JP6145975B2 - Suspension board, suspension, suspension with head, and hard disk drive - Google Patents

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本発明は、主に、ハードディスクドライブ(HDD)に用いられ、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込み、および、読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されるサスペンション用基板に関するものである。   The present invention mainly relates to a suspension board on which a magnetic head slider used for a hard disk drive (HDD) and writing and reading data to and from a disk storing data is mounted.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込み、および読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されるサスペンション用基板を備えている。
このサスペンション用基板は、一般に、バネ性を有する金属支持基板と、前記金属支持基板の上に形成されたベース絶縁層と、前記ベース絶縁層の上に形成された複数の配線と、を有している。
In general, a hard disk drive (HDD) includes a suspension substrate on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted.
The suspension substrate generally includes a metal support substrate having a spring property, a base insulating layer formed on the metal support substrate, and a plurality of wirings formed on the base insulating layer. ing.

上記のサスペンション用基板の配線の形成方法としては、従来からフレキシブルプリント配線板の製造に用いられてきたサブトラクティブ法やセミアディティブ法が知られている(特許文献1)。   As a method for forming wiring for the above-described suspension board, a subtractive method and a semi-additive method that have been conventionally used for manufacturing flexible printed wiring boards are known (Patent Document 1).

上記のサブトラクティブ法とは、主にエッチングで配線を形成する方法であり、例えば、図12に示すように、金属支持基板111、ベース絶縁層112、配線材層114が順次形成された積層体を用意し(図12(a))、前記配線材層114の上にレジストパターン117を形成し(図12(b))、前記レジストパターン117から露出する前記配線材層114をエッチングした後に(図12(c))、前記レジストパターン117を剥離除去して(図12(d))、所望の配線(例えば、114aおよび114b)を形成する方法である。
なお、形成された配線は、腐食等による劣化を防止するため、通常、図12(e)に示すように、端子部となる部分を除いてカバー絶縁層115で被覆される。
The subtractive method is a method of forming wiring mainly by etching. For example, as shown in FIG. 12, a laminated body in which a metal support substrate 111, a base insulating layer 112, and a wiring material layer 114 are sequentially formed. (FIG. 12A), a resist pattern 117 is formed on the wiring material layer 114 (FIG. 12B), and the wiring material layer 114 exposed from the resist pattern 117 is etched ( In FIG. 12C, the resist pattern 117 is peeled and removed (FIG. 12D) to form desired wirings (for example, 114a and 114b).
In order to prevent deterioration due to corrosion or the like, the formed wiring is usually covered with a cover insulating layer 115 except for a portion to be a terminal portion as shown in FIG.

一方、上記のセミアディティブ法とは、主にめっきで配線を形成する方法であり、例えば、図13に示すように、金属支持基板211の上にベース絶縁層212を形成し(図13(a))、前記ベース絶縁層212の上にレジストパターン217を形成し(図13(b))、前記レジストパターン217から露出する前記ベース絶縁層212の上に配線(例えば、214aおよび214b)の材料になる金属を必要な厚さにめっき形成した後に(図13(c))、前記レジストパターン217を剥離除去して(図13(d))、所望の配線(例えば、214aおよび214b)を形成する方法である。
なおこの場合も、形成された配線は、腐食等による劣化を防止するため、通常、図13(e)に示すように、端子部となる部分を除いてカバー絶縁層215で被覆される。
On the other hand, the semi-additive method is a method of forming wiring mainly by plating. For example, as shown in FIG. 13, a base insulating layer 212 is formed on a metal support substrate 211 (FIG. 13A )), A resist pattern 217 is formed on the insulating base layer 212 (FIG. 13B), and wiring (eg, 214a and 214b) is formed on the insulating base layer 212 exposed from the resist pattern 217. After the metal to be formed is plated to a required thickness (FIG. 13C), the resist pattern 217 is peeled and removed (FIG. 13D) to form desired wirings (for example, 214a and 214b). It is a method to do.
In this case as well, the formed wiring is usually covered with a cover insulating layer 215 except for a portion to be a terminal portion as shown in FIG. 13E in order to prevent deterioration due to corrosion or the like.

そして、上記の各方法を用いて製造された従来のサスペンション用基板の配線の断面形状は、例えば、図14(a)または(b)に示す形態のように、配線上面の幅(W102)が配線底面の幅(W101)よりも小さな略台形の形状か、または、配線上面の幅(W102)が配線底面の幅(W101)と同じである矩形の形状になる。   And, the cross-sectional shape of the wiring of the conventional suspension board manufactured by using each of the above methods is, for example, the width (W102) of the wiring upper surface as shown in FIG. 14 (a) or (b). It has a substantially trapezoidal shape smaller than the width (W101) of the wiring bottom surface or a rectangular shape in which the width (W102) of the wiring top surface is the same as the width (W101) of the wiring bottom surface.

なお、従来、上記のサブトラクティブ法(図12)における前記配線材層114としては圧延銅箔などが用いられてきたが、近年では、主に配線の微細化のため、前記配線材層114は電解めっき法で形成された電解銅になってきており、前記ベース絶縁層112と前記配線材層114の間には、めっき給電のための薄膜導体材層が設けられている場合がある。この場合には、配線を形成した後に、配線間に露出する不要な薄膜導体材層の部分を除去することになる。
また、上記のセミアディティブ法(図13)においても、配線をめっきで形成するために、前記ベース絶縁層212を形成する工程(図13(a))と前記レジストパターン217を形成する工程(図13(b))の間に、前記ベース絶縁層212の上にめっき給電のための薄膜導体材層を形成する工程を行う場合がある。この場合も、配線を形成した後には、配線間に露出する不要な薄膜導体材層の部分を除去することになる。
Conventionally, a rolled copper foil or the like has been used as the wiring material layer 114 in the subtractive method (FIG. 12). However, in recent years, the wiring material layer 114 is mainly used for miniaturization of wiring. It is becoming electrolytic copper formed by electrolytic plating, and a thin film conductor material layer for plating power supply may be provided between the base insulating layer 112 and the wiring material layer 114 in some cases. In this case, after the wiring is formed, an unnecessary portion of the thin film conductor material layer exposed between the wirings is removed.
Also in the semi-additive method (FIG. 13), the step of forming the base insulating layer 212 (FIG. 13A) and the step of forming the resist pattern 217 (FIG. 13) in order to form wiring by plating. 13 (b)), a step of forming a thin film conductor material layer for plating power supply on the insulating base layer 212 may be performed. Also in this case, after the wiring is formed, an unnecessary portion of the thin film conductor material layer exposed between the wirings is removed.

特開2006−24521号公報JP 2006-24521 A

上記のようなサスペンション用基板の配線の幾つか(例えば、書込配線や読込配線)は、第1信号配線と、前記第1信号配線とは電気的に独立した第2信号配線とを、平面的に並行配列させた構成の一対の差動配線を有しており、前記一対の差動配線間には、分布定数回路としての差動伝送路の特性インピーダンスである差動インピーダンスが存在する。   Some of the wiring of the suspension substrate as described above (for example, write wiring and read wiring) include a first signal wiring and a second signal wiring electrically independent of the first signal wiring. A differential impedance which is a characteristic impedance of a differential transmission line as a distributed constant circuit exists between the pair of differential wirings.

上記の差動インピーダンスは、磁気ヘッドや外部回路の低インピーダンス化に伴い、インピーダンスマッチングの観点から、低インピーダンス化することが要求されている。上記のような低インピーダンス化を達成する方法としては、例えば、前記一対の差動配線を構成する2本の配線の間の距離を小さくする方法がある。
しかしながら、従来のサスペンション用基板において上記のように配線間の距離を小さくする場合には、イオンマイグレーションの問題が生じやすい。前記イオンマイグレーションの問題について、以下説明する。
The above-mentioned differential impedance is required to be reduced from the viewpoint of impedance matching as the magnetic head and external circuit are reduced in impedance. As a method for achieving the low impedance as described above, for example, there is a method of reducing the distance between two wires constituting the pair of differential wires.
However, in the conventional suspension substrate, when the distance between the wirings is reduced as described above, the problem of ion migration tends to occur. The ion migration problem will be described below.

上述のように、従来のサスペンション用基板の配線の断面形状は、図14(a)または(b)に示すように、配線上面の幅(W102)が配線底面の幅(W101)よりも小さな略台形の形状か、または、配線上面の幅(W102)が配線底面の幅(W101)と同じである矩形の形状になる。それゆえ、従来のサスペンション用基板においては、前記2本の配線の底面間の距離が、前記2本の配線の間で最も短い距離に等しくなる。
より具体的に説明すると、例えば、図15(a)に示すように、2本の配線114a、114bの断面形状が配線上面の幅が配線底面の幅よりも小さな略台形の形状の場合には、配線114aの底面と配線114bの底面との間の距離(S100)が、配線114aと配線114bの間隔の中で最も近接した距離となる。
また、図15(b)に示すように、2本の配線214a、214bの断面形状が配線上面の幅が配線底面の幅と同じである矩形の形状の場合には、配線214aと配線214bの間の距離は、配線上面から配線底面に至るまで同じ距離(S200)になる。すなわち、配線214aの底面と配線214bの底面との間も距離(S200)になり、この距離(S200)は配線214aと配線214bの間隔の中で最も近接した距離に等しい。
As described above, the cross-sectional shape of the wiring of the conventional suspension board is substantially the same as shown in FIG. 14A or 14B, in which the width (W102) of the upper surface of the wiring is smaller than the width (W101) of the lower surface of the wiring. It has a trapezoidal shape or a rectangular shape in which the width (W102) of the wiring top surface is the same as the width (W101) of the wiring bottom surface. Therefore, in the conventional suspension board, the distance between the bottom surfaces of the two wires is equal to the shortest distance between the two wires.
More specifically, for example, as shown in FIG. 15A, when the cross-sectional shape of the two wirings 114a and 114b is a substantially trapezoidal shape in which the width of the wiring upper surface is smaller than the width of the wiring bottom surface. The distance (S100) between the bottom surface of the wiring 114a and the bottom surface of the wiring 114b is the closest distance in the interval between the wiring 114a and the wiring 114b.
Further, as shown in FIG. 15B, when the cross-sectional shape of the two wirings 214a and 214b is a rectangular shape in which the width of the wiring upper surface is the same as the width of the wiring bottom surface, the wiring 214a and the wiring 214b The distance between them is the same distance (S200) from the upper surface of the wiring to the lower surface of the wiring. That is, the distance between the bottom surface of the wiring 214a and the bottom surface of the wiring 214b is also a distance (S200), and this distance (S200) is equal to the closest distance in the interval between the wiring 214a and the wiring 214b.

ここで、上記のような配線構造(各配線に伝送される電気信号が互いに逆位相となる一対の差動配線構造、すなわち、絶縁層の上に正負の電極が対向して配設されているような構造)において生じやすい問題として、イオンマイグレーションによる電気的な短絡がある。なお、イオンマイグレーションとは、電界の影響で金属成分が非金属媒体の上や中を横切って移動する現象である。
このイオンマイグレーションは、絶縁層の界面に生じやすい。それゆえ、例えば、図15(a)や図15(b)に示すように、一対の差動配線を構成する2本の配線がベース絶縁層の上に互いに近接した位置で形成されており、前記2本の配線の底面間の距離が、前記2本の配線の間で最も短い距離に等しくなるような構造を有するサスペンション用基板においては、前記2本の配線間のベース絶縁層の界面(例えば、図15(a)に示すベース絶縁層112とカバー絶縁層115との間)に前記イオンマイグレーションが生じやすい。
Here, a wiring structure as described above (a pair of differential wiring structures in which electrical signals transmitted to the respective wirings are in opposite phases to each other, that is, positive and negative electrodes are arranged on the insulating layer to face each other. As a problem that is likely to occur in such a structure, there is an electrical short circuit due to ion migration. Note that ion migration is a phenomenon in which a metal component moves across or inside a non-metallic medium due to the influence of an electric field.
This ion migration tends to occur at the interface of the insulating layer. Therefore, for example, as shown in FIG. 15A and FIG. 15B, two wirings constituting a pair of differential wirings are formed on the base insulating layer at positions close to each other, In the suspension substrate having a structure in which the distance between the bottom surfaces of the two wires is equal to the shortest distance between the two wires, the interface of the base insulating layer between the two wires ( For example, the ion migration is likely to occur in the insulating base layer 112 and the insulating cover layer 115 shown in FIG.

したがって、従来のサスペンション用基板においては、イオンマイグレーションが発生しやすいベース絶縁層の界面に近接する部分における前記一対の差動配線の間隔が最も短くなってしまい、低インピーダンス化のために前記一対の差動配線を構成する2本の配線の間の距離を小さくすると、前記配線間で前記イオンマイグレーションによる電気的な短絡が発生しやすいという問題があった。   Therefore, in the conventional suspension substrate, the distance between the pair of differential wirings in the portion close to the interface of the base insulating layer where ion migration is likely to occur is the shortest, and the pair of differential wirings is reduced in order to reduce the impedance. When the distance between the two wires constituting the differential wire is reduced, there is a problem that an electrical short circuit due to the ion migration is likely to occur between the wires.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、一対の差動配線を構成する2本の配線間においてイオンマイグレーションによる電気的な短絡が発生することを抑制しつつ、差動インピーダンスを低減することが可能なサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and reduces differential impedance while suppressing the occurrence of an electrical short circuit due to ion migration between two wires constituting a pair of differential wires. An object of the present invention is to provide a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, and a hard disk drive that can be used.

本発明者は、種々研究した結果、サスペンション用基板の配線を、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えている配線とすることで、上記課題を解決できることを見出して本発明を完成したものである。   As a result of various studies, the inventor has found that the above problem can be solved by making the wiring of the suspension substrate a wiring having a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction. Is completed.

すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、金属支持基板上に形成されたベース絶縁層の上に複数の配線が形成されているサスペンション用基板であって、前記ベース絶縁層の上にカバー絶縁層が形成されており、前記配線は、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えており、前記複数の配線が、互いに電気的に接続された複数の第1信号配線と、前記第1信号配線とは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の第2信号配線とを、平面的に交互に並行配列させた構成を有しており、前記底面の幅は、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分の幅に対して、10%〜40%小さい幅であり、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分が、前記配線の胴部に存在し、前記配線の底面から、前記配線の胴部の前記最も大きい幅を有する部分までの間の配線幅が徐々に大きくなり、前記配線の胴部の前記最も大きい幅を有する部分から、前記配線の上面までの間の配線幅が徐々に小さくなる形態を有することを特徴とするサスペンション用基板である。 That is, the invention according to claim 1 of the present invention is a suspension substrate in which a plurality of wirings are formed on a base insulating layer formed on a metal supporting substrate , and the cover is formed on the base insulating layer. An insulating layer is formed, the wiring includes a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction, and the plurality of wirings are electrically connected to each other with a plurality of first signal wirings A plurality of second signal wirings that are electrically independent of the first signal wirings and electrically connected to each other, and arranged in parallel alternately in a plane, and the width of the bottom surface is the width of the portion with the largest width between the bottom surface from the top surface of the wiring, Ri 10% to 40% less width der, the portion with the largest width between the bottom surface from the top surface of the wiring Present in the body of the wiring, and the bottom of the wiring From the portion having the largest width of the trunk portion of the wiring to the upper surface of the wiring from the portion having the largest width of the trunk portion of the wiring. A suspension substrate characterized in that the wiring width gradually decreases .

また、本発明の請求項2に係る発明は、前記配線の上に前記カバー絶縁層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板である。
The invention according to claim 2 of the present invention is the suspension substrate according to claim 1 , wherein the insulating cover layer is formed on the wiring.

また、本発明の請求項に係る発明は、前記金属支持基板には、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域と重なる位置に、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域の幅よりも大きな開口幅を有する開口部が形成されていることを特徴とする請求項または請求項に記載のサスペンション用基板である。 According to a third aspect of the present invention, in the metal support substrate, the first signal wiring and the first signal wiring are disposed at a position overlapping with a region where the first signal wiring and the second signal wiring are arranged. than the width of were arranged and two signal wiring region is suspension substrate according to claim 1 or claim 2, characterized in that the opening is formed with a large opening width.

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項1乃至請求項のいずれか一項に記載のサスペンション用基板と、ロードビームとを含むことを特徴とするサスペンションである。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a suspension comprising the suspension substrate according to any one of the first to third aspects and a load beam.

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンションである。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a suspension with a head comprising the suspension according to the fourth aspect and a magnetic head slider mounted on the suspension.

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブである。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a hard disk drive including the suspension with a head according to the fifth aspect.

本発明のサスペンション用基板においては、イオンマイグレーションによる電気的な短絡が発生することを抑制しつつ、差動インピーダンスを低減することができる。
そして、本発明のサスペンション用基板を用いることで、低インピーダンスでありながら、短絡の発生を抑制した信頼性の高いサスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブを得ることができる。
In the suspension substrate of the present invention, the differential impedance can be reduced while suppressing the occurrence of an electrical short circuit due to ion migration.
By using the suspension substrate of the present invention, it is possible to obtain a highly reliable suspension, a suspension with a head, and a hard disk drive that have a low impedance and suppress the occurrence of a short circuit.

本発明に係るサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate according to the present invention. 図1における領域RのA−A断面図である。It is AA sectional drawing of the area | region R in FIG. 本発明に係るサスペンション用基板の配線の断面形状の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of the cross-sectional shape of the wiring of the board | substrate for suspensions concerning this invention. 本発明に係るサスペンション用基板と従来のサスペンション用基板との相違を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the difference between the suspension board | substrate which concerns on this invention, and the conventional suspension board | substrate. 本発明に係るサスペンション用基板の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the board | substrate for suspensions concerning this invention. 図5(b)に示すサスペンション用基板のインターリーブ配線の回路構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the circuit structure of the interleave wiring of the board | substrate for suspension shown in FIG.5 (b). 本発明に係るサスペンション用基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing an example of a manufacturing method of a substrate for suspensions concerning the present invention. 図7に続く本発明に係るサスペンション用基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。FIG. 8 is a schematic process diagram illustrating an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention following FIG. 7. 本発明に係るサスペンションの一例を示す概略平面図である。1 is a schematic plan view showing an example of a suspension according to the present invention. 本発明に係るヘッド付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view showing an example of a suspension with a head according to the present invention. 本発明に係るハードディスクドライブの一例を示す概略斜視図である。1 is a schematic perspective view showing an example of a hard disk drive according to the present invention. 従来のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing an example of the manufacturing method of the conventional suspension board. 従来のサスペンション用基板の製造方法の他の例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing other examples of the manufacturing method of the conventional suspension board. 従来のサスペンション用基板の配線の断面形状の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of the cross-sectional shape of the wiring of the conventional board | substrate for suspensions. 従来のサスペンション用基板の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the conventional board | substrate for suspensions.

以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブについて詳細に説明する。   Hereinafter, the suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive of the present invention will be described in detail.

[サスペンション用基板]
まず、本発明のサスペンション用基板の平面構成について説明する。
図1は、本発明に係るサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。
図1に示すように、本発明に係るサスペンション用基板1は、先端部分に磁気ヘッドスライダを実装するためのタング部2を有し、テール側端部に外部の読取回路または書込回路と接続するための接続端子部3を有し、タング部2と接続端子部3との間に、前記磁気ヘッドと書込回路とを電気的に接続するための書込配線を含む配線群4と、前記磁気ヘッドと読取回路とを電気的に接続する読取配線を含む配線群5を有するものである。
[Suspension substrate]
First, the planar configuration of the suspension substrate of the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate according to the present invention.
As shown in FIG. 1, a suspension substrate 1 according to the present invention has a tongue portion 2 for mounting a magnetic head slider at a tip portion, and is connected to an external reading circuit or writing circuit at a tail side end portion. A wiring group 4 including a write wiring for electrically connecting the magnetic head and the write circuit between the tongue portion 2 and the connection terminal portion 3; The wiring group 5 includes a reading wiring that electrically connects the magnetic head and the reading circuit.

ここで、書込配線を含む配線群4と読取配線を含む配線群5は、相互の電気的な影響を極力避けるため、および、サスペンション用基板の力学的平衡を保つため、各々、サスペンション用基板の長手方向の両外縁に沿うように配設されている。   Here, the wiring group 4 including the write wiring and the wiring group 5 including the reading wiring are respectively used for the suspension substrate in order to avoid mutual electrical influence as much as possible and to maintain the mechanical balance of the suspension substrate. Are arranged along both outer edges in the longitudinal direction.

なお、図1における書込配線を含む配線群4と読取配線を含む配線群5の配置関係は、一例であって、他の配置関係であっても構わない。例えば、図1における書込配線を含む配線群4の位置に、読取配線を含む配線群5が配設され、読取配線を含む配線群5の位置に、書込配線を含む配線群4が配設されていても良い。   Note that the arrangement relationship between the wiring group 4 including the write wiring and the wiring group 5 including the reading wiring in FIG. 1 is an example, and may be another arrangement relationship. For example, the wiring group 5 including the read wiring is disposed at the position of the wiring group 4 including the write wiring in FIG. 1, and the wiring group 4 including the write wiring is disposed at the position of the wiring group 5 including the read wiring. It may be provided.

次に、本発明に係るサスペンション用基板の断面構成について説明する。
本発明に係るサスペンション用基板は、金属支持基板上に形成されたベース絶縁層の上に複数の配線が形成されているサスペンション用基板であって、前記配線は、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えていることを特徴とする。ここで、本発明において配線の「底面」とは、配線の前記ベース絶縁層側の面を指し、配線の「上面」とは、配線の前記ベース絶縁層側とは反対側の面を指す。
このような構成を有しているため、本発明に係るサスペンション用基板においては、一対の差動配線を構成する2本の配線間においてイオンマイグレーションによる電気的な短絡が発生することを抑制しつつ、差動インピーダンスを低減することができる。
以下、図面を用いて、本発明の構成と効果の関係について詳細に説明する。
Next, a cross-sectional configuration of the suspension substrate according to the present invention will be described.
The suspension substrate according to the present invention is a suspension substrate in which a plurality of wirings are formed on a base insulating layer formed on a metal supporting substrate, and the wirings are larger than the width of the bottom surface in the thickness direction. A portion having a large width is provided. Here, in the present invention, the “bottom surface” of the wiring refers to the surface of the wiring on the base insulating layer side, and the “top surface” of the wiring refers to the surface of the wiring on the side opposite to the base insulating layer side.
With such a configuration, in the suspension substrate according to the present invention, it is possible to suppress the occurrence of an electrical short circuit due to ion migration between the two wires constituting the pair of differential wires. The differential impedance can be reduced.
Hereinafter, the relationship between the configuration and effects of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図2は、本発明に係るサスペンション用基板の構成例を示す断面図であり、図1における領域RのA−A断面図である。
例えば、図2に示す形態の本発明に係るサスペンション用基板10において金属支持基板11上に形成されたベース絶縁層12の上には、配線14aおよび配線14bが形成されている。そして、配線14aおよび配線14bはいずれも、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えている。
なお、本実施形態における前記配線14aおよび前記配線14bは、第1信号配線と、前記第1信号配線とは電気的に独立した第2信号配線とを、平面的に並行配列させた構成の一対の差動配線である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of the suspension substrate according to the present invention, and is a cross-sectional view taken along the line AA of the region R in FIG.
For example, in the suspension substrate 10 of the embodiment shown in FIG. 2, the wiring 14a and the wiring 14b are formed on the base insulating layer 12 formed on the metal support substrate 11. And both the wiring 14a and the wiring 14b are provided with the part which has a width | variety larger than the width | variety of a bottom face in the thickness direction.
Note that the wiring 14a and the wiring 14b in the present embodiment are a pair of configurations in which a first signal wiring and a second signal wiring electrically independent of the first signal wiring are arranged in parallel in a plane. Differential wiring.

上述のように、本発明に係る配線は、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えていることを特徴とする。言い換えれば、本発明に係る配線は、底面から上面までの間において、底面とは異なる部分に底面よりも幅広の部分を備えているものであれば良い。
上記のような形態を有する配線の代表的な断面形状の例を、図3に示す。
ここで、図3(a)および(b)は、配線14aの厚み方向において、底面の幅(W1)よりも大きい幅(W2)を有する部分が、配線の上面である形態を例示し、図3(c)は、配線14aの厚み方向において、底面の幅(W1)よりも大きい幅(W2)を有する部分が、配線の胴部(上面と底面の間)に存在する形態を例示するものである。
As described above, the wiring according to the present invention includes a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction. In other words, the wiring according to the present invention only needs to have a portion wider than the bottom surface in a portion different from the bottom surface between the bottom surface and the top surface.
An example of a typical cross-sectional shape of the wiring having the above configuration is shown in FIG.
Here, FIGS. 3A and 3B exemplify a form in which the portion having the width (W2) larger than the width (W1) of the bottom surface is the upper surface of the wiring in the thickness direction of the wiring 14a. 3 (c) exemplifies a form in which a portion having a width (W2) larger than the width (W1) of the bottom surface exists in the body portion (between the top surface and the bottom surface) in the thickness direction of the wiring 14a. It is.

より、詳しく述べると、例えば図3(a)に示す形態においては、配線14aの底面から上面に向かって高さH1までの間の配線幅はW1からW2へと徐々に大きくなるが、高さH1からさらにH2を加えた高さ位置(すなわち上面)までの間の配線幅は、略同一の大きさ(W2)である。一方、図3(b)に示す形態においては、配線14aの底面から上面に到るまでの間、配線幅はW1からW2へと連続的に大きくなる。   More specifically, for example, in the form shown in FIG. 3A, the wiring width between the bottom surface and the top surface of the wiring 14a from the height H1 gradually increases from W1 to W2, but the height The wiring width from H1 to the height position (ie, the upper surface) obtained by adding H2 is substantially the same (W2). On the other hand, in the form shown in FIG. 3B, the wiring width continuously increases from W1 to W2 from the bottom surface to the top surface of the wiring 14a.

なお、図3(a)においては、説明容易とするために、配線14aの断面形状を直線的な外形を有する多角形で表現しているが、本発明はこの形態に限定されず、配線の底面から上面に向かって一定の高さ位置(図3(a)に示すH1)までの間は、その配線幅が大きくなるように顕著に変化して行き、前記高さ位置から上面までの間は、配線幅に変化があってもその変化の程度が、先の変化(配線の底面から一定の高さ位置までの変化)よりも小さいような形態を含むものである。   In FIG. 3A, for ease of explanation, the cross-sectional shape of the wiring 14a is represented by a polygon having a linear outer shape, but the present invention is not limited to this form, and the wiring Between the bottom surface and the top surface, the wiring width changes significantly so as to increase to a certain height position (H1 shown in FIG. 3A). Includes a form in which even if there is a change in the wiring width, the degree of the change is smaller than the previous change (change from the bottom surface of the wiring to a certain height position).

一方、図3(c)に示す形態においては、配線14aの底面から上面に向かって高さH3までの間の配線幅はW1からW2へと徐々に大きくなるが、高さH3からさらにH4を加えた高さ位置(すなわち上面)までの間の配線幅はW2からW3へと徐々に小さくなる。
なお、図3(c)に示す例においては、上面の配線幅W3が底面の配線幅W1よりも大きい形態を示しているが、本発明はこの形態に限定されず、上面の配線幅W3が底面の配線幅W1よりも小さい形態であっても良い。
On the other hand, in the embodiment shown in FIG. 3C, the wiring width between the bottom surface and the top surface of the wiring 14a from the height H3 gradually increases from W1 to W2, but the height H3 is further increased from the height H3. The wiring width between the added height position (that is, the upper surface) gradually decreases from W2 to W3.
In the example shown in FIG. 3C, the top surface wiring width W3 is larger than the bottom surface wiring width W1, but the present invention is not limited to this mode, and the top surface wiring width W3 is The form may be smaller than the wiring width W1 on the bottom surface.

次に、上記のような形態の配線を有する本発明に係るサスペンション用基板の効果について、図4を用いて説明する。
図4は、本発明に係るサスペンション用基板と従来のサスペンション用基板との相違を説明するための概略断面図であり、(a)は本発明に係るサスペンション用基板を、(b)は従来のサスペンション用基板を、それぞれ示している。なお、図4においては、説明を容易にするために、金属支持基板やカバー絶縁層の記載は省略している。
Next, the effect of the suspension substrate according to the present invention having the above-described form of wiring will be described with reference to FIG.
4A and 4B are schematic cross-sectional views for explaining the difference between the suspension substrate according to the present invention and the conventional suspension substrate. FIG. 4A is a suspension substrate according to the present invention, and FIG. Each of the suspension substrates is shown. In FIG. 4, the description of the metal support substrate and the cover insulating layer is omitted for ease of explanation.

例えば、図4(b)に示す例のように、従来のサスペンション用基板100においては、一対の差動配線を構成する配線114aと配線114bとを、設計ピッチ(各配線の中心線間の距離)がP100となるように形成した場合、配線114aと配線114bとの間の最短距離は、各配線の底面間の距離S100になる。すなわち、配線114aと配線114bは、各々の底面において最も近づくことになる。   For example, as in the example shown in FIG. 4B, in the conventional suspension substrate 100, the wiring 114a and the wiring 114b constituting the pair of differential wirings are arranged at the design pitch (the distance between the center lines of the respective wirings). ) Becomes P100, the shortest distance between the wiring 114a and the wiring 114b is the distance S100 between the bottom surfaces of the wirings. That is, the wiring 114a and the wiring 114b are closest to each other on the bottom surface.

一方、本発明に係るサスペンション用基板の配線は、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えている。それゆえ、例えば図4(a)に示す形態の本発明に係るサスペンション用基板10においては、一対の差動配線を構成する配線14aと配線14bとを、設計ピッチ(各配線の中心線間の距離)がP1となるように形成した場合、配線14aと配線14bとの間の最短距離は、各配線の底面間の距離S1よりも短くなる(図4(a)においては、前記最短距離は距離S2)。すなわち、配線14aと配線14bは、各々の底面とは異なる部分において最も近づくことになる。   On the other hand, the wiring of the suspension substrate according to the present invention includes a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction. Therefore, for example, in the suspension substrate 10 according to the present invention having the configuration shown in FIG. When the distance is formed to be P1, the shortest distance between the wiring 14a and the wiring 14b is shorter than the distance S1 between the bottom surfaces of the wirings (in FIG. 4A, the shortest distance is Distance S2). That is, the wiring 14a and the wiring 14b are closest to each other at a portion different from the bottom surface.

それゆえ、例えば、上記の設計ピッチP1と設計ピッチP100が同じ大きさであっても、本発明に係る配線の底面間の距離S1は、従来の配線の底面間の距離S100よりも大きいものになる。すなわち、本発明においては、上述のイオンマイグレーションが生じやすい絶縁層の界面(図4(a)におけるベース絶縁層12の表面)において、配線間の距離を従来よりも大きくすることができる。
したがって、本発明においては、低インピーダンス化のために一対の差動配線間の設計ピッチ(各配線の中心線間の距離)を小さくしても、前記配線間で前記イオンマイグレーションが生じることを抑制することができる。
言い換えれば、本発明に係るサスペンション用基板は、前記イオンマイグレーションによる電気的な短絡が発生することを抑制しつつ、差動インピーダンスを低減することができる。
Therefore, for example, even if the design pitch P1 and the design pitch P100 are the same, the distance S1 between the bottom surfaces of the wiring according to the present invention is larger than the distance S100 between the bottom surfaces of the conventional wiring. Become. That is, in the present invention, the distance between the wirings can be made larger than the conventional distance at the interface of the insulating layer where the ion migration is likely to occur (the surface of the base insulating layer 12 in FIG. 4A).
Therefore, in the present invention, even if the design pitch between the pair of differential wirings (the distance between the center lines of each wiring) is reduced in order to reduce the impedance, the occurrence of the ion migration between the wirings is suppressed. can do.
In other words, the suspension substrate according to the present invention can reduce the differential impedance while suppressing the occurrence of an electrical short circuit due to the ion migration.

ここで、本発明に係るサスペンション用基板は、前記配線および前記ベース絶縁層の上にカバー絶縁層が形成されていることが好ましい。
前記配線が腐食等により劣化することを防止するためである。また、両配線の間をカバー絶縁層で埋めることにより、配線間の容量性結合の容量をより大きくすることもできるからである。
例えば、図2に示す形態の本発明に係るサスペンション用基板10においては、前記配線14a、14bおよび前記ベース絶縁層12の上にカバー絶縁層15が形成されている。
Here, in the suspension substrate according to the present invention, a cover insulating layer is preferably formed on the wiring and the base insulating layer.
This is to prevent the wiring from deteriorating due to corrosion or the like. Moreover, it is because the capacity | capacitance of the capacitive coupling between wiring can also be enlarged by burying between both wiring with a cover insulating layer.
For example, in the suspension substrate 10 according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 2, the insulating cover layer 15 is formed on the wirings 14 a and 14 b and the insulating base layer 12.

また、前記配線14a、14bと前記ベース絶縁層12との間には、図2に示す形態のように、薄膜導体13a、13bが形成されていても良い。
例えば、前記配線14a、14bを電解めっき法で形成する場合、前記ベース絶縁層12の上にはシード層として薄膜導体層が形成され、配線形成後には前記薄膜導体層の前記配線から露出する部分がエッチング除去されるが、前記薄膜導体層の前記配線下にある部分は残留する。この残留する前記薄膜導体層の部分が、例えば、前記薄膜導体13a、13bである。
前記薄膜導体13a、13bは、例えばスパッタリング法によって形成され、その材料は、例えばCu(銅)を含む金属であり、その厚さは、例えば0.05μm〜2.0μmの範囲内である。
Further, thin film conductors 13a and 13b may be formed between the wirings 14a and 14b and the insulating base layer 12 as shown in FIG.
For example, when the wirings 14a and 14b are formed by an electrolytic plating method, a thin film conductor layer is formed as a seed layer on the base insulating layer 12, and a portion exposed from the wiring of the thin film conductor layer after the wiring is formed. Is removed by etching, but the portion of the thin film conductor layer under the wiring remains. The portions of the thin film conductor layer that remain are, for example, the thin film conductors 13a and 13b.
The thin film conductors 13a and 13b are formed, for example, by sputtering, and the material thereof is, for example, a metal containing Cu (copper), and the thickness thereof is, for example, in the range of 0.05 μm to 2.0 μm.

なお、上述の説明においては、短絡防止の作用効果が特に顕著となる例として、本発明に係るサスペンション用基板の配線が差動配線である場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明に係るサスペンション用基板は、有する配線が厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えていることによって、ベース絶縁層の界面でイオンマイグレーションが生じることを抑制することができるものであればよい。   In the above description, the case where the wiring of the suspension substrate according to the present invention is a differential wiring is described as an example in which the effect of preventing a short circuit is particularly significant, but the present invention is not limited to this. The suspension substrate according to the present invention can suppress the occurrence of ion migration at the interface of the base insulating layer by providing the wiring having a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction. Anything is acceptable.

一方、本発明に係るサスペンション用基板の配線は、インターリーブ配線を構成していても良い。すなわち、本発明に係るサスペンション用基板における前記複数の配線は、互いに電気的に接続された複数の前記第1信号配線と、前記第1信号配線とは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の前記第2信号配線とを、平面的に交互配列させた構成を有していても良い。
この場合も、イオンマイグレーションによる電気的な短絡が発生することを抑制しつつ、前記差動インピーダンスをより低減することができるからである。
On the other hand, the wiring of the suspension substrate according to the present invention may constitute an interleave wiring. That is, in the suspension board according to the present invention, the plurality of wirings are electrically connected to each other, and the plurality of first signal wirings electrically connected to each other are electrically independent from each other. A plurality of the second signal wirings arranged may be alternately arranged in a plane.
Also in this case, the differential impedance can be further reduced while suppressing the occurrence of an electrical short circuit due to ion migration.

例えば、図5(b)に示すように、本発明に係るサスペンション用基板は、2本の前記第1信号配線(例えば、34aと34c)と2本の前記第2信号配線(例えば、34bと34d)とを、ベース絶縁層12の上に平面的に交互配列させた構成を有していても良い。
なお、図5(b)においては図示しないが、配線34aと配線34cは互いに電気的に接続されており、配線34bと配線34dは互いに電気的に接続されている。そして、配線34aや配線34cで構成される第1信号配線と配線34bや配線34dで構成される第2信号配線とは、互いに電気的に独立している。この各配線の電気的な接続の関係については、図6を用いて次に説明する。
For example, as shown in FIG. 5B, the suspension board according to the present invention includes two first signal wires (for example, 34a and 34c) and two second signal wires (for example, 34b). 34d) may be alternately arranged on the base insulating layer 12 in a planar manner.
Although not shown in FIG. 5B, the wiring 34a and the wiring 34c are electrically connected to each other, and the wiring 34b and the wiring 34d are electrically connected to each other. The first signal wiring constituted by the wiring 34a and the wiring 34c and the second signal wiring constituted by the wiring 34b and the wiring 34d are electrically independent from each other. The relationship of the electrical connection of each wiring will be described next with reference to FIG.

図6は、図5(b)に示すサスペンション用基板のインターリーブ配線の回路構成を示す説明図である。
図6に示すように、インターリーブ配線40は、接続端子41aと接続端子41cを電気的に接続する第1信号配線、および、接続端子41bと接続端子41dを電気的に接続する第2信号配線で構成される一対の差動配線からなり、前記第1信号配線は、分岐点42aで配線34aと配線34cに分岐し、同様に、前記第2信号配線は、分岐点42bで配線34bと配線34dに分岐し、分岐した各配線は互いに逆位相の電気信号が伝送される配線が隣になるように、図面の左端から34a、34b、34c、34dの順で並列に配設されている。
そして、同位相の電気信号が伝送される配線34a、34cは、それぞれ、接続ビア43a、43bを経由して接続線44aで電気的に接続されており、同様に、配線43b、43dは、接続ビア43c、43dを経由して接続線44bで電気的に接続されている。
例えば、本発明においては、上記の接続ビア43a、43b、43c、43dを図5(b)に示すベース絶縁層12に形成し、接続線44aおよび接続線44bを金属支持基板31の開口部36に形成することができる。
上記のように、インターリーブ配線は、一対の差動配線を分岐して交互配列することによって、分岐構造を有しない通常の差動配線よりも前記差動インピーダンスをより低減することができる。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a circuit configuration of interleave wiring of the suspension substrate shown in FIG.
As shown in FIG. 6, the interleave wiring 40 is a first signal wiring that electrically connects the connection terminal 41a and the connection terminal 41c, and a second signal wiring that electrically connects the connection terminal 41b and the connection terminal 41d. The first signal wiring is branched into a wiring 34a and a wiring 34c at a branch point 42a, and similarly, the second signal wiring is a wiring 34b and a wiring 34d at a branch point 42b. Each of the branched wirings is arranged in parallel in the order of 34a, 34b, 34c, 34d from the left end of the drawing so that the wirings for transmitting electrical signals with opposite phases are adjacent to each other.
The wirings 34a and 34c through which electrical signals of the same phase are transmitted are electrically connected by the connection line 44a via the connection vias 43a and 43b, respectively. Similarly, the wirings 43b and 43d are connected to each other. The connection line 44b is electrically connected via the vias 43c and 43d.
For example, in the present invention, the connection vias 43a, 43b, 43c, and 43d are formed in the base insulating layer 12 shown in FIG. 5B, and the connection lines 44a and 44b are formed in the openings 36 of the metal support substrate 31. Can be formed.
As described above, the interleave wiring can reduce the differential impedance more than a normal differential wiring having no branch structure by branching and alternately arranging a pair of differential wirings.

また、本発明において、前記金属支持基板には、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域と重なる位置に、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域の幅よりも大きな開口幅を有する開口部が形成されても良い。
前記配線とその下の金属支持基板が誘導もしくは容量性結合を形成することによって、高周波信号の伝送ロスが大きくなることを抑制するためである。
In the present invention, the first signal wiring and the second signal wiring are arranged on the metal supporting board at a position overlapping with a region where the first signal wiring and the second signal wiring are arranged. An opening having an opening width larger than the width of the region may be formed.
This is to prevent an increase in transmission loss of high-frequency signals due to the formation of inductive or capacitive coupling between the wiring and the underlying metal support substrate.

例えば、図5(a)に示す形態の本発明に係るサスペンション用基板20においては、金属支持基板21には、配線14aと配線14bとを配列させた領域と重なる位置に、配線14aと配線14bとを配列させた領域の幅よりも大きな開口幅を有する開口部26が形成されている。
なお、上記の「前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域の幅」とは、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた長手方向に垂直な方向の長さであって、例えば、図5(a)においては、図面上配線14aの底面の左端から配線14bの右端までの長さを指す。
For example, in the suspension substrate 20 according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 5A, the wiring 14a and the wiring 14b are disposed on the metal support substrate 21 at a position overlapping the region where the wiring 14a and the wiring 14b are arranged. An opening 26 having an opening width larger than the width of the region where the two are arranged is formed.
The “width of the region in which the first signal wiring and the second signal wiring are arranged” is a direction perpendicular to the longitudinal direction in which the first signal wiring and the second signal wiring are arranged. For example, in FIG. 5A, the length from the left end of the bottom surface of the wiring 14a on the drawing to the right end of the wiring 14b is indicated.

同様に、図5(b)に示す形態の本発明に係るサスペンション用基板30においては、金属支持基板31には、配線34a〜配線34dを配列させた領域と重なる位置に、配線34a〜配線34dを配列させた領域の幅よりも大きな開口幅を有する開口部36が形成されている。
なお、上記の「前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域の幅」とは、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた長手方向に垂直な方向の長さであって、例えば、図5(b)においては、図面上配線34aの底面の左端から配線34dの右端までの長さを指す。
Similarly, in the suspension substrate 30 according to the present invention of the form shown in FIG. 5B, the metal support substrate 31 has wirings 34a to 34d at positions overlapping the regions where the wirings 34a to 34d are arranged. An opening 36 having an opening width larger than the width of the region where the elements are arranged is formed.
The “width of the region in which the first signal wiring and the second signal wiring are arranged” is a direction perpendicular to the longitudinal direction in which the first signal wiring and the second signal wiring are arranged. For example, in FIG. 5B, the length from the left end of the bottom surface of the wiring 34a on the drawing to the right end of the wiring 34d is indicated.

次に、本発明のサスペンション用基板を構成する各部材について説明する。   Next, each member constituting the suspension substrate of the present invention will be described.

[金属支持基板]
本発明に係る金属支持基板の材料としては、サスペンション用基板の支持体として機能し、所望のばね性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、例えばステンレス鋼を挙げることができる。
金属支持基板の厚さは、例えば、10μm〜30μmの範囲内、中でも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。
[Metal support substrate]
The material for the metal support substrate according to the present invention is not particularly limited as long as it functions as a support for the suspension substrate and has a desired spring property. For example, stainless steel can be used. .
For example, the thickness of the metal supporting substrate is preferably in the range of 10 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 15 μm to 25 μm.

[ベース絶縁層]
本発明に係るベース絶縁層は、金属支持基板の表面上に形成されるものであり、ベース絶縁層の上に形成される各配線と金属支持基板とを電気的に絶縁するものである。
ベース絶縁層の材料としては、所望の絶縁性や誘電率を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばポリイミド等を挙げることができる。また、ベース絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。ベース絶縁層の厚さは、例えば、5μm〜30μmの範囲内である。
[Base insulation layer]
The insulating base layer according to the present invention is formed on the surface of the metal support substrate, and electrically insulates each wiring formed on the insulating base layer from the metal support substrate.
The material of the base insulating layer is not particularly limited as long as it has a desired insulating property and dielectric constant, and examples thereof include polyimide. The material of the base insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the base insulating layer is, for example, in the range of 5 μm to 30 μm.

[配線]
本発明に係る配線の材料としては、所望の導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。各配線は、露出する場合、その表面にニッケル(Ni)、金(Au)による保護めっき層が形成されていても良い。
[wiring]
The wiring material according to the present invention is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, and examples thereof include copper (Cu). When each wiring is exposed, a protective plating layer of nickel (Ni) or gold (Au) may be formed on the surface thereof.

配線の厚さとしては、例えば、3μm〜18μmの範囲内、中でも4μm〜15μmの範囲内であることが好ましい。配線の厚さが小さすぎると、充分な低インピーダンス化を図ることができない可能性があり、配線の厚さが大きすぎると、サスペンション用基板の剛性が高くなり過ぎる可能性があるからである。   For example, the thickness of the wiring is preferably in the range of 3 μm to 18 μm, and more preferably in the range of 4 μm to 15 μm. This is because if the wiring thickness is too small, it may not be possible to achieve a sufficiently low impedance, and if the wiring thickness is too large, the suspension substrate may become too rigid.

配線の線幅としては、例えば、10μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。配線の線幅が小さすぎると、所望の導電性を得ることができない可能性があり、配線の線幅が大きすぎると、サスペンション用基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。
本発明において、前記配線は、その厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えていればよく、この条件を満たす限り前記底面の幅の寸法については、特に限定されない。
しかしながら、前記配線を前記ベース絶縁層上に安定して形成するために、前記底面の幅は、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分の幅に対して、10%〜40%程度小さい幅であることが好ましい。
例えば、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分の幅が20μmの場合は、前記底面の幅は12μm〜18μmの範囲であることが好ましい。
The line width of the wiring is preferably in the range of 10 μm to 100 μm, for example. If the wiring line width is too small, the desired conductivity may not be obtained. If the wiring line width is too large, the suspension substrate may not be sufficiently dense. Because.
In the present invention, the wiring only needs to have a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction, and the width dimension of the bottom surface is not particularly limited as long as this condition is satisfied.
However, in order to stably form the wiring on the base insulating layer, the width of the bottom surface is 10% to 40% with respect to the width of the portion having the largest width between the top surface and the bottom surface of the wiring. Preferably, the width is as small as about%.
For example, when the width of the portion having the largest width between the upper surface and the bottom surface of the wiring is 20 μm, the width of the bottom surface is preferably in the range of 12 μm to 18 μm.

また同一平面での配線間の距離は、例えば10μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。この距離が小さすぎると、高い加工精度を要求し、コストアップ等を招くことになるため好ましくなく、一方、この距離が大きすぎると、サスペンション用基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。
本発明において、前記配線は、その厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えていればよく、この条件を満たす限り前記配線の底面間の距離については、特に限定されない。
しかしながら、上記のように、前記配線を前記ベース絶縁層上に安定して形成するために、前記底面の幅は、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分の幅に対して、10%〜40%程度小さい幅であることが好ましい。
それゆえ、例えば、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分の幅が20μmであって、その部分における配線間の距離が20μmの場合は、前記底面間の距離は22μm〜28μmの範囲であることが好ましい。
Further, the distance between the wirings on the same plane is preferably in the range of 10 μm to 30 μm, for example. If this distance is too small, it is not preferable because it requires high processing accuracy and increases costs. On the other hand, if this distance is too large, the suspension substrate may not be sufficiently dense. Because there is sex.
In the present invention, the wiring only has to have a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction, and the distance between the bottom surfaces of the wiring is not particularly limited as long as this condition is satisfied.
However, as described above, in order to stably form the wiring on the base insulating layer, the width of the bottom surface is larger than the width of the portion having the largest width between the top surface and the bottom surface of the wiring. The width is preferably about 10% to 40% smaller.
Therefore, for example, when the width of the portion having the largest width between the upper surface and the bottom surface of the wiring is 20 μm and the distance between the wirings in that portion is 20 μm, the distance between the bottom surfaces is 22 μm to 28 μm. It is preferable that it is the range of these.

[カバー絶縁層]
腐食等による劣化を防止するため、本発明に係る各配線は、カバー絶縁層で覆われていることが好ましい。また、各配線の隙間をカバー絶縁層で埋めることにより、各配線間の容量性結合の容量をより大きくすることもできる。
カバー絶縁層の材料としては、例えばポリイミド等を挙げることができる。また、カバー絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。
カバー絶縁層の厚さは、例えば、第2の配線群を構成する各配線の上で4μm〜30μmの範囲内である。
[Cover insulation layer]
In order to prevent deterioration due to corrosion or the like, each wiring according to the present invention is preferably covered with a cover insulating layer. Moreover, the capacity | capacitance of the capacitive coupling between each wiring can also be enlarged by filling the clearance gap between each wiring with a cover insulating layer.
Examples of the material for the insulating cover layer include polyimide. Further, the material of the cover insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material.
The thickness of the cover insulating layer is, for example, in the range of 4 μm to 30 μm on each wiring constituting the second wiring group.

[サスペンション用基板の製造方法]
次に、本発明のサスペンション用基板の製造方法について説明する。なお、煩雑となるのを避けるため、ここでは、各種の形態のうち上記の図5(b)に示す形態について説明する。なお、本発明のサスペンション用基板の製造方法は、上述した構成を有するサスペンション用基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。
[Method of manufacturing suspension substrate]
Next, the manufacturing method of the suspension substrate of the present invention will be described. In order to avoid complication, here, the embodiment shown in FIG. 5B will be described among various embodiments. In addition, the manufacturing method of the suspension substrate of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the suspension substrate having the above-described configuration.

図7および図8は、図5(b)に示す形態の本発明に係るサスペンション用基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。
本実施形態のサスペンション用基板30を製造するには、まず、金属支持基板材31Aの上にベース絶縁層12を形成し(図7(a))、次にスパッタリング法を用いて、ベース絶縁層12の上に薄膜導体材層33を形成する(図7(b))。
次に、薄膜導体材層33の上にレジスト層37Aを形成し(図7(c))、フォト製版技術を用いて配線となる箇所が開口されたレジストパターン37を形成する(図7(d))。
7 and 8 are schematic process diagrams showing an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention in the form shown in FIG. 5B.
In order to manufacture the suspension substrate 30 of the present embodiment, first, the base insulating layer 12 is formed on the metal supporting substrate material 31A (FIG. 7A), and then the insulating base layer is formed by sputtering. A thin film conductive material layer 33 is formed on 12 (FIG. 7B).
Next, a resist layer 37A is formed on the thin-film conductor material layer 33 (FIG. 7C), and a resist pattern 37 having openings at wiring portions is formed by using a photoengraving technique (FIG. 7D). )).

ここで、本発明においては、レジストパターン37の開口の底面の幅を、レジストパターン37の開口の他の部分の幅よりも小さくなるようにする。例えば、図7(d)に示すように、レジストパターン37の開口の底面の幅(WR1)を、レジストパターン37の開口の上面の幅(WR2)よりも小さくなるようにする。
上記のような形状の開口は、レジストの解像度や感度を調整することや、フォト製版時の露光量を制御することで形成することができる。また、現像後のレジストパターンにおいては、開口の底面の両側の側壁から、開口の底面の幅が他の部分の幅よりも小さくなるような残渣(裾引き)が形成されてしまうことがあるため、この残渣(裾引き)を意図的に利用して、上記のような形状の開口を形成しても良い。
Here, in the present invention, the width of the bottom surface of the opening of the resist pattern 37 is made smaller than the width of the other part of the opening of the resist pattern 37. For example, as shown in FIG. 7D, the width (WR1) of the bottom surface of the opening of the resist pattern 37 is made smaller than the width (WR2) of the top surface of the opening of the resist pattern 37.
The opening having the shape as described above can be formed by adjusting the resolution and sensitivity of the resist and controlling the exposure amount during photoengraving. Further, in the resist pattern after development, a residue (bottoming) may be formed from the side walls on both sides of the bottom surface of the opening so that the width of the bottom surface of the opening is smaller than the width of the other part. The opening having the above shape may be formed by intentionally using this residue (bottoming).

次に、薄膜導体材層33をシード層に用いた電解めっき法により、レジストパターン37の開口に配線34a、34b、34c、34dを形成し(図7(e))、その後、レジストパターン37を剥離除去し(図(f))、配線34a、34b、34c、34dで覆われた部分(薄膜導体33a、33b、33c、33dとなる部分)以外の露出する薄膜導体材層33をエッチング除去する(図(g))。
次いで、配線34a、34b、34c、34dを被覆するようにカバー絶縁層15を形成し(図(h))、最後に、金属支持基板材31Aをエッチングして開口部36を有する金属支持基板31を形成して、本実施形態に係るサスペンション用基板30を得る(図(i))。
Next, wirings 34a, 34b, 34c, and 34d are formed in the openings of the resist pattern 37 by electrolytic plating using the thin film conductor material layer 33 as a seed layer (FIG. 7E), and then the resist pattern 37 is formed. Stripping and removing (FIG. 8 (f)), and etching and removing the exposed thin film conductor material layer 33 other than the portions covered with the wirings 34a, 34b, 34c, and 34d (portions that become the thin film conductors 33a, 33b, 33c, and 33d) (FIG. 8 (g)).
Then, the wiring 34a, 34b, 34c, to form the insulating cover layer 15 to cover the 34d (FIG. 8 (h)), Finally, the metal supporting board having an opening 36 by etching the metal supporting board member 31A 31 is formed to give a suspension substrate 30 according to this embodiment (FIG. 8 (i)).

なお、煩雑となるのを避けるため図示はしないが、本発明においては、例えば、上記の図6に示した接続ビア43a、43b、43c、43dをベース絶縁層12に形成し、接続線44aおよび接続線44bを金属支持基板31の開口部36に形成することができる。   Although not shown in order to avoid complication, in the present invention, for example, the connection vias 43a, 43b, 43c, and 43d shown in FIG. 6 are formed in the base insulating layer 12, and the connection lines 44a and 44a are formed. The connection line 44 b can be formed in the opening 36 of the metal support substrate 31.

[サスペンション]
次に、本発明に係るサスペンションについて説明する。本発明に係るサスペンションは、上述した本発明に係るサスペンション用基板と、ロードビームとを含むことを特徴とするものである。
[suspension]
Next, the suspension according to the present invention will be described. The suspension according to the present invention includes the above-described suspension substrate according to the present invention and a load beam.

図9は、本発明に係るサスペンションの一例を示す概略平面図である。図9に示されるサスペンション50は、上述したサスペンション用基板1と、サスペンション用基板1の裏面側(金属支持基板側)に備え付けられたロードビーム51、及びベースプレート(図示せず)とを有するものである。ロードビーム、及びベースプレートは、一般的なサスペンションに用いられるロードビーム、ベースプレートと同様のものを用いることができる。   FIG. 9 is a schematic plan view showing an example of a suspension according to the present invention. A suspension 50 shown in FIG. 9 includes the suspension substrate 1 described above, a load beam 51 provided on the back surface side (metal support substrate side) of the suspension substrate 1, and a base plate (not shown). is there. The load beam and the base plate can be the same as the load beam and base plate used for a general suspension.

本発明においては、上述した本発明に係るサスペンション用基板を用いることで、低インピーダンスでありながら短絡の発生を抑制した信頼性の高いサスペンションとすることができる。   In the present invention, by using the above-described suspension substrate according to the present invention, it is possible to obtain a highly reliable suspension that has low impedance and suppresses occurrence of a short circuit.

[ヘッド付サスペンション]
次に、本発明に係るヘッド付サスペンションについて説明する。本発明に係るヘッド付サスペンションは、上述した本発明に係るサスペンションと、該サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有するものである。
[Suspension with head]
Next, the suspension with a head according to the present invention will be described. A suspension with a head according to the present invention includes the suspension according to the present invention described above and a magnetic head slider mounted on the suspension.

図10は、本発明に係るヘッド付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図10に示されるヘッド付サスペンション60は、上述したサスペンション50と、サスペンション50のタング部2に実装された磁気ヘッドスライダ61とを有するものである。   FIG. 10 is a schematic plan view showing an example of a suspension with a head according to the present invention. A suspension 60 with a head shown in FIG. 10 has the above-described suspension 50 and a magnetic head slider 61 mounted on the tongue 2 of the suspension 50.

なお、サスペンション50については、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、磁気ヘッドスライダ61は、一般的なヘッド付サスペンションに用いられる磁気ヘッドスライダと同様のものを用いることができる。   Since the suspension 50 is the same as described above, the description thereof is omitted here. The magnetic head slider 61 can be the same as the magnetic head slider used in a general suspension with a head.

本発明によれば、上述した本発明に係るサスペンション用基板を用いることで、低インピーダンスでありながら短絡の発生を抑制した信頼性の高いヘッド付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension substrate according to the present invention described above, it is possible to obtain a highly reliable suspension with a head that has a low impedance and suppresses occurrence of a short circuit.

[ハードディスクドライブ]
次に、本発明に係るハードディスクドライブについて説明する。本発明に係るハードディスクドライブは、上述した本発明に係るヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
[Hard disk drive]
Next, the hard disk drive according to the present invention will be described. A hard disk drive according to the present invention includes the suspension with a head according to the present invention described above.

図11は、本発明に係るハードディスクドライブの一例を示す概略斜視図である。
図11に示されるハードディスクドライブ70は、ケース71と、このケース71に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク72と、このディスク72を回転させるスピンドルモータ73と、ディスク72に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク72に対してデータの書き込みおよび読み込みを行うスライダを含むヘッド付サスペンション60とを有している。このうちヘッド付サスペンション60は、ケース71に対して移動自在に取り付けられ、ケース71にはヘッド付サスペンション60のスライダをディスク72上に沿って移動させるボイスコイルモータ74が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション60は、ボイスコイルモータ74にアーム75を介して取り付けられている。
FIG. 11 is a schematic perspective view showing an example of a hard disk drive according to the present invention.
A hard disk drive 70 shown in FIG. 11 has a case 71, a disk 72 that is rotatably attached to the case 71 and stores data, a spindle motor 73 that rotates the disk 72, and a desired flying on the disk 72. It has a suspension 60 with a head that is provided so as to be close to each other while maintaining a height and that includes a slider for writing and reading data to and from the disk 72. Of these, the suspension 60 with a head is movably attached to the case 71, and a voice coil motor 74 that moves the slider of the suspension 60 with a head along the disk 72 is attached to the case 71. The head suspension 60 is attached to the voice coil motor 74 via an arm 75.

なお、ヘッド付サスペンションについては、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   Note that the suspension with a head is the same as that described above, so description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

本発明によれば、上述したヘッド付サスペンションを用いることで、より高機能化され、信頼性の高いハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension with a head, it is possible to obtain a hard disk drive with higher functionality and higher reliability.

以上、本発明に係るサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブについて説明してきたが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The suspension substrate, suspension, suspension with head, and hard disk drive according to the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

1、10、20、30・・・サスペンション用基板
2・・・タング部
3・・・接続端子部
4、5・・・配線群
11、21、31・・・金属支持基板
12・・・ベース絶縁層
13a、13b・・・薄膜導体
14a、14b・・・配線
15・・・カバー絶縁層
26、36・・・開口部
31A・・・金属支持基板材
33・・・薄膜導体材層
33a、33b、33c、33d・・・薄膜導体
34a、34b、34c、34d・・・配線
37A・・・レジスト層
37・・・レジストパターン
40・・・インターリーブ配線
41a、41b、41c、41d・・・接続端子
42a、42b・・・分岐点
43a、43b、43c、43d・・・接続ビア
44a、44b・・・接続線
50・・・サスペンション
51・・・ロードビーム
60・・・ヘッド付サスペンション
61・・・磁気ヘッドスライダ
70・・・ハードディスクドライブ
71・・・ケース
72・・・ディスク
73・・・スピンドルモータ
74・・・ボイスコイルモータ
75・・・アーム
100、200・・・サスペンション用基板
111、211・・・金属支持基板
112、212・・・ベース絶縁層
114・・・配線材層
114a、114b、214a、214b・・・配線
115・・・カバー絶縁層
117、217・・・レジストパターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 10, 20, 30 ... Suspension board 2 ... Tongue part 3 ... Connection terminal part 4, 5 ... Wiring group 11, 21, 31 ... Metal support board 12 ... Base Insulating layer 13a, 13b ... Thin film conductor 14a, 14b ... Wiring 15 ... Cover insulating layer 26, 36 ... Opening 31A ... Metal support substrate material 33 ... Thin film conductor material layer 33a, 33b, 33c, 33d ... Thin film conductors 34a, 34b, 34c, 34d ... Wiring 37A ... Resist layer 37 ... Resist pattern 40 ... Interleaved wiring 41a, 41b, 41c, 41d ... Connection Terminal 42a, 42b ... Branch point 43a, 43b, 43c, 43d ... Connection via 44a, 44b ... Connection line 50 ... Suspension 51 ... Load beam 60. -Suspension with head 61-Magnetic head slider 70-Hard disk drive 71-Case 72-Disk 73-Spindle motor 74-Voice coil motor 75-Arm 100, 200 Suspension substrate 111, 211 ... Metal support substrate 112, 212 ... Base insulating layer 114 ... Wiring material layer 114a, 114b, 214a, 214b ... Wiring 115 ... Cover insulating layer 117, 217 ... Resist patterns

Claims (6)

金属支持基板上に形成されたベース絶縁層の上に複数の配線が形成されているサスペンション用基板であって、
前記ベース絶縁層の上にカバー絶縁層が形成されており、
前記配線は、厚み方向において底面の幅よりも大きい幅を有する部分を備えており、
前記複数の配線が、互いに電気的に接続された複数の第1信号配線と、前記第1信号配線とは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の第2信号配線とを、平面的に交互に並行配列させた構成を有しており、
前記底面の幅は、前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分の幅に対して、10%〜40%小さい幅であり、
前記配線の上面から底面の間で最も大きい幅を有する部分が、前記配線の胴部に存在し、前記配線の底面から前記配線の前記最も大きい幅を有する部分までの間の配線幅が徐々に大きくなり、前記配線の前記最も大きい幅を有する部分から前記配線の上面までの間の配線幅が徐々に小さくなる形態を有することを特徴とするサスペンション用基板。
A suspension substrate in which a plurality of wirings are formed on a base insulating layer formed on a metal support substrate,
A cover insulating layer is formed on the base insulating layer,
The wiring includes a portion having a width larger than the width of the bottom surface in the thickness direction,
A plurality of first signal wirings in which the plurality of wirings are electrically connected to each other; and a plurality of second signal wirings that are electrically independent from each other and electrically connected to each other. It has a configuration that is arranged alternately in parallel on a plane,
The width of the bottom surface, the width of the portion with the largest width between the bottom surface from the top surface of the wiring, Ri 10% to 40% less width der,
A portion having the largest width between the top surface and the bottom surface of the wiring is present in the body portion of the wiring, and the wiring width between the bottom surface of the wiring and the portion having the largest width of the wiring is gradually increased. A suspension substrate having a configuration in which the wiring width between the portion having the largest width of the wiring and the upper surface of the wiring is gradually reduced .
前記配線の上に前記カバー絶縁層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。 The suspension substrate according to claim 1 , wherein the insulating cover layer is formed on the wiring. 前記金属支持基板には、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域と重なる位置に、前記第1信号配線と前記第2信号配線とを配列させた領域の幅よりも大きな開口幅を有する開口部が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション用基板。   The metal support substrate has a width that overlaps with a region where the first signal wiring and the second signal wiring are arranged, and is wider than a width of a region where the first signal wiring and the second signal wiring are arranged. The suspension substrate according to claim 1, wherein an opening having a large opening width is formed. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のサスペンション用基板と、ロードビームとを含むことを特徴とするサスペンション。   A suspension comprising the suspension substrate according to any one of claims 1 to 3 and a load beam. 請求項4に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンション。   A suspension with a head comprising the suspension according to claim 4 and a magnetic head slider mounted on the suspension. 請求項5に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 5.
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