが、交互に配置される、ことが好ましい。 In the method of manufacturing the suspension substrate according to the second solution described above, in the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion, and It is preferable that the plurality of divided wiring portions are divided from the head side wiring portion, and the divided wiring portions of the first wiring and the divided wiring portions of the second wiring are alternately arranged. .
また、上述した第2の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、金属支持層分離体を形成する工程において、金属支持層分離体よりテール領域側に、金属支持層本体および金属支持層分離体からそれぞれ分離された第2の金属支持層分離体が形成され、第1貫通孔を形成する工程において、第2の金属支持層分離体に対応する位置に、第1絶縁層を貫通する複数の第3貫通孔が形成され、第2貫通孔を形成する工程において、第3貫通孔に対応する位置に、第2絶縁層を貫通する複数の第4貫通孔が形成され、第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第2配線は、テール端子部から延び、各分割配線部に接続されるテール側配線部を含むように形成されると共に、各第3貫通孔および各第4貫通孔に第2の導電接続部が形成され、第2配線の各分割配線部は、対応する第2の導電接続部を介して、第2の金属支持層分離体に接続される、ことが好ましい。 Further, in the method for manufacturing a suspension substrate according to the second solution described above, in the step of forming the metal support layer separator, the metal support layer body and the metal support layer separator are located closer to the tail region than the metal support layer separator. A plurality of second metal support layer separators separated from each other, and in the step of forming the first through holes, a plurality of holes penetrating the first insulating layer at positions corresponding to the second metal support layer separators. In the step of forming the third through hole and forming the second through hole, a plurality of fourth through holes penetrating the second insulating layer are formed at positions corresponding to the third through hole, and the second wiring layer is formed. In the forming step, the second wiring of the second wiring layer is formed so as to include a tail side wiring portion that extends from the tail terminal portion and is connected to each divided wiring portion, and each third through hole and each second wiring layer. 4 Conductive contact with 4 through holes Parts are formed, each of the divided wiring portion of the second wiring through the second conductive connection portion corresponding, and is connected to a second metallic support layer separator, it is preferable.
本発明は、第3の解決手段として、ヘッドスライダが実装され、当該ヘッドスライダに接続されるヘッド側端子部を含むヘッド領域から、外部接続基板が接続されるテール端子部を含むテール領域に延びるサスペンション用基板の製造方法において、第1絶縁層と、第1絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、を有する積層体を準備する工程と、第1絶縁層に、当該第1絶縁層を貫通する複数の第1貫通孔を形成する工程と、第1絶縁層の他方の面に第1配線層を形成する工程と、第1絶縁層に、第1配線層を覆うように第2絶縁層を形成すると共に、第1貫通孔に対応する位置に、当該第2絶縁層を貫通する複数の第2貫通孔を形成する工程と、第2絶縁層に、第1配線と第2配線とを含む複数の配線を有する第2配線層を形成する工程と、金属支持層において、金属支持層本体と、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体と、を形成する工程と、を備え、第1配線層を形成する工程において、各第1貫通孔に第1絶縁層側導電接続部が形成され、第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第1配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割される複数の分割配線部と、を含むように形成されると共に、各第2貫通孔に第1絶縁層側導電接続部に接続される第2絶縁層側導電接続部が形成され、第1配線の各分割配線部は、対応する第1絶縁層側導電接続部および第2絶縁層側導電接続部を介して、金属支持層分離体に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。 As a third solution, the present invention has a head slider mounted thereon and extends from a head region including a head side terminal portion connected to the head slider to a tail region including a tail terminal portion to which an external connection board is connected. In the method for manufacturing a suspension substrate, a step of preparing a laminated body having a first insulating layer and a metal support layer provided on one surface of the first insulating layer; Forming a plurality of first through holes penetrating the insulating layer; forming a first wiring layer on the other surface of the first insulating layer; and covering the first wiring layer with the first insulating layer Forming a second insulating layer and forming a plurality of second through holes penetrating the second insulating layer at a position corresponding to the first through hole; Forming a second wiring layer having a plurality of wirings including two wirings; And forming a metal support layer main body and a metal support layer separator separated from the metal support layer main body in the step of forming the first wiring layer. In the step of forming the first insulating layer side conductive connection portion in one through hole and forming the second wiring layer, the first wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion, a head side A plurality of divided wiring portions divided from the wiring portion, and a second insulating layer side conductive connection portion connected to the first insulating layer side conductive connection portion is formed in each second through hole. Each of the divided wiring portions of the first wiring is connected to the metal support layer separator via the corresponding first insulating layer side conductive connection portion and second insulating layer side conductive connection portion. Provided is a method for manufacturing an industrial substrate.
また、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第2配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割される複数の分割配線部と、を含むように形成され、第1配線の分割配線部と、第2配線の分割配線部とが、交互に配置される、ことが好ましい。 In the suspension substrate manufacturing method according to the third solving means described above, in the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion; It is preferable that the plurality of divided wiring portions are divided from the head side wiring portion, and the divided wiring portions of the first wiring and the divided wiring portions of the second wiring are alternately arranged. .
また、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、金属支持層分離体を形成する工程において、金属支持層分離体よりテール領域側に、金属支持層本体および金属支持層分離体からそれぞれ分離された第2の金属支持層分離体が形成され、第1貫通孔を形成する工程において、第2の金属支持層分離体に対応する位置に、第1絶縁層を貫通する複数の第3貫通孔が形成され、第2貫通孔を形成する工程において、第3貫通孔に対応する位置に、第2絶縁層を貫通する複数の第4貫通孔が形成され、第1配線層を形成する工程において、各第3貫通孔に第1絶縁層側導電接続部が形成され、第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第2配線は、テール端子部から延び、各分割配線部に接続されるテール側配線部を含むように形成されると共に、各第4貫通孔に、第3貫通孔に形成された第1絶縁層側導電接続部に接続される第2絶縁層側導電接続部が形成され、第2配線の各分割配線部は、対応する第3貫通孔に形成された第1絶縁層側導電接続部および第4貫通孔に形成された第2絶縁層側導電接続部を介して、第2の金属支持層分離体に接続される、ことが好ましい。 In the method for manufacturing a suspension substrate according to the third solution described above, in the step of forming the metal support layer separator, the metal support layer body and the metal support layer separator are located closer to the tail region than the metal support layer separator. A plurality of second metal support layer separators separated from each other, and in the step of forming the first through holes, a plurality of holes penetrating the first insulating layer at positions corresponding to the second metal support layer separators. In the step of forming the third through hole and forming the second through hole, a plurality of fourth through holes penetrating the second insulating layer are formed at positions corresponding to the third through hole, and the first wiring layer is formed. In the forming step, the first insulating layer side conductive connection portion is formed in each third through hole, and in the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer extends from the tail terminal portion, Tail connected to split wiring A second insulating layer-side conductive connecting portion connected to the first insulating layer-side conductive connecting portion formed in the third through hole is formed in each fourth through-hole while being formed to include the wiring portion, Each divided wiring portion of the second wiring is connected to the first insulating layer side conductive connecting portion formed in the corresponding third through hole and the second insulating layer side conductive connecting portion formed in the fourth through hole. It is preferable to be connected to the two metal support layer separators.
本発明によれば、第2配線層の第1配線が複数の分割配線部を有し、当該第2配線層が、第2絶縁層、第1配線層および第1絶縁層を介して金属支持層に積層されている。このことにより、第1配線を有する第2配線層を金属支持層から離すことができ、第1配線において伝送される電気信号が、金属支持層に電磁誘導等を介して流れる不要な電流により信号減衰されることを抑制することができる。このため、第2配線層の各配線の高周波特性を向上させることができる。また、本発明によれば、第1配線の各分割配線部が、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体により接続されている。このことにより、第1配線層に配線スペースを確保することができ、第1配線層における配線設計の自由度を向上させることができる。 According to the present invention, the first wiring of the second wiring layer has a plurality of divided wiring portions, and the second wiring layer supports the metal via the second insulating layer, the first wiring layer, and the first insulating layer. Laminated in layers. Thus, the second wiring layer having the first wiring can be separated from the metal support layer, and an electric signal transmitted in the first wiring is signaled by an unnecessary current flowing through the metal support layer through electromagnetic induction or the like. Attenuation can be suppressed. For this reason, the high frequency characteristic of each wiring of a 2nd wiring layer can be improved. Moreover, according to this invention, each division | segmentation wiring part of 1st wiring is connected by the metal support layer separated body isolate | separated from the metal support layer main body. As a result, a wiring space can be secured in the first wiring layer, and the degree of freedom in wiring design in the first wiring layer can be improved.
第1の実施の形態
図1乃至図8を用いて、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。
First Embodiment A manufacturing method of a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1に示すように、サスペンション用基板1は、後述するヘッドスライダ112(図6参照)が実装され、当該ヘッドスライダ112に接続されるヘッド側端子部4を含むヘッド領域2から外部接続基板113が接続されるテール端子部5を含むテール領域3に延びるように形成されている。ここで、ヘッド領域2は、実装されるヘッドスライダ112の周囲であって当該ヘッドスライダ112に接続されるヘッド側端子部4に近接した領域を意味しており、テール領域3は、外部接続基板113に接続されるテール端子部5に近接した領域を意味している。なお、外部接続基板113としては、例えば、フレキシブルプリント基板を挙げることができる。
As shown in FIG. 1, the
図1および図3に示すように、サスペンション用基板1は、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面に設けられ、導電性を有する金属支持層20と、絶縁層10の他方の面に設けられた第1配線層30と、第1絶縁層10に設けられ、第1配線層30を覆う第2絶縁層40と、第2絶縁層40に設けられ、複数の配線を有する第2配線層50と、を備えている。第2配線層50の複数の配線は、一対の書込用配線を構成する第1配線51および第2配線52と、一対の読取用配線を構成する第3配線53および第4配線54と、を含んでいる。すなわち、図3に示すように、書込用配線を構成する第1配線51および第2配線52と、読取用配線を構成する第3配線53および第4配線54とは、いずれも、第2絶縁層40上に設けられている。
As shown in FIG. 1 and FIG. 3, the
図2および図3に示すように、第1配線層30は、実装されるレーザーダイオード114(図6参照)に電源を供給する電源配線33を有している。なお、レーザーダイオード114は、熱アシスト記録方式に対応するヘッドスライダ112の裏面に搭載されるものであり、熱アシスト記録方式とは、磁性粒子を小さくして高密度化されたディスク123(図7参照)において、磁気記録を行う部分を瞬間的に加熱することによって、常温では困難な、保磁力の高い記録を可能とする記録方式である。上述した電源配線33は、平面視で(図1または図2のように見た場合)、第2配線層50の複数の配線、すなわち、最外側(図2および図3の右側)に位置する第2配線52の分割配線部より、外側に配置されている。これにより、外来雑音等による信号伝送への影響を低減することができる。なお、図1においては、図面を明瞭にするために、電源配線33は省略されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
ヘッド領域2に設けられたヘッド側端子部4の少なくとも一部は、第2絶縁層40の第2配線層50の側の面に設けられている。すなわち、ヘッド側端子部4は、第1絶縁層10上に設けられ、第1配線層30の電源配線33に接続されたレーザーダイオード用端子(電源端子、図示せず)と、第2絶縁層40上に設けられ、第2配線層50の各配線51〜54に接続された複数のヘッド端子4aと、を有している。このようにして、ヘッド側端子部4は、2段構成となって、多数のパッドを有する高機能のヘッドスライダ112の対応するパッドに接続可能になっている。なお、レーザーダイオード用端子は、第1配線層30の電源配線33と同一の材料により形成され、ニッケル(Ni)めっきおよび金(Au)めっきが施されている。また、ヘッド端子4aは、第2配線層50の各配線51〜54と同一の材料により形成され、レーザーダイオード用端子と同様にしてニッケルめっきおよび金めっきが施されている。
At least a part of the head-
図1乃至図3に示すように、第1配線51は、ヘッド側端子部4のヘッド端子4aから延びる第1ヘッド側配線部51aと、この第1ヘッド側配線部51aから分割された複数(例えば、2つ)の第1分割配線部51b、51cと、を含んでおり、第1ヘッド側配線部51aは、ヘッド領域2に設けられたヘッド側ジャンパー部71を介して、各第1分割配線部51b、51cに分割するように接続されている。また、第1配線51は、テール端子部5から延びる第1テール側配線部51dを更に含んでおり、各第1分割配線部51b、51cは、第2絶縁層40上において、後述するテール側ジャンパー部72の近傍で、第1テール側配線部51dから分割するように接続されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
第2配線52は、ヘッド側端子部4のヘッド端子4aから延びる第2ヘッド側配線部52aと、この第2ヘッド側配線部52aから分割された複数(例えば、2つ)の第2分割配線部52b、52cと、を含んでいる。各第2分割配線部52b、52cは、第2絶縁層40上において、ヘッド側ジャンパー部71の近傍で、第2ヘッド側配線部52aから分割するように接続されている。また、第2配線52は、テール端子部5から延びる第2テール側配線部52dを更に含んでおり、各第2分割配線部52b、52cは、テール領域3に設けられたテール側ジャンパー部72を介して、第2テール側配線部52dから分割するように接続されている。
The
第1配線51の各第1分割配線部51b、51cと、第2配線52の各第2分割配線部52b、52cとは、交互に配置されている。すなわち、2つの第1分割配線部51b、51cの間に、一方の第2分割配線部52bが介在されており、2つの第2分割配線部52b、52cの間に、他方の第1分割配線部51cが介在されている。このようにして、第1配線51と第2配線52とにより、インターリーブ配線構造が形成されている。
The first divided
金属支持層20は、金属支持層本体21と、金属支持層本体21から分離されたヘッド側ジャンパー配線部(金属支持層分離体)22と、金属支持層分離体22よりテール領域3の側に設けられ、金属支持層本体21および金属支持層分離体22からそれぞれ分離されたテール側ジャンパー配線部(第2の金属支持層分離体)23と、を有している。金属支持層本体21とヘッド側ジャンパー配線部22との間、および、金属支持棒本体21とテール側ジャンパー配線部23との間には、分離溝24が設けられており、金属支持層本体21と各ジャンパー配線部22、23とは、電気的に絶縁されている。なお、本実施の形態においては、各ジャンパー配線部22、23の両側に金属支持層本体21が設けられて、各ジャンパー配線部22、23が、金属支持層本体21によって囲まれているように形成されているが、各ジャンパー配線部22、23は、金属支持層本体21から分離されていれば、金属支持層本体21および金属支持層分離体22、23の形状は、任意とすることができる。なお、各ジャンパー配線部22、23の図3における下面は、ハーフエッチングされて、金属支持層本体21の下面より第1絶縁層側10に位置していることが好ましい。この場合、各ジャンパー配線部22、23が、後述するロードビーム102に接触することを防止することができる。
The
図2(a)に示すように、ヘッド側ジャンパー部71において、第1絶縁層10を貫通する2つの第1ヘッド側貫通孔(第1貫通孔)11a、11bが設けられると共に、各第1ヘッド側貫通孔に対応する位置に、第2絶縁層40を貫通する第2ヘッド側貫通孔(第2貫通孔)41a、41bが設けられている。各第1ヘッド側貫通孔11a、11bおよび第2ヘッド側貫通孔41a、41bに、ヘッド側導電接続部(導電接続部、ビア)73a、73bが設けられている。ヘッド側導電接続部73a、73bに対応する位置に、金属支持層20のヘッド側ジャンパー配線部22が設けられており、第1配線51の各第1分割配線部51b、51cは、対応するヘッド側導電接続部73a、73bを介して、金属支持層20のヘッド側ジャンパー配線部22に接続されるようになっている。すなわち、一方の第1分割配線部51bは、一方のヘッド側導電接続部73aを介してヘッド側ジャンパー配線部22に接続され、他方の第1分割配線部51cは、他方のヘッド側導電接続部73bを介して当該ヘッド側ジャンパー配線部22に接続されている。また、第1ヘッド側配線部51aは、ヘッド側導電接続部73aを介して、第1分割配線部51bに接続されている。
As shown in FIG. 2A, the head
テール側ジャンパー部72は、ヘッド側ジャンパー部71と同様の構造を有し、図1に示すように、ヘッド側ジャンパー部71よりテール領域3の側に設けられている。このテール側ジャンパー部72においては、図2(b)に示すように、第1絶縁層10を貫通する2つの第1テール側貫通孔(第3貫通孔)12a、12bが設けられると共に、各第1テール側貫通孔12a、12bに対応する位置に、第2絶縁層40を貫通する第2テール側貫通孔(第4貫通孔)42a、42bが設けられている。各第1テール側貫通孔12a、12bおよび第2テール側貫通孔42a、42bに、テール側導電接続部(第2の導電接続部、ビア)74a、74bが設けられている。テール側導電接続部74a、74bに対応する位置に、金属支持層20のテール側ジャンパー配線部23が設けられており、第2配線52の各第2分割配線部52b、52cは、対応するテール側導電接続部74a、74bを介して、金属支持層20のテール側ジャンパー配線部23に接続されるようになっている。すなわち、一方の第2分割配線部52bは、一方のテール側導電接続部74aを介してテール側ジャンパー配線部23に接続され、他方の第2分割配線部52cは、他方のテール側導電接続部74bを介してテール側ジャンパー配線部23に接続されている。また、第2テール側配線部52dは、テール側導電接続部74bを介して、第2分割配線部51cに接続されている。
The tail
図4に示すように、各ヘッド側導電接続部73a、73bおよび各テール側導電接続部74a、74bは、第1絶縁層10および第2絶縁層40を貫通する貫通部分75と、第2絶縁層40から突出し、貫通部分75の外縁75aより(貫通部分75の中心軸に対して)外方に位置する外縁76aを有し、貫通部分75に接続された突出部分76と、をそれぞれ有している。本実施の形態においては、貫通部分75は円柱状になっており、突出部分76は貫通部分75より大きな外径を有するように円板状になっており、貫通部分75と突出部分76とが一体に形成されている。このように突出部分76を形成することにより、各導電接続部73a、73b、74a、74bを形成するためのレジスト(図示せず)の開口部の径を、対応する貫通孔の径より大きくすることができ、この場合、当該開口部が、対応する貫通孔に対してある程度位置ずれすることを許容することができる。
As shown in FIG. 4, each of the head-side
図3に示すように、第2絶縁層40上には、第2配線層50を覆う保護層60が設けられている。なお、図1および図2においては、図面を明瞭にするために、保護層60は省略されている。
As shown in FIG. 3, a
なお、図示しないが、第1絶縁層10と第1配線層30との間、並びに、第2絶縁層40と第2配線層50および導電接続部73a、73b、74a、74bとの間に、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、銅(Cu)からなり、約300nm厚さを有するシード層を介在させてもよい。この場合、各絶縁層10、40と対応する配線層30、50または導電接続部73a、73b、74a、74bとの間の密着性を向上させることができる。
Although not shown, between the first insulating
次に、各構成部材について詳細に述べる。 Next, each component will be described in detail.
第1絶縁層10および第2絶縁層40の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、各絶縁層10、40の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。また、第1絶縁層10の厚さは、第2絶縁層40の厚さ以下であることが好ましい。このうち第1絶縁層10の厚さは、3μm〜15μm、とりわけ、5μmであることが好まく、第2絶縁層40の厚さは、3μm〜10μm、とりわけ、5μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層20と第1配線層30との絶縁性能、および、第1配線層30と第2配線層50との絶縁性能を確保すると共に、サスペンション用基板1全体としての剛性が喪失されることを防止することができる。
The material of the first insulating
第2配線層50の各配線51〜54および第1配線層30の電源配線33は、電気信号を伝送するための導体として構成され、同一の材料により形成されている。各配線33、51〜54の材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線33、51〜54の厚さは、例えば1μm〜18μm、とりわけ5μm〜12μmであることが好ましい。このことにより、各配線33、51〜54の伝送特性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての柔軟性が喪失されることを防止することができる。
Each wiring 51-54 of the
各導電接続部73a、73b、74a、74bの材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅またはニッケル等が挙げられる。本実施の形態においては、各導電接続部73a、73b、74a、74bは、第2配線層50の各配線51〜54と同一の材料により形成されている。
The material of each of the
金属支持層20の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、好ましくはステンレスを用いることが好適である。なお、金属支持層20の厚さは、一例として、10μm〜30μm、とりわけ15μm〜25μmとすることができる。このことにより、金属支持層20の各ジャンパー配線部22、23の導電性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての柔軟性が喪失されることを防止することができる。
The material of the
保護層60の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミドを用いることが好適である。なお、保護層60の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層60の厚さは、3μm〜10μm、とりわけ5μmであることが好ましい。
As a material of the
次に、図5により、本実施の形態におけるサスペンション101について説明する。図5に示すサスペンション101は、上述したサスペンション用基板1と、サスペンション用基板1の後述するヘッドスライダ112(図6参照)が実装される面とは反対側の面に設けられ、ヘッドスライダ112をディスク123(図7参照)に対して保持するためのロードビーム102とを有している。
Next, the
続いて、図6により、本実施の形態におけるヘッド付サスペンション111について説明する。図6に示すヘッド付サスペンション111は、上述したサスペンション101と、サスペンション用基板1のヘッド領域2に実装されるヘッドスライダ112とを有している。
Next, the suspension with
次に、図7により、本実施の形態におけるハードディスクドライブ121について説明する。図7に示すハードディスクドライブ121は、ケース122と、このケース122に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク123と、このディスク123を回転させるスピンドルモータ124と、ディスク123に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク123に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うヘッドスライダ112を含むヘッド付サスペンション111と、を有している。このうちヘッド付サスペンション111は、ケース122に対して移動自在に取り付けられており、ケース122にはヘッド付サスペンション111のヘッドスライダ112をディスク123上に沿って移動させるボイスコイルモータ125が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション111は、ボイスコイルモータ125にアーム126を介して取り付けられている。
Next, the
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわち本実施の形態によるサスペンション用基板1の製造方法について説明する。ここでは、一例として、ヘッド側ジャンパー部71の断面構造を示す図8を用いて、サブトラクティブ法によりサスペンション用基板1を製造する方法について説明する。なお、テール側ジャンパー部72は、ヘッド側ジャンパー部71と同様にして作製することができるため、ここでは、詳細な説明は省略する。
Next, the operation of the present embodiment having such a configuration, that is, a method for manufacturing the
まず、第1絶縁層10と、第1絶縁層10の一方の面に設けられた導電性を有する金属支持層20と、を有する積層体80を準備する(図8(a)参照)。この場合、まず、金属支持層20を準備し、この金属支持層20上に、非感光性ポリイミドを用いた塗工方法により第1絶縁層10が形成される。
First, the
続いて、第1絶縁層10に、第1絶縁層10を貫通する複数の第1ヘッド側貫通孔11a、11bが形成される(図8(b)参照)。この場合、第1絶縁層10上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、第1絶縁層10のうちレジストから露出された部分がエッチングされて外形加工される。このことにより、第1絶縁層10を貫通する第1ヘッド側貫通孔11a、11bが得られる。なお、エッチング液には、例えば、有機アルカリ液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。
Subsequently, a plurality of first head side through
次に、第1絶縁層10の他方の面に、第1配線層30が形成される(図8(c)参照)。この場合、まず、第1絶縁層10上に、ニッケル、クロム、および銅がスパッタ工法により順次コーティングされ、シード層(図示せず)が形成される。続いて、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、レジストの開口部に、電解銅めっき法によって、第1絶縁層10上に電源配線33を有する第1配線層30が形成される。この際、レーザーダイオード用端子(図示せず)が同様にして形成される。その後、レジストは除去される。
Next, the
その後、第1絶縁層10上に、第1配線層30を覆うように第2絶縁層40が形成されると共に、第1ヘッド側貫通孔11a、11bに対応する位置に、第2絶縁層40を貫通する複数の第2ヘッド側貫通孔41a、41bが形成される(図8(d)参照)。この場合、まず、第1絶縁層10上に、第1配線層30を覆うように第2絶縁層40が形成される。続いて、形成された第2絶縁層40上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、第2絶縁層40のうちレジストから露出された部分がエッチングされて外形加工される。このことにより、第2絶縁層40を貫通する第2ヘッド側貫通孔41a、41bが得られる。なお、エッチング液には、例えば、有機アルカリ液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。
Thereafter, a second insulating
次に、第2絶縁層40上に、各配線51〜54を有する第2配線層50が形成される(図8(e)参照)。また、この際、各第1ヘッド側貫通孔11a、11bおよび第2ヘッド側貫通孔41a、41bにヘッド側導電接続部73a、73bが形成される。この場合、第2絶縁層40上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、レジストの開口部に、電解銅めっき法によって、第2絶縁層40上に各配線51〜54が形成されると共に、各第1ヘッド側貫通孔11a、11bおよび第2ヘッド側貫通孔41a、41bにヘッド側導電接続部73a、73bが形成される。ここでは、第1配線51の各第1分割配線部51b、51cと、対応するヘッド側導電接続部73a、73bとが一体に形成される。また、この際、ヘッド端子4aが同様にして形成される。その後、レジストは除去される。
Next, the
第2配線層50が形成された後、第2絶縁層40上に、第2配線層50を覆う保護層60が形成される(図8(f)参照)。この場合、まず、第2絶縁層40上に、第2配線層50を覆うように保護層60が形成される。続いて、形成された保護層60上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、保護層60のうちレジストから露出された部分がエッチングされて外形加工される。なお、エッチング液には、例えば、有機アルカリ液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。
After the
次に、図示しないが、ヘッド側端子部(レーザーダイオード用端子およびヘッド端子4a)4およびテール端子部5に、ニッケルめっきおよび金めっきが順次施される。
Next, although not shown, nickel plating and gold plating are sequentially applied to the head side terminal portion (laser diode terminal and head terminal 4a) 4 and
その後、金属支持層20において、金属支持層本体21と、ヘッド側ジャンパー配線部22と、テール側ジャンパー配線部23とが形成されて、金属支持層20が外形加工される(図8(g)参照)。この場合、金属支持層20上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、金属支持層20のうちレジストから露出された部分がエッチングされる。なお、エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。このようにして、本実施の形態におけるサスペンション用基板1が得られる。
Thereafter, in the
得られたサスペンション用基板1の下面に、ロードビーム102が取り付けられて図5に示すサスペンション101が得られる。このサスペンション101のヘッド領域2に、ヘッドスライダ112が実装されて図6に示すヘッド付サスペンション111が得られる。この場合、ヘッドスライダ112の複数のパッドが、対応するヘッド側端子部4に接続される。さらに、このヘッド付サスペンション111がハードディスクドライブ121のケース122に取り付けられて、図7に示すハードディスクドライブ121が得られる。
A
図7に示すハードディスクドライブ121においてデータの書き込みおよび読み取りを行う際、ボイスコイルモータ125によりヘッド付サスペンション111のヘッドスライダ112がディスク123上に沿って移動し、スピンドルモータ124により回転しているディスク123に所望のフライングハイトを保って近接する。このことにより、ヘッドスライダ112とディスク123との間で、データの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1のヘッド側端子部4とテール端子部5との間を延びる各配線51〜54により電気信号が伝送される。
When writing and reading data in the
このように本実施の形態によれば、第2配線層50の第1配線51および第2配線52は、一対の書込用配線としてインターリーブ配線構造を有し、当該第2配線層50が、第2絶縁層40、第1配線層30および第1絶縁層10を介して金属支持層20に積層されている。このことにより、第1配線51および第2配線52を、金属支持層20から離すことができ、第1配線51および第2配線52において伝送される電気信号が、金属支持層20に電磁誘導等を介して流れる不要な電流により信号減衰されることを抑制することができる。このため、第2配線層50の第1配線51および第2配線52の高周波特性を向上させることができる。
Thus, according to the present embodiment, the
また、本実施の形態によれば、第1配線51の各分割配線部51b、51cが、金属支持層本体21から分離されたヘッド側ジャンパー配線部22により接続されている。また、第2配線52の各分割配線部52b、52cが、金属支持層本体21から分離されたテール側ジャンパー配線部23により接続されている。このことにより、第1配線層30に配線スペースを確保することができ、第1配線層30における配線設計の自由度を向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the divided
また、本実施の形態によれば、第1絶縁層10および第2絶縁層40を貫通する各導電接続部73a、73b、74a、74bを、第2配線層50と共に一度のめっき処理で形成することができる。このことにより、各導電接続部73a、73b、74a、74bを形成する工程を簡素化することができる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施の形態によれば、第1配線51および第2配線52と同様にして、第2絶縁層40上に、一対の読取用配線を構成する第3配線53および第4配線54が設けられている。このことにより、一対の書込用配線と同様に、第3配線53および第4配線54において伝送される電気信号が、金属支持層20に電磁誘導等を介して流れる不要な電流により信号減衰されることを抑制することができ、第3配線53および第4配線54の高周波特性を向上させることができる。
In addition, according to the present embodiment, similarly to the
また、本実施の形態によれば、上述したように、各配線51〜54を有する第2配線層50が、第2絶縁層40、第1配線層30および第1絶縁層10を介して金属支持層20に積層されるため、第2配線層50の各配線51〜54において伝送される電気信号が、金属支持層20に電磁誘導等を介して流れる不要な電流によって信号減衰されることを抑制することができる。このことにより、第1絶縁層10の厚さを低減し、サスペンション用基板1の全体の厚さを低減することができる。また、この場合、サスペンション用基板1の柔軟性を向上させて、反りを防止すると共に、使用される絶縁物量を低減することができ、サスペンション用基板1の軽量化、低コスト化を図ることができる。
In addition, according to the present embodiment, as described above, the
また、本実施の形態によれば、一対の書込用配線を構成する第2配線層50の第1配線51および第2配線52は、インターリーブ配線構造を有している。このことにより、第1配線51と第2配線52との間の差動インピーダンスを低減することができ、電気特性を向上させることができる。とりわけ、本実施の形態によれば、第1配線層30のヘッド側ジャンパー配線部22は、ヘッド領域2に配置されると共に、テール側ジャンパー配線部22は、テール領域3に配置されている。このことにより、各第1分割配線部51b、51cと各第2分割配線部52b、52cを長くすることができ、第1配線51と第2配線52との間の差動インピーダンスをより一層低減することができる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施の形態によれば、第2配線層50は、一対の書込用配線を構成する第1配線51および第2配線52と、一対の読取用配線を構成する第3配線53および第4配線54と、を有し、第1配線層30は、電源配線33を有している。このように、第1絶縁層10上に電源配線33が配置され、第2絶縁層40上にヘッドスライダ112と外部接続基板113とを接続する配線を配置させることにより、配線設計の自由度を向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the
また、本実施の形態によれば、ヘッド側端子部4は、第1絶縁層10上に設けられ、第1配線層30の電源配線33に接続されたレーザーダイオード用端子(図示せず)と、第2絶縁層40上に設けられ、第2配線層50の各配線51〜54に接続されたヘッド端子4aと、を有している。このことにより、ヘッドスライダ112に接続されるヘッド側端子部4を2段構成とすることができ、多数のパッドを有する高機能のヘッドスライダ112を実装することが可能となる。
Further, according to the present embodiment, the head-
また、本実施の形態によれば、第1配線層30の電源配線33は、平面視で、第2配線層50の第1配線51および第2配線52のうち最外側に位置する配線より外側に配置されている。このことにより、外部ノイズから、第2配線層50の各配線51〜54を保護することができ、第2配線層50の各配線51〜54の電気特性を向上させることができる。
Further, according to the present embodiment, the
なお、本実施の形態においては、第2配線層50が、一対の読取用配線を構成する第3配線53および第4配線54を有する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第1配線層30が、一対の読取用配線を有するようにしてもよい。言い換えると、読取用配線が、第1絶縁層10上に設けられていてもよい。また、第1配線層30が電源配線33を有する例について説明したが、第2配線層50が電源配線33を有するようにしてもよい。
In the present embodiment, an example in which the
また、本実施の形態においては、第1配線層30の電源配線33が、平面視で、第2配線層50の第1配線51および第2配線52のうち最外側に位置する配線より外側に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、電源配線33は、第1絶縁層10上において、任意の位置に配置してもよい。
In the present embodiment, the
また、本実施の形態においては、ヘッド側ジャンパー配線部22がヘッド領域2に配置されると共に、テール側ジャンパー配線部23がテール領域3に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、ヘッド側ジャンパー配線部22は、ヘッド領域2よりもテール領域3の側に配置されてもよく、あるいは、テール側ジャンパー配線部23は、テール領域3よりもヘッド領域2の側に配置されてもよい。
In the present embodiment, the head side
また、本実施の形態においては、第2配線層50の第1配線51が2つの第1分割配線部51b、51cを有している例について説明したが、このことに限られることはなく、第1配線51は、3つ以上の第1分割配線部を有し、ヘッド側ジャンパー配線部31によって接続されていてもよい。同様に、第2配線層50の第2配線52は、3つ以上の第2分割配線部を有し、テール側ジャンパー配線部32によって接続されていてもよい。
In the present embodiment, the example in which the
さらに、本実施の形態においては、第2絶縁層40上に、第2配線層50を覆う保護層60が設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図9に示すように、このような保護層60を設けなくてもよい。なお、この場合には、第2配線層50の各配線51〜54および、各導電接続部73a、73b、74a、74bに、腐食防止のためのめっきが施されていることが好ましい。
Furthermore, in the present embodiment, the example in which the
第2の実施の形態
次に、図10乃至図12により、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。
Second Embodiment Next, a method for manufacturing a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図10乃至図12に示す第2の実施の形態においては、各導電接続部が、第1絶縁層を貫通する第1絶縁層側導電接続部と、第1絶縁層側導電接続部に接続され、第2絶縁層を貫通する第2絶縁層側導電接続部と、を有している点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図8に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図10乃至図12において、図1乃至図8に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the second embodiment shown in FIGS. 10 to 12, each conductive connection portion is connected to a first insulating layer side conductive connection portion penetrating the first insulating layer and a first insulating layer side conductive connection portion. And the second insulating layer side conductive connecting portion penetrating the second insulating layer, and the other configuration is substantially the same as that of the first embodiment shown in FIGS. It is. 10 to 12, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 8 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図10(a)、(b)に示すように、各ヘッド側導電接続部および各テール側導電接続部は、第1絶縁層10を貫通する第1絶縁層側導電接続部91と、第1絶縁層側導電接続部91に接続され、第2絶縁層40を貫通する第2絶縁層側導電接続部92と、をそれぞれ有している。
As shown in FIGS. 10A and 10B, each of the head-side conductive connection portions and each of the tail-side conductive connection portions includes a first insulating layer-side
すなわち、ヘッド側ジャンパー部71において、図10(a)に示すように、第1絶縁層10に、第1絶縁層10を貫通する第1ヘッド側貫通孔11a、11bが設けられ、第2絶縁層40に第2絶縁層40を貫通する第2ヘッド側貫通孔41a、41bが設けられており、第1ヘッド側貫通孔11a、11bに第1絶縁層側導電接続部91が形成され、第2ヘッド側貫通孔41a、41bに第2絶縁層側導電接続部92が形成されている。また、テール側ジャンパー部72において、図10(b)に示すように、第1絶縁層10に、第1絶縁層10を貫通する第1テール側貫通孔12a、12bが設けられ、第2絶縁層40に第2絶縁層40を貫通する第2テール側貫通孔42a、42bが設けられており、第1テール側貫通孔12a、12bに第1絶縁層側導電接続部91が形成され、第2テール側貫通孔42a、42bに第2絶縁層側導電接続部92が形成されている。
That is, in the head-
図11に示すように、第1絶縁層側導電接続部91は、対応する貫通孔11a、11b、12a、12bに設けられ、第1絶縁層10を貫通する第1貫通部分93と、第1絶縁層から突出し、第1貫通部分93の外縁93aより外方に位置する外縁94aを有し、第1貫通部分93に接続された第1突出部分94と、を含んでいる。本実施の形態においては、第1貫通部分93は円柱状になっており、第1突出部分94は第1貫通部分93より大きな外径を有するように円板状になっており、第1貫通部分93と第1突出部分94とが一体に形成されている。このように第1突出部分94を形成することにより、第1絶縁層側導電接続部91を形成するためのレジスト(図示せず)の開口部の径を、対応する貫通孔の径より大きくすることができ、この場合、当該開口部が、対応する貫通孔に対してある程度位置ずれすることを許容することができる。
As shown in FIG. 11, the first insulating layer side
同様に、第2絶縁層側導電接続部92は、対応する貫通孔12a、12b、42a、42bに設けられ、第2絶縁層40を貫通する第2貫通部分95と、第2絶縁層40から突出し、第2貫通部分95の外縁95aより外方に位置する外縁96aを有し、第2貫通部分95に接続された第2突出部分96と、を含んでいる。本実施の形態においては、第2貫通部分95は円柱状になっており、第2突出部分96は第2貫通部分95より大きな外径を有するように円板状になっており、第2貫通部分96と第2突出部分95とが一体に形成されている。このように第2突出部分96を形成することにより、第2絶縁層側導電接続部92を形成するためのレジスト(図示せず)の開口部の径を、対応する貫通孔の径より大きくすることができ、この場合、当該開口部が、対応する貫通孔に対してある程度位置ずれすることを許容することができる。
Similarly, the second insulating layer side
本実施の形態によるサスペンション用基板1を製造する場合、まず、第1絶縁層10と、第1絶縁層10の一方の面に設けられた導電性を有する金属支持層20と、を有する積層体80を準備する(図12(a)参照)。なお、テール側ジャンパー部72は、ヘッド側ジャンパー部71と同様にして作製することができるため、ここでは、詳細な説明は省略する。
When manufacturing the
続いて、第1絶縁層10に、第1絶縁層10を貫通する複数の第1ヘッド側貫通孔11a、11bが形成される(図12(b)参照)。
Subsequently, a plurality of first head side through
次に、第1絶縁層10の他方の面に、第1配線層30が形成される(図12(c)参照)。また、この際、各第1ヘッド側貫通孔11a、11bに、第1絶縁層側導電接続部91が形成される。この場合、まず、電解銅めっき法によって、第1絶縁層10上に電源配線33を有する第1配線層30が形成されると共に、各第1ヘッド側貫通孔11a、11bに第1絶縁層側導電接続部91が形成される。
Next, the
その後、第1絶縁層10上に、第1配線層30を覆うように第2絶縁層40が形成されると共に、第1ヘッド側貫通孔11a、11bに対応する位置に、第2絶縁層40を貫通する複数の第2ヘッド側貫通孔41a、41bが形成される(図12(d)参照)。
Thereafter, a second insulating
次に、第2絶縁層40上に、各配線51〜54を有する第2配線層50が形成される(図12(e)参照)。また、この際、各第2ヘッド側貫通孔41a、41bに第2絶縁層側導電接続部92が形成される。この場合、電解銅めっき法によって、第2絶縁層40上に各配線51〜54が形成されると共に、各第2ヘッド側貫通孔41a、41bに第2絶縁層側導電接続部92が形成される。ここでは、第1配線51の各第1分割配線部51b、51cと、対応する第2絶縁層側導電接続部92とが一体に形成される。また、第1絶縁層側導電接続部91に第2絶縁層側導電接続部92が接続されて、ヘッド側導電接続部73a、73bが得られる。
Next, the
第2配線層50が形成された後、第2絶縁層40上に、第2配線層50を覆う保護層60が形成される(図12(f)参照)。その後、金属支持層20において、金属支持層本体21と、ヘッド側ジャンパー配線部22と、テール側ジャンパー配線部23とが形成されて、金属支持層20が外形加工される(図12(g)参照)。このようにして、本実施の形態におけるサスペンション用基板1が得られる。
After the
このように本実施の形態によれば、第1絶縁層10を貫通する第1絶縁層側導電接続部91が形成された後、第2絶縁層40を貫通する第2絶縁層側導電接続部92が形成されて、第1絶縁層側導電接続部91と第2絶縁層側導電接続部92とにより、ヘッド側導電接続部73a、73b、および、テール側導電接続部74a、74bが形成される。このように、各導電接続部73a、73b、74a、74bを形成する工程を2度に分けて行うことにより、各導電接続部73a、73b、74a、74bに欠陥が生じることを防止して導電性を確保することができる。
As described above, according to the present embodiment, after the first insulating layer side conductive connecting
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the suspension substrate, the suspension, the suspension with a head, the hard disk drive, and the suspension substrate manufacturing method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments. Instead, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
1 サスペンション用基板
2 ヘッド領域
3 テール領域
4 ヘッド側端子部
4a ヘッド端子
5 テール端子部
10 第1絶縁層
11a、11b 第1ヘッド側貫通孔
12a、12b 第1テール側貫通孔
20 金属支持層
21 金属支持層本体
22 ヘッド側ジャンパー配線部
23 テール側ジャンパー配線部
24 溝
30 第1配線層
33 電源配線
40 第2絶縁層
41a、41b 第2ヘッド側貫通孔
42a、42b 第2テール側貫通孔
50 第2配線層
51 第1配線
51a 第1ヘッド側配線部
51b、51c 第1分割配線部
51d 第1テール側配線部
52 第2配線
52a 第2ヘッド側配線部
52b、52c 第2分割配線部
52d 第2テール側配線部
53 第3配線
54 第4配線
60 保護層
71 ヘッド側ジャンパー部
72 テール側ジャンパー部
73a、73b ヘッド側導電接続部
74a、74b テール側導電接続部
75 貫通部分
75a 外縁
76 突出部分
76a 外縁
80 積層体
91 第1絶縁層側導電接続部
92 第2絶縁層側導電接続部
93 第1貫通部分
93a 外縁
94 第1突出部分
94a 外縁
95 第2貫通部分
95a 外縁
96 第2突出部分
96a 外縁
101 サスペンション
102 ロードビーム
111 ヘッド付サスペンション
112 ヘッドスライダ
113 外部接続基板
114 レーザーダイオード
121 ハードディスクドライブ
122 ケース
123 ディスク
124 スピンドルモータ
125 ボイスコイルモータ
126 アーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Head area | region 3 Tail area | region 4 Head side terminal part 4a Head terminal 5 Tail terminal part 10 1st insulating layer 11a, 11b 1st head side through-hole 12a, 12b 1st tail side through-hole 20 Metal support layer 21 Metal support layer body 22 Head side jumper wiring portion 23 Tail side jumper wiring portion 24 Groove 30 First wiring layer 33 Power supply wiring 40 Second insulating layers 41a and 41b Second head side through holes 42a and 42b Second tail side through holes 50 2nd wiring layer 51 1st wiring 51a 1st head side wiring part 51b, 51c 1st divided wiring part 51d 1st tail side wiring part 52 2nd wiring 52a 2nd head side wiring part 52b, 52c 2nd divided wiring part 52d 2nd tail side wiring part 53 3rd wiring 54 4th wiring 60 Protective layer 71 Head side jumper part 72 Tail side jumper part 73a 73b Head side conductive connection portions 74a, 74b Tail side conductive connection portion 75 Through portion 75a Outer edge 76 Protruding portion 76a Outer edge 80 Laminate 91 First insulating layer side conductive connection portion 92 Second insulating layer side conductive connection portion 93 First through portion 93a outer edge 94 first protruding portion 94a outer edge 95 second penetrating portion 95a outer edge 96 second protruding portion 96a outer edge 101 suspension 102 load beam 111 suspension with head 112 head slider 113 external connection substrate 114 laser diode 121 hard disk drive 122 case 123 disk 124 Spindle motor 125 Voice coil motor 126 Arm
Claims (23)
第1絶縁層と、
第1絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、
第1絶縁層の他方の面に設けられた第1配線層と、
第1絶縁層に設けられ、第1配線層を覆う第2絶縁層と、
第2絶縁層に設けられ、第1配線と第2配線とを含む複数の配線を有する第2配線層と、を備え、
第2配線層の第1配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割された複数の分割配線部と、を含み、
金属支持層は、金属支持層本体と、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体と、を有し、
第1絶縁層および第2絶縁層に、当該第1絶縁層および当該第2絶縁層を貫通する複数の導電接続部が設けられ、
第1配線の各分割配線部は、対応する導電接続部を介して、金属支持層分離体に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板。 In the suspension substrate that is mounted on the head slider and extends from the head region including the head side terminal portion connected to the head slider to the tail region including the tail terminal portion to which the external connection substrate is connected,
A first insulating layer;
A metal support layer provided on one surface of the first insulating layer;
A first wiring layer provided on the other surface of the first insulating layer;
A second insulating layer provided on the first insulating layer and covering the first wiring layer;
A second wiring layer provided in the second insulating layer and having a plurality of wirings including the first wiring and the second wiring;
The first wiring of the second wiring layer includes a head side wiring part extending from the head side terminal part, and a plurality of divided wiring parts divided from the head side wiring part,
The metal support layer has a metal support layer main body, and a metal support layer separator separated from the metal support layer main body,
The first insulating layer and the second insulating layer are provided with a plurality of conductive connection portions penetrating the first insulating layer and the second insulating layer,
Each of the divided wiring portions of the first wiring is connected to the metal support layer separator through a corresponding conductive connection portion.
第1配線の分割配線部と、第2配線の分割配線部とは、交互に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。 The second wiring includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion, and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion,
The suspension substrate according to claim 1, wherein the divided wiring portions of the first wiring and the divided wiring portions of the second wiring are alternately arranged.
金属支持層は、金属支持層分離体よりテール領域側に設けられ、金属支持層本体および金属支持層分離体からそれぞれ分離された第2の金属支持層分離体を更に有し、
第1絶縁層および第2絶縁層において、当該第1絶縁層および当該第2絶縁層を貫通する複数の第2の導電接続部が設けられ、
第2配線の各分割配線部は、対応する第2の導電接続部を介して、第2の金属支持層分離体に接続されていることを特徴とする請求項2に記載のサスペンション用基板。 The second wiring of the second wiring layer includes a tail side wiring portion that extends from the tail terminal portion and is connected to each divided wiring portion,
The metal support layer is further provided on the tail region side from the metal support layer separator, and further includes a second metal support layer separator separated from the metal support layer main body and the metal support layer separator, respectively.
In the first insulating layer and the second insulating layer, a plurality of second conductive connection portions penetrating the first insulating layer and the second insulating layer are provided,
3. The suspension substrate according to claim 2, wherein each divided wiring portion of the second wiring is connected to the second metal support layer separator via a corresponding second conductive connection portion. 4.
第1絶縁層側導電接続部は、第1絶縁層を貫通する第1貫通部分と、第1絶縁層から突出し、第1貫通部分の外縁より外方に位置する外縁を有し、第1貫通部分に接続された第1突出部分と、を含み、
第2絶縁層側導電接続部は、第2絶縁層を貫通する第2貫通部分と、第2絶縁層から突出し、第2貫通部分の外縁より外方に位置する外縁を有し、第2貫通部分に接続された第2突出部分と、を含んでいることを特徴とする請求項3に記載のサスペンション用基板。 Each conductive connecting portion and each second conductive connecting portion are connected to the first insulating layer side conductive connecting portion penetrating the first insulating layer and the first insulating layer side conductive connecting portion, and pass through the second insulating layer. Each having a second insulating layer-side conductive connection,
The first insulating layer-side conductive connection portion has a first penetrating portion that penetrates the first insulating layer, an outer edge that protrudes from the first insulating layer, and is located outward from the outer edge of the first penetrating portion. A first projecting portion connected to the portion,
The second insulating layer-side conductive connection portion has a second penetrating portion that penetrates the second insulating layer, an outer edge that protrudes from the second insulating layer, and is located outward from the outer edge of the second penetrating portion. The suspension substrate according to claim 3, further comprising a second projecting portion connected to the portion.
ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項1乃至13のいずれかに記載のサスペンション用基板と、を有することを特徴とするサスペンション。 A base plate;
A suspension board comprising: a suspension substrate according to any one of claims 1 to 13 attached to a base plate via a load beam.
サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を有することを特徴とするヘッド付サスペンション。 A suspension according to claim 14 ,
And a head slider mounted on the suspension.
第1絶縁層と、第1絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、を有する積層体を準備する工程と、
第1絶縁層に、当該第1絶縁層を貫通する複数の第1貫通孔を形成する工程と、
第1絶縁層の他方の面に、第1配線層を形成する工程と、
第1絶縁層に、第1配線層を覆うように第2絶縁層を形成すると共に、第1貫通孔に対応する位置に、当該第2絶縁層を貫通する複数の第2貫通孔を形成する工程と、
第2絶縁層に、第1配線と第2配線とを含む複数の配線を有する第2配線層を形成する工程と、
金属支持層において、金属支持層本体と、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体と、を形成する工程と、を備え、
第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第1配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割される複数の分割配線部と、を含むように形成されると共に、各第1貫通孔および各第2貫通孔に導電接続部が形成され、
第1配線の各分割配線部は、対応する導電接続部を介して、金属支持層分離体に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。 In the manufacturing method of the suspension substrate, the head slider is mounted and extends from the head region including the head side terminal portion connected to the head slider to the tail region including the tail terminal portion to which the external connection substrate is connected.
Preparing a laminate having a first insulating layer and a metal support layer provided on one surface of the first insulating layer;
Forming a plurality of first through holes penetrating the first insulating layer in the first insulating layer;
Forming a first wiring layer on the other surface of the first insulating layer;
A second insulating layer is formed in the first insulating layer so as to cover the first wiring layer, and a plurality of second through holes penetrating the second insulating layer are formed at positions corresponding to the first through holes. Process,
Forming a second wiring layer having a plurality of wirings including a first wiring and a second wiring on the second insulating layer;
Forming a metal support layer main body and a metal support layer separator separated from the metal support layer main body in the metal support layer,
In the step of forming the second wiring layer, the first wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion. And a conductive connection portion is formed in each first through hole and each second through hole,
A method for manufacturing a suspension substrate, wherein each divided wiring portion of the first wiring is connected to a metal support layer separator through a corresponding conductive connection portion.
第1配線の分割配線部と、第2配線の分割配線部とが、交互に配置されることを特徴とする請求項17に記載のサスペンション用基板の製造方法。 In the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion. Formed into
18. The method for manufacturing a suspension board according to claim 17 , wherein the divided wiring portions of the first wiring and the divided wiring portions of the second wiring are alternately arranged.
第1貫通孔を形成する工程において、第2の金属支持層分離体に対応する位置に、第1絶縁層を貫通する複数の第3貫通孔が形成され、
第2貫通孔を形成する工程において、第3貫通孔に対応する位置に、第2絶縁層を貫通する複数の第4貫通孔が形成され、
第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第2配線は、テール端子部から延び、各分割配線部に接続されるテール側配線部を含むように形成されると共に、各第3貫通孔および各第4貫通孔に第2の導電接続部が形成され、
第2配線の各分割配線部は、対応する第2の導電接続部を介して、第2の金属支持層分離体に接続されることを特徴とする請求項18に記載のサスペンション用基板の製造方法。 In the step of forming the metal support layer separator, a second metal support layer separator separated from the metal support layer main body and the metal support layer separator is formed on the tail region side from the metal support layer separator,
In the step of forming the first through hole, a plurality of third through holes penetrating the first insulating layer are formed at positions corresponding to the second metal support layer separator,
In the step of forming the second through hole, a plurality of fourth through holes penetrating the second insulating layer are formed at positions corresponding to the third through holes,
In the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer is formed so as to include a tail side wiring portion that extends from the tail terminal portion and is connected to each of the divided wiring portions. A second conductive connection is formed in the through hole and each fourth through hole;
19. The suspension substrate according to claim 18 , wherein each divided wiring portion of the second wiring is connected to the second metal support layer separator via a corresponding second conductive connection portion. Method.
第1絶縁層と、第1絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、を有する積層体を準備する工程と、
第1絶縁層に、当該第1絶縁層を貫通する複数の第1貫通孔を形成する工程と、
第1絶縁層の他方の面に第1配線層を形成する工程と、
第1絶縁層に、第1配線層を覆うように第2絶縁層を形成すると共に、第1貫通孔に対応する位置に、当該第2絶縁層を貫通する複数の第2貫通孔を形成する工程と、
第2絶縁層に、第1配線と第2配線とを含む複数の配線を有する第2配線層を形成する工程と、
金属支持層において、金属支持層本体と、金属支持層本体から分離された金属支持層分離体と、を形成する工程と、を備え、
第1配線層を形成する工程において、各第1貫通孔に第1絶縁層側導電接続部が形成され、
第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第1配線は、ヘッド側端子部から延びるヘッド側配線部と、ヘッド側配線部から分割される複数の分割配線部と、を含むように形成されると共に、各第2貫通孔に第1絶縁層側導電接続部に接続される第2絶縁層側導電接続部が形成され、
第1配線の各分割配線部は、対応する第1絶縁層側導電接続部および第2絶縁層側導電接続部を介して、金属支持層分離体に接続されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。 In the manufacturing method of the suspension substrate, the head slider is mounted and extends from the head region including the head side terminal portion connected to the head slider to the tail region including the tail terminal portion to which the external connection substrate is connected.
Preparing a laminate having a first insulating layer and a metal support layer provided on one surface of the first insulating layer;
Forming a plurality of first through holes penetrating the first insulating layer in the first insulating layer;
Forming a first wiring layer on the other surface of the first insulating layer;
A second insulating layer is formed in the first insulating layer so as to cover the first wiring layer, and a plurality of second through holes penetrating the second insulating layer are formed at positions corresponding to the first through holes. Process,
Forming a second wiring layer having a plurality of wirings including a first wiring and a second wiring on the second insulating layer;
Forming a metal support layer main body and a metal support layer separator separated from the metal support layer main body in the metal support layer,
In the step of forming the first wiring layer, a first insulating layer side conductive connection portion is formed in each first through hole,
In the step of forming the second wiring layer, the first wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion. And a second insulating layer side conductive connection portion connected to the first insulating layer side conductive connection portion is formed in each second through hole,
Each of the divided wiring portions of the first wiring is connected to the metal support layer separator via the corresponding first insulating layer side conductive connecting portion and second insulating layer side conductive connecting portion. Manufacturing method.
第1配線の分割配線部と、第2配線の分割配線部とが、交互に配置されることを特徴とする請求項20に記載のサスペンション用基板の製造方法。 In the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer includes a head side wiring portion extending from the head side terminal portion and a plurality of divided wiring portions divided from the head side wiring portion. Formed into
21. The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 20 , wherein the divided wiring portions of the first wiring and the divided wiring portions of the second wiring are alternately arranged.
第1貫通孔を形成する工程において、第2の金属支持層分離体に対応する位置に、第1絶縁層を貫通する複数の第3貫通孔が形成され、
第2貫通孔を形成する工程において、第3貫通孔に対応する位置に、第2絶縁層を貫通する複数の第4貫通孔が形成され、
第1配線層を形成する工程において、各第3貫通孔に第1絶縁層側導電接続部が形成され、
第2配線層を形成する工程において、第2配線層の第2配線は、テール端子部から延び、各分割配線部に接続されるテール側配線部を含むように形成されると共に、各第4貫通孔に、第3貫通孔に形成された第1絶縁層側導電接続部に接続される第2絶縁層側導電接続部が形成され、
第2配線の各分割配線部は、対応する第3貫通孔に形成された第1絶縁層側導電接続部および第4貫通孔に形成された第2絶縁層側導電接続部を介して、第2の金属支持層分離体に接続されることを特徴とする請求項21に記載のサスペンション用基板の製造方法。 In the step of forming the metal support layer separator, a second metal support layer separator separated from the metal support layer main body and the metal support layer separator is formed on the tail region side from the metal support layer separator,
In the step of forming the first through hole, a plurality of third through holes penetrating the first insulating layer are formed at positions corresponding to the second metal support layer separator,
In the step of forming the second through hole, a plurality of fourth through holes penetrating the second insulating layer are formed at positions corresponding to the third through holes,
In the step of forming the first wiring layer, a first insulating layer side conductive connection portion is formed in each third through hole,
In the step of forming the second wiring layer, the second wiring of the second wiring layer is formed so as to include a tail side wiring portion that extends from the tail terminal portion and is connected to each divided wiring portion. A second insulating layer side conductive connection portion connected to the first insulating layer side conductive connection portion formed in the third through hole is formed in the through hole,
Each divided wiring portion of the second wiring is connected to the first insulating layer side conductive connecting portion formed in the corresponding third through hole and the second insulating layer side conductive connecting portion formed in the fourth through hole. The suspension substrate manufacturing method according to claim 21 , wherein the suspension substrate is connected to the two metal support layer separators.
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