JP2012089204A - Flexure substrate with wiring, method for manufacturing flexure substrate with wiring, flexure with wiring, flexure with wiring with element and hard disk drive - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexure substrate with wiring which has no disconnection failure and can be easily formed.SOLUTION: The flexure substrate with wiring has: a laminated wiring formation part having a first insulator layer, a first conductor layer formed on the first insulator layer, a second insulator layer formed on the first conductor layer, and a second conductor layer formed on the second insulator layer so as to overlap the first conductor layer in a thickness direction; and a terminal formation part formed at an end part of the wiring formation part to have a first terminal part arranged on the first insulator layer to be connected to the first conductor layer, and a second terminal part arranged on the first insulator layer to be connected to the second conductor layer. In the flexure substrate with wiring, a pillow part made of the same material as that of the first conductor layer and insulated from the first conductor layer is formed a connection region for connecting the second conductor layer and the second terminal part, and the second conductor layer and the second terminal are connected through a pillow part conductor layer formed on the pillow part.

Description

本発明は、断線不良がなく、容易に形成可能な配線付フレキシャー基板に関するものである。   The present invention relates to a flexure substrate with wiring that can be easily formed without disconnection failure.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。そのため、HDDに用いられる配線付フレキシャー基板(フレキシャー)にも高機能化が求められている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required. Therefore, higher functionality is also required for the flexure substrate with wiring (flexure) used in the HDD.

配線付フレキシャー基板は、通常、一対の配線からなるリード配線と、同じく一対の配線からなるライト配線を有する。このような一対の配線は、従来、絶縁層の同一表面上に形成されていた。これに対して、配線の高密度化やインピーダンスの低下を目的として、一対の配線における一方の配線と他方の配線とを、絶縁層を介して積層した配線付フレキシャー基板が知られている(特許文献1の図9)。   The flexure substrate with wiring usually has a lead wiring composed of a pair of wirings and a write wiring composed of a pair of wirings. Conventionally, such a pair of wirings has been formed on the same surface of the insulating layer. On the other hand, a flexure substrate with wiring is known in which one wiring and the other wiring of a pair of wirings are laminated via an insulating layer for the purpose of increasing the density of wiring and lowering impedance (patent) Reference 1 FIG. 9).

このような配線付フレキシャー基板は、一方の配線と、他方の配線とが、絶縁層を介して積層されているが、外部回路との接続を行う端子形成部においては、接続容易性の観点から、両配線が同一平面上に形成されていることが好ましい。そのため、端子形成部の近傍において、上側の配線の高さを、下側の配線の高さに揃えることが行われている。
しかしながら、単に上側の配線を下側の配線の高さに揃えた場合、例えば、上側の配線を90°の角度で、下側の配線の位置まで降ろした場合には、その配線の角に応力が集中し断線等が生じる可能性があるといった問題があった。
このような問題に対して、特許文献2においては、一対の配線である第1導体層(上側の配線)および第2導体層(下側の配線)が第2絶縁層を介して配置された配線形成部から上記第2導体層が上記第1導体層と同じ高さに配置された端子形成部までの間の接続領域において、上記第2絶縁層を徐々に高さが低くなる傾斜構造(スロープ)を有するものとすることが開示されている。このような方法によれば、上記配線に角が形成されないため、断線等を効果的に防ぐことができる。
しかしながら、このようなスロープを有する絶縁層を形成するには、感光性材料からなる絶縁層に限定し、さらに、階調マスクを用いて露光する等の複雑な工程が必要になるといった問題があった。
また、上記スロープの傾斜角度を精度良く形成することが困難であり、例えば、上記スロープの傾斜角度にばらつきが生じる結果、平面視上、上記上側の配線を下側の配線の位置まで降ろすために要する距離(引き降ろし距離)にばらつきが生じるといった問題があった。
In such a flexure substrate with wiring, one wiring and the other wiring are laminated via an insulating layer. However, in the terminal forming portion that connects to an external circuit, from the viewpoint of easy connection Both wirings are preferably formed on the same plane. Therefore, in the vicinity of the terminal forming portion, the height of the upper wiring is made equal to the height of the lower wiring.
However, when the upper wiring is simply aligned with the lower wiring, for example, when the upper wiring is lowered to the position of the lower wiring at an angle of 90 °, stress is applied to the corner of the wiring. There has been a problem that there is a possibility that disconnection or the like may occur due to concentration.
For such a problem, in Patent Document 2, a first conductor layer (upper wiring) and a second conductor layer (lower wiring), which are a pair of wirings, are arranged via a second insulating layer. In the connection region between the wiring formation portion and the terminal formation portion where the second conductor layer is disposed at the same height as the first conductor layer, the inclined structure in which the height of the second insulating layer gradually decreases ( It is disclosed that it has a slope. According to such a method, since no corner is formed in the wiring, disconnection or the like can be effectively prevented.
However, in order to form an insulating layer having such a slope, there is a problem that it is limited to an insulating layer made of a photosensitive material, and further, a complicated process such as exposure using a gradation mask is required. It was.
In addition, it is difficult to accurately form the slope angle of the slope.For example, in order to bring down the upper wiring to the position of the lower wiring in plan view as a result of variations in the slope inclination angle. There was a problem that the required distance (pulling down distance) varied.

特開2004−133988号公報JP 2004-133888 A 特開2009−129490号公報JP 2009-129490 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、断線不良がなく、容易に形成可能な配線付フレキシャー基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a flexure substrate with wiring that can be easily formed without disconnection failure.

上記課題を解決するために、本発明は、第1絶縁層と、上記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、上記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、上記第2絶縁層上に上記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の配線形成部、ならびに上記配線形成部の端部に形成され、上記第1絶縁層上に配置され、上記第1導体層と接続する第1端子部、および上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と接続する第2端子部を有する端子形成部、を有する配線付フレキシャー基板であって、上記第2導体層と上記第2端子部とを接続する接続領域では、上記第1導体層と同一材料で形成され、第1導体層とは絶縁されている枕部が形成されており、上記第2導体層と上記第2端子部とは、上記枕部上に形成された枕部導体層を介して接続されていることを特徴とする配線付フレキシャー基板を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a first insulating layer, a first conductor layer formed on the first insulating layer, a second insulating layer formed on the first conductor layer, A laminated wiring forming portion having a second conductor layer formed on the second insulating layer so as to overlap the first conductor layer in the thickness direction, and formed at an end of the wiring forming portion; A terminal having a first terminal portion disposed on the first insulating layer and connected to the first conductor layer, and a second terminal portion disposed on the first insulating layer and connected to the second conductor layer. A wiring flexure substrate having a forming portion, wherein the connection region connecting the second conductor layer and the second terminal portion is formed of the same material as the first conductor layer, An insulated pillow portion is formed, and the second conductor layer and the second terminal portion include the pillow To provide a wiring with flexible substrate, characterized in that connected via a pillow portion conductive layer formed thereon.

本発明によれば、上記枕部を有することにより、上記第2導体層から上記第2端子部までの上側の配線を2回の段差の階段形状を有するもの、すなわち、2つの角を有するものとすることができる。このため、従来の1回の段差形状の上側の配線の場合と比較し、一つの角に加わる応力を分散することができ、断線等の発生を防ぐことができる。また、上記枕部により上記接続領域の機械的強度が向上することからも、断線等の発生を防ぐことができる。
また、上記枕部は上記第1導体層と同一の材料からなるものであるため、上記第1導体層と同時に形成することができる。このため、上記枕部を形成容易なものとすることができる。さらに、上記枕部は特許文献1に示すようなスロープを含まないため、所望の長さ、すなわち、所望の引き降ろし距離の枕部を精度良く形成することができる。
このように、上記枕部を有することにより、断線不良がなく、容易に形成可能なものとすることができる。
According to the present invention, by having the pillow portion, the upper wiring from the second conductor layer to the second terminal portion has a stepped shape with two steps, that is, has two corners. It can be. For this reason, compared with the case of the upper wiring of the conventional stepped shape, the stress applied to one corner can be dispersed, and the occurrence of disconnection or the like can be prevented. Moreover, since the mechanical strength of the connection region is improved by the pillow portion, it is possible to prevent the occurrence of disconnection or the like.
Moreover, since the said pillow part consists of the same material as the said 1st conductor layer, it can form simultaneously with the said 1st conductor layer. For this reason, the pillow part can be easily formed. Furthermore, since the pillow part does not include a slope as shown in Patent Document 1, it is possible to accurately form a pillow part having a desired length, that is, a desired pull-down distance.
Thus, by having the said pillow part, there can be no disconnection defect and it can be formed easily.

本発明においては、上記枕部が上記端子形成部内にも形成され、かつ、上記端子形成部内に溝部を有するものであり、上記溝部に上記第2端子部が配置されていることが好ましい。上記第2端子部をはんだとの接続信頼性に優れたものとすることができるからである。   In this invention, it is preferable that the said pillow part is also formed in the said terminal formation part, and has a groove part in the said terminal formation part, and the said 2nd terminal part is arrange | positioned in the said groove part. This is because the second terminal portion can be excellent in connection reliability with solder.

本発明においては、上記第1端子部が、第1端子部金属層および上記第1端子部金属層上に形成された第3導体層を有し、上記第3導体層が、上記第2端子部と同一の材料からなり、かつ、上記第2端子部と絶縁されているものであることが好ましい。上記枕部が上記端子形成部に形成される場合において、上記枕部上に形成される枕部導体層の高さと上記第1端子部の高さとを揃えることができ、上記端子形成部におけるはんだ接続を容易なものとすることができるからである。   In the present invention, the first terminal portion has a first terminal portion metal layer and a third conductor layer formed on the first terminal portion metal layer, and the third conductor layer is the second terminal. Preferably, it is made of the same material as the portion and is insulated from the second terminal portion. When the pillow part is formed in the terminal forming part, the height of the pillow conductor layer formed on the pillow part and the height of the first terminal part can be aligned, and the solder in the terminal forming part can be aligned. This is because the connection can be made easy.

本発明においては、上記第1端子部金属層に溝部が形成されていることが好ましい。上記第1端子部に溝部を有するものとすることができ、はんだののりに優れたものとすることができるからである。   In the present invention, it is preferable that a groove is formed in the first terminal metal layer. This is because the first terminal portion can have a groove portion and can be excellent in soldering.

本発明は、配線付フレキシャー基板を含むことを特徴とする配線付フレキシャーを提供する。   The present invention provides a flexure with wiring, including a flexure substrate with wiring.

本発明によれば、上述した配線付フレキシャー基板を用いることで、接続安定性に優れた配線付フレキシャーとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described flexure substrate with wiring, a flexure with wiring excellent in connection stability can be obtained.

また、本発明においては、上述した配線付フレキシャーと、上記配線付フレキシャーの素子実装領域に実装された素子と、を有することを特徴とする素子付配線付フレキシャーを提供する。   According to the present invention, there is provided a flexure with wiring, which has the above-described flexure with wiring, and an element mounted in an element mounting region of the flexure with wiring.

本発明によれば、上述した配線付フレキシャーを用いることで、接続安定性に優れた素子付配線付フレキシャーとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described flexure with wiring, a flexure with wiring with an element excellent in connection stability can be obtained.

また、本発明においては、上述した素子付配線付フレキシャーを含むことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive including the above-described wiring-attached flexure with elements.

本発明によれば、上述した素子付配線付フレキシャーを用いることで、安定性に優れたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive having excellent stability can be obtained by using the above-described flexure with wiring with elements.

本発明は、第1絶縁層と、上記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、上記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、上記第2絶縁層上に上記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の配線形成部、ならびに上記配線形成部の端部に形成され、上記第1絶縁層上に配置され、上記第1導体層と接続する第1端子部、および上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と接続する第2端子部を有する端子形成部、を有し、上記第2導体層と上記第2端子部とを接続する接続領域では、上記第1導体層と同一材料で形成され、第1導体層とは絶縁されている枕部が形成されており、上記第2導体層と上記第2端子部とは、上記枕部上に形成された枕部導体層を介して接続されている配線付フレキシャー基板の製造方法であって、上記枕部、上記第1導体層および第1端子部に含まれる第1端子部金属層を同時に形成する枕部形成工程を有することを特徴とする配線付フレキシャー基板の製造方法を提供する。   The present invention provides a first insulating layer, a first conductor layer formed on the first insulating layer, a second insulating layer formed on the first conductor layer, and the second insulating layer on the second insulating layer. A multilayer wiring forming portion having a first conductor layer and a second conductor layer formed so as to overlap in the thickness direction, and an end portion of the wiring forming portion, on the first insulating layer; A first terminal portion disposed and connected to the first conductor layer, and a terminal forming portion disposed on the first insulating layer and having a second terminal portion connected to the second conductor layer, and In the connection region that connects the second conductor layer and the second terminal portion, a pillow portion that is formed of the same material as the first conductor layer and is insulated from the first conductor layer is formed. The two conductor layers and the second terminal part are connected to each other through a pillow part conductor layer formed on the pillow part. A shear board manufacturing method comprising a pillow part forming step of simultaneously forming a first terminal part metal layer included in the pillow part, the first conductor layer, and the first terminal part. A method for manufacturing a substrate is provided.

本発明によれば、上記枕部形成工程を有することにより、上記枕部を容易に形成することができる。このため、断線不良のない配線付フレキシャー基板を容易に形成することができる。   According to this invention, the said pillow part can be easily formed by having the said pillow part formation process. For this reason, it is possible to easily form a flexure substrate with wiring having no disconnection failure.

本発明は、断線不良がなく、容易に形成可能な配線付フレキシャー基板を提供できるといった効果を奏する。   The present invention has an effect of providing a flexure substrate with wiring that can be easily formed without disconnection failure.

本発明の配線付フレキシャー基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the flexure board | substrate with wiring of this invention. 本発明における端子形成部およびその近傍の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the terminal formation part in this invention, and its vicinity. 図2のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 図2のB−B線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line B-B in FIG. 2. 図2のC−C線断面図である。It is CC sectional view taken on the line of FIG. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における枕部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the pillow part in this invention. 本発明における枕部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the pillow part in this invention. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における端子形成部およびその近傍の他の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other example of the terminal formation part in the present invention and its vicinity. 本発明における配線形成部の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the wiring formation part in this invention. 本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the flexure board | substrate with wiring of this invention. 図19のI−I線断面図である。It is the II sectional view taken on the line of FIG. 本発明の配線付フレキシャーの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the flexure with wiring of this invention. 本発明の素子付配線付フレキシャーの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the flexure with an element | device wiring of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention.

本発明は、配線付フレキシャー基板、それを用いた配線付フレキシャー、素子付配線付フレキシャーおよびハードディスクドライブ、ならびにその製造方法に関するものである。
以下、本発明の配線付フレキシャー基板、配線付フレキシャー基板の製造方法、配線付フレキシャー、素子付配線付フレキシャーおよびハードディスクドライブについて詳細に説明する。
The present invention relates to a flexure substrate with wiring, a flexure with wiring using the same, a flexure with wiring with elements and a hard disk drive, and a manufacturing method thereof.
Hereinafter, the flexure substrate with wiring, the manufacturing method of the flexure substrate with wiring, the flexure with wiring, the flexure with wiring with elements, and the hard disk drive of the present invention will be described in detail.

A.配線付フレキシャー基板
まず、本発明の配線付フレキシャー基板について説明する。
本発明の配線付フレキシャー基板は、第1絶縁層と、上記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、上記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、上記第2絶縁層上に上記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の配線形成部、ならびに上記配線形成部の端部に形成され、上記第1絶縁層上に配置され、上記第1導体層と接続する第1端子部、および上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と接続する第2端子部を有する端子形成部、を有するものであって、上記第2導体層と上記第2端子部とを接続する接続領域では、上記第1導体層と同一材料で形成され、第1導体層とは絶縁されている枕部が形成されており、上記第2導体層と上記第2端子部とは、上記枕部上に形成された枕部導体層を介して接続されていることを特徴とするものである。
A. First, the flexure substrate with wiring of the present invention will be described.
The flexure substrate with wiring of the present invention includes a first insulating layer, a first conductor layer formed on the first insulating layer, a second insulating layer formed on the first conductor layer, and the second insulating layer. A laminated wiring forming portion having a second conductor layer formed on the insulating layer so as to overlap with the first conductor layer in the thickness direction; and an end portion of the wiring forming portion. A first terminal portion disposed on one insulating layer and connected to the first conductor layer; and a terminal forming portion having a second terminal portion disposed on the first insulating layer and connected to the second conductor layer; A pillow portion that is formed of the same material as the first conductor layer and is insulated from the first conductor layer in the connection region that connects the second conductor layer and the second terminal portion. The second conductor layer and the second terminal portion are formed on the pillow portion. And it is characterized in that it is connected through the body layer.

このような本発明の配線付フレキシャー基板について図を参照して説明する。図1は、本発明の配線付フレキシャー基板の一例を示す概略平面図である。図1に示される配線付フレキシャー基板10は、一方の先端部分に形成された素子実装領域(ジンバル部)20と、他方の先端部分に形成された外部端子形成部21と、上記外部端子形成部21およびジンバル部20を接続する一対の配線3(ライト配線3xおよびリード配線3y)と、上記ジンバル部20周辺において形成され、上記ジンバル部20に実装される素子と接続される端子形成部11とを有するものである。
また、図2は、図1のジンバル部20周辺において形成され、上記ジンバル部20に実装される素子と接続される端子形成部11およびその近傍を示す概略平面図である。また、図3は、図2のA−A線断面図であり、図4は、図2のB−B線断面図である。図5は、図2のC−C線断面図である。
さらに、図6および図7は、図1の外部端子形成部21において外部回路基板と接続される端子形成部11およびその近傍を示す概略断面図である。
Such a flexure substrate with wiring of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a flexure substrate with wiring according to the present invention. A flexure substrate with wiring 10 shown in FIG. 1 includes an element mounting region (gimbal portion) 20 formed at one tip portion, an external terminal forming portion 21 formed at the other tip portion, and the external terminal forming portion. 21 and a pair of wirings 3 (write wiring 3x and read wiring 3y) for connecting the gimbal part 20, and a terminal forming part 11 formed around the gimbal part 20 and connected to an element mounted on the gimbal part 20. It is what has.
FIG. 2 is a schematic plan view showing the terminal forming portion 11 formed in the periphery of the gimbal portion 20 of FIG. 1 and connected to the element mounted on the gimbal portion 20 and the vicinity thereof. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.
6 and 7 are schematic sectional views showing the terminal forming portion 11 connected to the external circuit board in the external terminal forming portion 21 of FIG. 1 and the vicinity thereof.

図1〜図7に例示するように、本発明の配線付フレキシャー基板10は、上記第1導体層3aおよび第2導体層3bを有する積層型の配線形成部14と、上記配線形成部14の端部に形成され、上記第1端子部3a´および第2端子部3b´を有する端子形成部11と、上記配線形成部14および端子形成部11の間に形成され、上記第2導体層3bおよび第2端子部3b´を接続する接続領域12と、を有するものである。
上記配線形成部14では、図5に示すように、金属基板1と、上記金属基板1上に形成された第1絶縁層2aと、上記第1絶縁層2a上に形成された第1導体層3aと、上記第1導体層3a上に形成された第2絶縁層2bと、上記第2絶縁層2b上に上記第1導体層3aと厚さ方向において重複するように形成された第2導体層3bと、上記第2導体層3bを覆うように形成されたカバー層5と、を有するものである。
上記第1端子部3a´は、図4および図7に示すように、上記第1絶縁層2a上に配置され、上記第1導体層3aと接続する第2端子部金属層3aaからなるものであり、上記第2端子部3b´は、図3に示すように、上記第1絶縁層2a上に配置され、上記第2導体層3bと接続する第2端子部金属層3bbからなるものである。
上記接続領域12では、図3および図6に示すように、上記第1導体層3aと同一材料で形成され、上記第1導体層3aとは絶縁されている枕部4が形成されており、上記第2導体層3bと上記第2端子部3b´とは、上記枕部4上に形成された枕部導体層3b´´を介して接続され、上記第2導体層3bから上記第2端子部3b´までの上側の配線の形状が、上記第2導体層3bおよび枕部導体層3b´´の段差と、上記枕部導体層3b´´および第2端子部3b´の段差の2回の段差の階段形状を有するものである。
As illustrated in FIG. 1 to FIG. 7, the flexure substrate with wiring 10 according to the present invention includes a laminated wiring forming portion 14 having the first conductor layer 3 a and the second conductor layer 3 b, and the wiring forming portion 14. Formed between the terminal forming part 11 formed at the end and having the first terminal part 3a ′ and the second terminal part 3b ′ and the wiring forming part 14 and the terminal forming part 11, the second conductor layer 3b And a connection region 12 for connecting the second terminal portion 3b '.
In the wiring forming portion 14, as shown in FIG. 5, the metal substrate 1, the first insulating layer 2a formed on the metal substrate 1, and the first conductor layer formed on the first insulating layer 2a. 3a, a second insulating layer 2b formed on the first conductor layer 3a, and a second conductor formed on the second insulating layer 2b so as to overlap the first conductor layer 3a in the thickness direction. It has the layer 3b and the cover layer 5 formed so that the said 2nd conductor layer 3b might be covered.
As shown in FIGS. 4 and 7, the first terminal portion 3 a ′ is disposed on the first insulating layer 2 a and includes a second terminal portion metal layer 3 aa connected to the first conductor layer 3 a. As shown in FIG. 3, the second terminal portion 3b 'is composed of a second terminal portion metal layer 3bb disposed on the first insulating layer 2a and connected to the second conductor layer 3b. .
In the connection region 12, as shown in FIGS. 3 and 6, a pillow portion 4 formed of the same material as the first conductor layer 3 a and insulated from the first conductor layer 3 a is formed. The second conductor layer 3b and the second terminal portion 3b ′ are connected via a pillow portion conductor layer 3b ″ formed on the pillow portion 4, and the second conductor layer 3b to the second terminal. The shape of the upper wiring up to the portion 3b ′ is twice the step between the second conductor layer 3b and the pillow portion conductor layer 3b ″ and the step between the pillow portion conductor layer 3b ″ and the second terminal portion 3b ′. It has a stepped shape of a step.

なお、図2〜図7において、上記配線(ライト配線およびリード配線)は、それぞれ、上記第1導体層および第2導体層から構成される一対の配線である。また、上記配線形成部14および接続領域12の間である中間部13において、上記第1導体層3aおよび第2導体層3bが、上記端子形成部11に向かうために平面視上分岐している。さらに、上記絶縁層と導体層の間に形成されたシード層6、上記シード層および絶縁層の間に形成された拡散防止層7、上記導体層のうちカバー層により被覆されていない露出した表面に形成された配線めっき層8をするものである。また、図2においては、説明の容易のため、カバー層および配線めっき層の記載を省略するものである。
また、図6および図7においては、第1および第2端子部の端子端にもカバー層5が形成されている。
2 to 7, the wirings (write wiring and read wiring) are a pair of wirings constituted by the first conductor layer and the second conductor layer, respectively. Further, in the intermediate portion 13 between the wiring forming portion 14 and the connection region 12, the first conductor layer 3 a and the second conductor layer 3 b are branched in plan view in order to go to the terminal forming portion 11. . Furthermore, the seed layer 6 formed between the insulating layer and the conductor layer, the diffusion prevention layer 7 formed between the seed layer and the insulating layer, and the exposed surface of the conductor layer that is not covered by the cover layer The wiring plating layer 8 is formed on the substrate. In FIG. 2, the description of the cover layer and the wiring plating layer is omitted for ease of explanation.
6 and 7, the cover layer 5 is also formed at the terminal ends of the first and second terminal portions.

本発明によれば、上記枕部を有することにより、上記第2導体層から上記第2端子部までの上側の配線の形状を上記第2導体層および枕部導体層の段差と、上記枕部導体層および第2端子部の段差との2回の段差の階段形状を有するものとすることができる。
このため、上記上側の配線を上記第2絶縁層上から上記第1絶縁層上に降ろすまでに、2つの角を有するものとすることができる。その結果、従来の1回の段差形状の上側の配線の場合と比較し、一つの角に加わる応力を分散することができ、断線等の発生を防ぐことができる。また、上記枕部により上記接続領域の機械的強度が向上することからも、断線等の発生をより効果的に防ぐことができる。
また、上記枕部は上記第1導体層と同一の材料からなるものであるため、上記第1導体層と同時に形成することができる。このため、上記枕部形成のために別途工程を追加する必要や、上記特許文献1のように、感光性材料の使用や諧調マスクを使用した露光等の複雑な工程を不要なものとすることができる。したがって、上記枕部を形成容易なものとすることができる。
さらに、上記枕部は特許文献1に示すようなスロープを含まないため、所望の長さ、すなわち、所望の引き降ろし距離に精度良く形成することが容易であり、このような枕部上に形成される枕部導体層についてもパターン精度に優れたものとすることができる。
このように、上記枕部を有することにより、断線不良がなく、容易に形成可能なものとすることができる。
According to this invention, by having the said pillow part, the shape of the upper wiring from the said 2nd conductor layer to the said 2nd terminal part is made into the level | step difference of the said 2nd conductor layer and the pillow part conductor layer, and the said pillow part The conductor layer and the second terminal portion may have a two-step step shape.
For this reason, it is possible to have two corners from when the upper wiring is lowered onto the first insulating layer from the second insulating layer. As a result, the stress applied to one corner can be dispersed and the occurrence of disconnection or the like can be prevented as compared with the case of the conventional upper wiring of the step shape. Moreover, since the mechanical strength of the connection region is improved by the pillow portion, it is possible to more effectively prevent the occurrence of disconnection or the like.
Moreover, since the said pillow part consists of the same material as the said 1st conductor layer, it can form simultaneously with the said 1st conductor layer. For this reason, it is not necessary to add a separate process for forming the pillow part, or to use a complicated process such as the use of a photosensitive material or exposure using a gradation mask as in Patent Document 1 above. Can do. Therefore, the pillow part can be easily formed.
Furthermore, since the pillow part does not include a slope as shown in Patent Document 1, it is easy to form accurately at a desired length, that is, a desired pull-down distance, and is formed on such a pillow part. The pillow part conductor layer can also be excellent in pattern accuracy.
Thus, by having the said pillow part, there can be no disconnection defect and it can be formed easily.

また、特許文献1に示すようなスロープを含む絶縁層を形成する方法では、安定的なスロープ形成には、スロープの角度を小さいもの、すなわち、上述の引き降ろし距離を長いものする必要がある傾向がある。これに対して、本発明における枕部はスロープを含まないものであるため、引き降ろし距離を短いものとすること等が容易であり、設計の自由度が高いものとすることができる。また、その結果、配線の微細化・高密度化を容易に図ることができる。   Further, in the method of forming an insulating layer including a slope as shown in Patent Document 1, there is a tendency that a stable slope formation requires a small slope angle, that is, a long pull-down distance as described above. is there. On the other hand, since the pillow part in this invention does not contain a slope, it is easy to make a pull-down distance short etc., and it can be made into a thing with a high freedom degree of design. As a result, it is possible to easily reduce the size and density of the wiring.

本発明の配線付フレキシャー基板は、配線形成部、接続領域および端子形成部を少なくとも有するものである。また、通常、上記配線形成部および接続領域の間に中間部を有するものである。
以下、本発明の配線付フレキシャー基板の各構成について詳細に説明する。
The flexure substrate with wiring of the present invention has at least a wiring forming portion, a connection region, and a terminal forming portion. Further, usually, an intermediate portion is provided between the wiring forming portion and the connection region.
Hereafter, each structure of the flexure board | substrate with wiring of this invention is demonstrated in detail.

1.配線形成部
本発明に用いられる配線形成部は、上記第1絶縁層と、上記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、上記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、上記第2絶縁層上に上記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の領域である。また、上述した図2〜図7に示すように、上記配線形成部14は、上記接続領域12を介して端子形成部11と連続的に形成される部分である。
以下、このような配線形成部を構成する第1絶縁層、第1導体層、第2絶縁層および第2導体層について説明する。
1. Wiring forming portion The wiring forming portion used in the present invention includes the first insulating layer, the first conductor layer formed on the first insulating layer, and the second insulating layer formed on the first conductor layer. And a second conductor layer formed on the second insulating layer so as to overlap the first conductor layer in the thickness direction. 2 to 7 described above, the wiring forming portion 14 is a portion that is continuously formed with the terminal forming portion 11 through the connection region 12.
Hereinafter, the 1st insulating layer, the 1st conductor layer, the 2nd insulating layer, and the 2nd conductor layer which constitute such a wiring formation part are explained.

(1)第1絶縁層
本発明における第1絶縁層は、通常、後述する金属基板上に形成されるものであり、上記第1導体層等と上記金属基板とを絶縁するものである。
このような第1絶縁層の材料としては、所望の絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。
また、上記第1絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。
本発明における第1絶縁層の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内、中でも10μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。
(1) 1st insulating layer The 1st insulating layer in this invention is normally formed on the metal substrate mentioned later, and insulates the said 1st conductor layer etc. and the said metal substrate.
The material for the first insulating layer is not particularly limited as long as it has a desired insulating property, and examples thereof include polyimide (PI).
The material of the first insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material.
The thickness of the first insulating layer in the present invention is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 10 μm to 20 μm.

(2)第1導体層
本発明における第1導体層は、上記第1絶縁層上に形成される層であり、後述する第1端子部とともに下側の配線を構成するものである。
このような第1導体層の材料としては、所望の導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。
また、上記第1導体層の厚さとしては、例えば4μm〜18μmの範囲内、中でも5μm〜12μmの範囲内であることが好ましい。上記第1導体層の厚さが小さすぎると、所望の導電性を得ることができない可能性があり、上記第1導体層の厚さが大きすぎると、配線回路基板の剛性が高くなる可能性があるからである。一方、上記第1導体層の線幅としては、例えば10μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。上記第1導体層の線幅が小さすぎると、充分な低インピーダンス化を図ることができない可能性があり、第1導体層の線幅が大きすぎると、配線回路基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。
(2) 1st conductor layer The 1st conductor layer in this invention is a layer formed on the said 1st insulating layer, and comprises a lower wiring with the 1st terminal part mentioned later.
The material for the first conductor layer is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, and examples thereof include copper (Cu).
The thickness of the first conductor layer is preferably in the range of, for example, 4 μm to 18 μm, and more preferably in the range of 5 μm to 12 μm. If the thickness of the first conductor layer is too small, desired conductivity may not be obtained. If the thickness of the first conductor layer is too large, the rigidity of the printed circuit board may be increased. Because there is. On the other hand, the line width of the first conductor layer is preferably in the range of 10 μm to 300 μm, for example. If the line width of the first conductor layer is too small, it may not be possible to achieve a sufficiently low impedance. If the line width of the first conductor layer is too large, the printed circuit board will have a sufficiently high density. This is because there is a possibility that it cannot be achieved.

(3)第2絶縁層
本発明における第2絶縁層は、上記第1導体層上に形成される層である。通常は、上記第1導体層を覆うように第2絶縁層が形成される。上記第2絶縁層の材料および厚さについては、上述した第1絶縁層と同様の材料を用いることができるが、フレキシャーの反りを低減させるため、通常、上記第1絶縁層の線熱膨張係数等の性質が異なる材料が用いられる。なお、このような性質については、上記第1絶縁層やその他の部材の種類や厚み等に応じて適宜設定されるものである。
また、上記第1導体層上に形成された第2絶縁層の厚さ(第1導体層の頂部から第2絶縁層の頂部までの距離)は、例えば5μm〜18μmの範囲内であることが好ましい。上記厚さが小さすぎると、伝送特性の悪化およびピンホールによるショートの可能性があり、上記厚さが大きすぎると、配線回路基板全体の厚さが大きくなる可能性があるからである。
(3) Second Insulating Layer The second insulating layer in the present invention is a layer formed on the first conductor layer. Usually, a second insulating layer is formed so as to cover the first conductor layer. As for the material and thickness of the second insulating layer, the same material as that of the first insulating layer described above can be used. However, in order to reduce flexure warpage, the linear thermal expansion coefficient of the first insulating layer is usually used. Such materials having different properties are used. Such properties are appropriately set according to the type and thickness of the first insulating layer and other members.
The thickness of the second insulating layer formed on the first conductor layer (the distance from the top of the first conductor layer to the top of the second insulating layer) is, for example, in the range of 5 μm to 18 μm. preferable. If the thickness is too small, there is a possibility of deterioration of transmission characteristics and a short circuit due to pinholes. If the thickness is too large, the thickness of the entire printed circuit board may be increased.

(4)第2導体層
本発明における第2導体層は、上記第2絶縁層上に形成される層であり、後述する枕部導体層および第2端子部とともに上側の配線を構成するものである。また、上記配線形成部における第2導体層は、通常、第1導体層と厚さ方向において重複するように形成されるものである。
ここで、厚さ方向において重複するとは、両者が上下に重なるように配置され、平面視上重複するように配置されるものであることをいうものである。したがって、上記第2導体層は、上記第1導体層の上側に重複するように配置され、上記第1導体層および第2導体層が平面視上重複するように配置されるものである。
この際、上記第1導体層および第2導体層は、厚さ方向において、少なくとも一部で重複していれば良い。また、上記第2導体層の材料および寸法(厚さおよび線幅)は、上述した第1導体層と同様である。
(4) 2nd conductor layer The 2nd conductor layer in this invention is a layer formed on the said 2nd insulating layer, and comprises an upper wiring with the pillow part conductor layer and 2nd terminal part which are mentioned later. is there. In addition, the second conductor layer in the wiring forming portion is normally formed so as to overlap with the first conductor layer in the thickness direction.
Here, “overlapping in the thickness direction” means that both are arranged so as to overlap each other, and are arranged so as to overlap in plan view. Therefore, the second conductor layer is disposed so as to overlap the upper side of the first conductor layer, and the first conductor layer and the second conductor layer are disposed so as to overlap in plan view.
At this time, the first conductor layer and the second conductor layer may overlap at least partially in the thickness direction. The material and dimensions (thickness and line width) of the second conductor layer are the same as those of the first conductor layer described above.

2.接続領域
本発明における接続領域は、上記第2導体層と上記第2端子部とを接続する領域であり、上記枕部および枕部導体層を有するものである。
2. Connection area | region The connection area | region in this invention is an area | region which connects the said 2nd conductor layer and the said 2nd terminal part, and has the said pillow part and a pillow part conductor layer.

(1)枕部
本発明に用いられる枕部は、上記第1導体層と同一材料で形成され、上記第1導体層とは絶縁されているものであり、上記第1絶縁層上に形成されるものである。また、上記第2絶縁層から突出するもの、すなわち、平面視上、上記第2絶縁層と接し、かつ、上記第2絶縁層により覆われていない領域を有するものである。
(1) Pillow part The pillow part used for this invention is formed with the same material as the said 1st conductor layer, is insulated from the said 1st conductor layer, and is formed on the said 1st insulating layer. Is. In addition, it protrudes from the second insulating layer, that is, has a region in contact with the second insulating layer and not covered by the second insulating layer in plan view.

また、本発明における枕部は、上記第2絶縁層から突出し、上記第2絶縁層と階段状の形状となるように形成され、上記第2導体層から上記第2端子部までの上側の配線を2回の段差の階段形状を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、図8に例示するように、上記第2絶縁層2bにより覆われない場所に形成されるものであっても良いが、既に説明した図3に示すように上記第2絶縁層2bにより一部が覆われる場所に形成されるものであることが好ましい。本発明における接続領域の強度を向上させ、断線等が良く確実に発生しないものとすることができるからである。
なお、図8中の符号については、図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Further, the pillow portion in the present invention protrudes from the second insulating layer and is formed to have a stepped shape with the second insulating layer, and the upper wiring from the second conductor layer to the second terminal portion. Is not particularly limited as long as it can have a stepped shape with two steps, and as illustrated in FIG. 8, it is formed in a place not covered by the second insulating layer 2b. Although it may be, it is preferable that it is formed in a place partially covered by the second insulating layer 2b as shown in FIG. This is because the strength of the connection region in the present invention can be improved, and disconnection or the like is good and does not occur reliably.
In addition, about the code | symbol in FIG. 8, since it shows the same member as the thing of FIG. 3, description here is abbreviate | omitted.

本発明に用いられる枕部の平面視上の形状としては、上記枕部導体層を安定的に支持できるものであれば良く、例えば、既に説明した図2に示すような四角形状等とすることができる。   The shape of the pillow portion used in the present invention in a plan view may be any shape as long as it can stably support the above-described pillow portion conductor layer, for example, a rectangular shape as shown in FIG. Can do.

本発明における枕部の形成個所としては、上記枕部が上記接続領域内に少なくとも形成されるものであれば特に限定されるものではないが、上記端子形成部にも形成されるものであることが好ましい。上記枕部が上記端子形成部にも形成されることにより、上記端子形成部の機械的強度を向上させることができるからである。   The formation part of the pillow part in the present invention is not particularly limited as long as the pillow part is formed at least in the connection region, but is also formed in the terminal formation part. Is preferred. It is because the mechanical strength of the terminal forming part can be improved by forming the pillow part also on the terminal forming part.

本発明における枕部の第2絶縁層から突出する部位の配線方向の長さ、すなわち、上記第2導体層と第2端子部とを接続する枕部導体層の平面視上の距離としては、上記第2導体層から上記第2端子部までの上側の配線を2回の段差の階段形状を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、上記第2絶縁層の厚み、すなわち、上記枕部表面から上記第2絶縁層表面までの距離と同程度の長さ以上であることが好ましい。上記配線方向の長さが上記範囲内であることにより、上記第2導体層から上記第2端子部までの上側の配線の形状を安定的に2回の段差の階段形状とすることができるからである。
なお、上記枕部の長さの上限については、本発明の配線付フレキシャー基板の用途等に応じて適宜設定されるものであり、特に限定されるものではないが、通常、160μm程度である。上記枕部の長さが長すぎると配線付フレキシャー基板のコンパクト化が困難となるからである。
The length in the wiring direction of the portion protruding from the second insulating layer of the pillow portion in the present invention, that is, the distance in plan view of the pillow portion conductor layer connecting the second conductor layer and the second terminal portion, The upper wiring from the second conductor layer to the second terminal portion is not particularly limited as long as it can have a stepped shape with two steps, specifically, It is preferable that the thickness be equal to or more than the thickness of the second insulating layer, that is, the distance from the surface of the pillow portion to the surface of the second insulating layer. Since the length in the wiring direction is within the above range, the shape of the upper wiring from the second conductor layer to the second terminal portion can be stably formed into a stepped shape having two steps. It is.
The upper limit of the length of the pillow portion is appropriately set according to the use of the flexure substrate with wiring of the present invention and is not particularly limited, but is usually about 160 μm. This is because if the length of the pillow portion is too long, it is difficult to make the flexure substrate with wiring compact.

本発明における枕部の幅としては、上記第2導体層から上記第2端子部までの上側の配線を2回の段差の階段形状を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではなく、図9に例示するように上記枕部4の幅が上記枕部導体層3b´´の幅よりも狭いものであっても良く、既に説明した図2に示すように、上記枕部4の幅が上記枕部導体層3b´´の幅よりも広いものであっても良い。
上記枕部の幅が上記枕部導体層の幅よりも狭い場合には、隣り合う導体層同士の距離を確保することができ、導体層間の絶縁信頼性を確保できる。といった利点を有し、上記枕部導体層の幅よりも広い場合には、積層した枕部導体層の位置精度にずれが生じた場合でも、上記枕部導体層を上記枕部上に安定的に形成することができるからである。
また、図9中の符号については、図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
The width of the pillow portion in the present invention is particularly limited as long as the upper wiring from the second conductor layer to the second terminal portion can have a stepped shape with two steps. As shown in FIG. 9, the width of the pillow 4 may be narrower than the width of the pillow conductor layer 3b ″. As shown in FIG. The width of the portion 4 may be wider than the width of the pillow portion conductor layer 3b ″.
When the width of the pillow portion is narrower than the width of the pillow portion conductor layer, the distance between adjacent conductor layers can be ensured, and the insulation reliability between the conductor layers can be ensured. If the width of the pillow portion conductor layer is wider than that of the pillow portion conductor layer, the pillow portion conductor layer can be stably placed on the pillow portion even when the positional accuracy of the stacked pillow portion conductor layers is shifted. This is because it can be formed.
Moreover, since the reference numerals in FIG. 9 indicate the same members as those in FIG. 2, the description thereof is omitted here.

本発明において、上記枕部が上記枕部導体層の幅より狭い場合、上記枕部の幅としては、上記枕部導体層を安定的な階段形状を有することができるものであれば良く、上記枕部導体層の幅や厚み等に応じて適宜設定されるものである。
また、上記枕部が上記枕部導体層の幅より広い場合には、上記枕部の幅は、本発明の配線付フレキシャー基板の用途等に応じて適宜設定されるものであるが、上記枕部導体層を上記枕部上に安定的に形成するとの目的によれば広ければ広いほど好ましいが、通常、上記枕部導体層の幅より1μm〜10μmの範囲内で広いことが好ましく、なかでも、5μm〜10μmの範囲内で広いことが好ましい。上記枕部の幅が上述の範囲内であることにより、本発明の配線付フレキシャー基板をコンパクトなものとすることができ、かつ、上記枕部導体層の位置精度が多少ずれても安定的な階段形状が得られるからである。さらに、上述の効果を発揮することができるからである。なお、上限については、上記枕部が、隣接する第1導体層等の導体層と短絡しないような幅であれば良く、本発明の配線付フレキシャー基板の種類等に応じて適宜設定されるものである。
In the present invention, when the pillow part is narrower than the width of the pillow part conductor layer, the width of the pillow part may be anything as long as the pillow part conductor layer can have a stable step shape, It is appropriately set according to the width and thickness of the pillow portion conductor layer.
Further, when the pillow part is wider than the width of the pillow part conductor layer, the width of the pillow part is appropriately set according to the use of the flexure substrate with wiring of the present invention. According to the purpose of stably forming the part conductor layer on the pillow part, it is preferably as wide as possible, but usually it is preferably wider within the range of 1 μm to 10 μm than the width of the pillow part conductor layer, It is preferably wide within a range of 5 μm to 10 μm. When the width of the pillow portion is within the above range, the flexure substrate with wiring of the present invention can be made compact, and stable even if the positional accuracy of the pillow conductor layer is slightly shifted. This is because a staircase shape can be obtained. Furthermore, it is because the above-mentioned effect can be exhibited. In addition, about an upper limit, the said pillow part should just be a width | variety which does not short-circuit with conductor layers, such as an adjacent 1st conductor layer, and is suitably set according to the kind etc. of the flexure board | substrate with wiring of this invention It is.

本発明に用いられる枕部の厚さは、上記第1導体層と同一材料であり、かつ、同時に形成されることから、通常、上記第1導体層の厚さと同程度である。   Since the thickness of the pillow part used for this invention is the same material as the said 1st conductor layer, and since it forms simultaneously, it is normally comparable as the thickness of the said 1st conductor layer.

(2)枕部導体層
本発明に用いられる枕部導体層は、上記枕部上に形成され、上記第2導体層および第2端子部を接続するものである。
このような枕部導体層を構成する材料および厚さは、上記第2導体層および第2端子部を接続することができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、上記枕部導体層は上記第2導体層および第2端子部の形成と同時に形成されることから、上記第2導体層と同一材料からなり、同程度の厚さを有する。
(2) Pillow part conductor layer The pillow part conductor layer used for this invention is formed on the said pillow part, and connects the said 2nd conductor layer and a 2nd terminal part.
Although the material and thickness which comprise such a pillow part conductor layer will not be specifically limited if the said 2nd conductor layer and a 2nd terminal part can be connected, Usually, the said pillow part Since the conductor layer is formed simultaneously with the formation of the second conductor layer and the second terminal portion, the conductor layer is made of the same material as the second conductor layer and has the same thickness.

本発明における枕部導体層の幅は、上記第2導体層および第2端子部を安定的に接続できるものであれば特に限定されるものではなく、上記第2導体層および第2端子部よりも広いものであっても、狭いものであっても良いが、通常、上記第2導体層および第2端子部と同程度である。   The width of the pillow portion conductor layer in the present invention is not particularly limited as long as it can stably connect the second conductor layer and the second terminal portion, and from the second conductor layer and the second terminal portion. Although it may be wide or narrow, it is generally on the same level as the second conductor layer and the second terminal portion.

3.端子形成部
本発明における端子形成部は、上記配線形成部の端部に形成され、上記第1絶縁層上に配置され、上記第1導体層と接続する第1端子部、および上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と接続する第2端子部を有する領域である。
3. Terminal formation part The terminal formation part in this invention is formed in the edge part of the said wiring formation part, is arrange | positioned on the said 1st insulating layer, The 1st terminal part connected with the said 1st conductor layer, and the said 1st insulation It is an area | region which has a 2nd terminal part arrange | positioned on a layer and connected with the said 2nd conductor layer.

このような端子形成部としては、例えば、ジンバル部に実装される素子との接続に用いられるものであっても良く、テール部において外部回路基板との接続、すなわち、上記外部端子形成部として用いられるものであっても良い。   As such a terminal formation part, for example, it may be used for connection with an element mounted on the gimbal part. In the tail part, connection to an external circuit board, that is, used as the external terminal formation part. May be used.

また、本発明における端子形成部は、既に説明した図2〜図7に示すように、上記第1端子部および第2端子部が上記第1絶縁層の非開口部上に形成されるものであっても良く、図10および図11に例示するように、上記第1端子部3a´および第2端子部3b´が上記第1絶縁層2aおよび金属基板1の開口部に形成され、フライングリードが形成されているものであっても良い。
なお、図10および図11中の符号については、図3および図4のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
The terminal forming portion in the present invention is such that the first terminal portion and the second terminal portion are formed on the non-opening portion of the first insulating layer as shown in FIGS. As illustrated in FIGS. 10 and 11, the first terminal portion 3a ′ and the second terminal portion 3b ′ are formed in the opening portion of the first insulating layer 2a and the metal substrate 1, and the flying lead May be formed.
Note that the reference numerals in FIGS. 10 and 11 indicate the same members as those in FIGS. 3 and 4, and thus description thereof is omitted here.

なお、上記端子形成部における第1絶縁層については、上記「1.配線形成部」に記載の第1絶縁層と同様の内容であるので、ここでの記載は省略する。   The first insulating layer in the terminal forming portion has the same contents as those of the first insulating layer described in “1. Wiring forming portion”, and thus description thereof is omitted here.

(1)第2端子部
本発明における第2端子部は、上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と上記枕部導体層を介して接続され、露出するものである。
(1) 2nd terminal part The 2nd terminal part in this invention is arrange | positioned on the said 1st insulating layer, is connected via the said 2nd conductor layer and the said pillow part conductor layer, and is exposed.

本発明における第2端子部は、上記第2導体層と同一材料からなり、上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と接続する第2端子部金属層を少なくとも含むものである。また、上記第2導体層から第2端子部までの上側の配線の形状を2回の段差の階段形状となるように配置されるものである。   The 2nd terminal part in this invention consists of the same material as the said 2nd conductor layer, is arrange | positioned on the said 1st insulating layer, and contains at least the 2nd terminal part metal layer connected with the said 2nd conductor layer. Further, the upper wiring from the second conductor layer to the second terminal portion is arranged so as to have a stepped shape with two steps.

本発明における第2端子部金属層の厚さとしては、所望の厚さの第2端子部を形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、上記第2端子部金属層は、上記第2導体層と同一材料、かつ、同時に形成されることから、上記第2導体層と同程度の厚さである。   The thickness of the second terminal portion metal layer in the present invention is not particularly limited as long as the second terminal portion having a desired thickness can be formed, but usually the second terminal portion. Since the metal layer is formed of the same material and at the same time as the second conductor layer, it has the same thickness as the second conductor layer.

本発明における第2端子部金属層の幅は、所望の幅の第2端子部を形成することができるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の配線付フレキシャー基板の用途等に応じて適宜設定されるものである。   The width of the second terminal portion metal layer in the present invention is not particularly limited as long as the second terminal portion having a desired width can be formed. For the use of the flexure substrate with wiring of the present invention, etc. It is set accordingly.

本発明における第2端子部金属層の表面形状としては、平坦であっても良いが、溝部を有するものであることが好ましい。溝部を有する第2端子部を容易に形成できるからである。また、上記第2端子部の溝部にはんだを流れ込ませることができる結果、上記第2端子部をはんだののりに優れたものとすることができ、接続信頼性に優れたものとすることができるからである。
このような溝部を有する第2端子部金属層としては、具体的には、図12に例示するように、非貫通部である溝部24を有するものや、図13に例示するように貫通部である溝部24を有するものとすることができる。本発明においては、なかでも、上記溝部が貫通部であるであることが好ましい。はんだとの接触面積が広い溝部を容易に形成することができ、はんだののりに優れた第2端子部とすることができるからである。また、上記溝部の形成が容易だからである。
なお、図12(a)および図13(a)は、端子形成部およびその近傍の一例を示す概略平面図であり、図12(b)および図13(b)は、それぞれ、図12(a)のD−D線断面図および図13(a)のE−E線断面図である。
また、図12および図13中の符号については、図2および図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
The surface shape of the second terminal portion metal layer in the present invention may be flat, but preferably has a groove. This is because the second terminal portion having the groove portion can be easily formed. Moreover, as a result of allowing solder to flow into the groove portion of the second terminal portion, it is possible to make the second terminal portion excellent in soldering and to improve connection reliability. Because.
Specifically, the second terminal portion metal layer having such a groove portion has a groove portion 24 that is a non-penetrating portion as illustrated in FIG. 12, or a through portion as illustrated in FIG. A certain groove portion 24 may be provided. In the present invention, it is particularly preferable that the groove portion is a through portion. This is because a groove having a wide contact area with the solder can be easily formed, and a second terminal portion excellent in soldering can be obtained. Moreover, it is because formation of the said groove part is easy.
12 (a) and 13 (a) are schematic plan views showing an example of the terminal forming portion and its vicinity, and FIGS. 12 (b) and 13 (b) respectively show FIG. 12 (a). It is the DD sectional view taken on the line of FIG. 13 and the EE sectional view taken on the line of FIG.
12 and 13 indicate the same members as those in FIGS. 2 and 3, and a description thereof will be omitted here.

本発明において、上記溝部が貫通部である場合における第2端子部金属層としては、既に説明した図13に例示するように、平面視形状が円形状、楕円状、矩形状等の溝部24を有するものであっても良く、図14に例示するように、溝部24を有し、柱状に加工された部位を有するものであっても良い。なお、柱状の第2端子部金属層の平面視形状は特に限定されるものではなく、例えば円状、楕円状、矩形状等を挙げることができる。
なお、図14(a)は、端子形成部およびその近傍の一例を示す概略平面図であり、図14(b)は、図14(a)のF−F線断面図である。
また、図14中の符号については、図2および図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
In the present invention, as the second terminal portion metal layer in the case where the groove portion is a through portion, the groove portion 24 having a circular shape, an elliptical shape, a rectangular shape or the like in plan view is used as illustrated in FIG. As illustrated in FIG. 14, the groove portion 24 may be included, and the portion processed into a column shape may be used. In addition, the planar view shape of the columnar second terminal portion metal layer is not particularly limited, and examples thereof include a circular shape, an elliptical shape, and a rectangular shape.
14A is a schematic plan view showing an example of the terminal forming portion and the vicinity thereof, and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along the line FF of FIG. 14A.
Moreover, since the reference numerals in FIG. 14 indicate the same members as those in FIGS. 2 and 3, the description thereof is omitted here.

本発明における第2端子部金属層の上記第1絶縁層上の配置位置としては、平面視上、上記第1端子部と重複しない位置であり、上記枕部導体層および上記第2端子部金属層の間に段差を有するものとすることができるものであれば特に限定されるものではない。
本発明においては、なかでも、上記端子形成部内に溝部を有する枕部を有する場合には、少なくとも上記枕部の溝部に配置されることが好ましい。上記第2端子部金属層を凹形状とすることができ、上記第2端子部を接続信頼性に優れたものとすることができるからである。
なお、このような第2端子部金属層が配置される枕部の溝部としては、通常、図15に例示するような非貫通部であっても良いが、図16や図17に例示するような貫通部であることが好ましい。上記第2端子部金属層をはんだとの接触面積の広いものとすることができるからである。また、その結果、上記第2端子部をはんだののりに優れたものとすることができ、接続信頼性に優れたものとすることができるからである。また、上記枕部の溝部が貫通部であることにより、上記溝部の形成が容易だからである。
なお、上記溝部が貫通部である場合の枕部の形状としては、上記第2端子部金属層を安定的に配置することができるものであれば特に限定されるものではなく、上記溝部を有する第2端子部金属層と同様とすることができる。
また、図15(a)〜図17(a)は、端子形成部およびその近傍の一例を示す概略平面図であり、図15(b)〜図17(b)は、それぞれ図15(a)〜図17(a)のG−G線断面図、H−H線断面図およびI−I線断面図である。
さらに、図15〜図17中の符号については、図2および図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、図15(a)〜図17(a)においては、説明の容易のため、枕部導体層および第2端子部(第2端子部金属層)の記載を省略するものである。
The position of the second terminal metal layer on the first insulating layer in the present invention is a position that does not overlap with the first terminal in plan view, and the pillow conductor layer and the second terminal metal. There is no particular limitation as long as it can have a step between the layers.
Especially in this invention, when it has the pillow part which has a groove part in the said terminal formation part, it is preferable to arrange | position at least in the groove part of the said pillow part. This is because the second terminal portion metal layer can be formed in a concave shape, and the second terminal portion can be excellent in connection reliability.
In addition, as a groove part of the pillow part in which such a 2nd terminal part metal layer is arrange | positioned, although it may be a non-penetrating part normally illustrated in FIG. 15, as illustrated in FIG.16 and FIG.17. It is preferable that it is a through-hole. This is because the second terminal metal layer can have a wide contact area with the solder. Further, as a result, the second terminal portion can be made excellent in solder paste, and the connection reliability can be made excellent. Moreover, it is because formation of the said groove part is easy because the groove part of the said pillow part is a penetration part.
In addition, as a shape of the pillow part in case the said groove part is a penetration part, if the said 2nd terminal part metal layer can be arrange | positioned stably, it will not specifically limit, It has the said groove part It can be the same as that of the second terminal portion metal layer.
FIGS. 15A to 17A are schematic plan views showing an example of the terminal forming portion and the vicinity thereof, and FIGS. 15B to 17B are FIGS. 15A and 15B, respectively. It is the GG sectional view taken on the line of FIG. 17 (a), the HH sectional view, and the II sectional view.
Furthermore, the reference numerals in FIGS. 15 to 17 indicate the same members as those in FIGS. Moreover, in FIG. 15A-FIG. 17A, description of a pillow part conductor layer and a 2nd terminal part (2nd terminal part metal layer) is abbreviate | omitted for easy description.

(2)第1端子部
本発明における第1端子部は、上記第1導体層と接続し、露出するものである。また、上記第1絶縁層上に形成されるものである。
ここで、露出しているとは、はんだと電気的に接続することができ、例えば、上記素子や外部回路基板と電気的接続をすることができることをいうものである。
(2) 1st terminal part The 1st terminal part in this invention connects with the said 1st conductor layer, and is exposed. Further, it is formed on the first insulating layer.
Here, being exposed means that it can be electrically connected to the solder, for example, can be electrically connected to the element and the external circuit board.

このような第1端子部としては、上記第1導体層と同一材料からなり、上記第1絶縁層上に配置され、上記第1導体層と接続された第1端子部金属層を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではない。   Such a first terminal portion is made of the same material as that of the first conductor layer, and includes at least a first terminal portion metal layer disposed on the first insulating layer and connected to the first conductor layer. If it is, it will not specifically limit.

(a)第1端子部金属層
本発明に用いられる第1端子部金属層は、上記第1導体層と同一材料であり、かつ、同時に形成されるものである。
(A) 1st terminal part metal layer The 1st terminal part metal layer used for this invention is the same material as the said 1st conductor layer, and is formed simultaneously.

このような第1端子部金属層の配置位置としては、平面視上、上記第2端子部と重複しない位置であれば特に限定されるものではなく、既に説明した図4に示すように、全てが上記第1絶縁層の非開口部上に形成されるものであっても良く、既に説明した図14に示すように、上記第1絶縁層の開口部に形成されるものであっても良い。   The arrangement position of the first terminal portion metal layer is not particularly limited as long as it does not overlap with the second terminal portion in plan view, and as shown in FIG. May be formed on the non-opening of the first insulating layer, or may be formed on the opening of the first insulating layer as shown in FIG. .

本発明における第1端子部金属層の厚さとしては、所望の厚さの第1端子部を形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、上記第1端子部金属層は、上記第1導体層の形成と同時に形成されることから、上記第1導体層と同程度の厚さである。   The thickness of the first terminal portion metal layer in the present invention is not particularly limited as long as the first terminal portion having a desired thickness can be formed. Since the metal layer is formed at the same time as the formation of the first conductor layer, the metal layer has the same thickness as the first conductor layer.

本発明における第1端子部金属層の幅は、所望の幅の第1端子部を形成することができるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の配線付フレキシャー基板の用途等に応じて適宜設定されるものである。   The width of the first terminal portion metal layer in the present invention is not particularly limited as long as the first terminal portion having a desired width can be formed. For the use of the flexure substrate with wiring of the present invention, etc. It is set accordingly.

本発明における第1端子部金属層の表面形状としては、平坦であっても良いが、溝部を有するものであることが好ましい。溝部を有する第1端子部とすることができるからである。その結果、上記第1端子部の溝部にはんだを流れ込ませることができ、上記第1端子部をはんだののりに優れたものとすることができ、接続信頼性に優れたものとすることができるからである。
また、上記第1端子部金属層上に、めっき法等により後述する第3導体層を形成し、上記第1端子部金属層および第3導体層を有する第1端子部とする場合であっても、表面に溝部を有する第3導体層、すなわち、表面に溝部を有する第1端子部を容易に形成することができ、接続信頼性に優れたものとすることができるからである。
なお、このような溝部としては、上記「(1)第2端子部」の項に記載の枕部の溝部と同様とすることができる。
The surface shape of the first terminal portion metal layer in the present invention may be flat, but preferably has a groove. It is because it can be set as the 1st terminal part which has a groove part. As a result, the solder can be poured into the groove of the first terminal portion, the first terminal portion can be excellent in solder paste, and the connection reliability can be excellent. Because.
Moreover, it is a case where the 3rd conductor layer mentioned later is formed on the said 1st terminal part metal layer by the plating method etc., and it is set as the 1st terminal part which has the said 1st terminal part metal layer and a 3rd conductor layer. This is because the third conductor layer having the groove portion on the surface, that is, the first terminal portion having the groove portion on the surface can be easily formed, and the connection reliability can be improved.
In addition, as such a groove part, it can be made to be the same as that of the groove part of the pillow part as described in the term of the said "(1) 2nd terminal part."

(b)第1端子部
本発明に用いられる第1端子部は、上記第1端子部金属層を少なくとも有するものであるが、必要に応じて、他の層を有するものとすることができる。
本発明においては、なかでも、上記第1端子部金属層上に形成される第3導体層を有するものであることが好ましい。上記第3導体層を有することにより、上記第1端子部の機械的強度を向上させることができるからである。
また、上記端子形成部に枕部および枕部導体層が形成される場合において、上記枕部導体層の高さと上記第1端子部の高さとを揃えることができ、上記端子形成部におけるはんだ接続を容易なものとすることができるからである。
(B) 1st terminal part Although the 1st terminal part used for this invention has the said 1st terminal part metal layer at least, it can have another layer as needed.
In the present invention, in particular, it is preferable to have a third conductor layer formed on the first terminal portion metal layer. This is because the mechanical strength of the first terminal portion can be improved by having the third conductor layer.
Moreover, when the pillow part and the pillow part conductor layer are formed in the terminal forming part, the height of the pillow part conductor layer and the height of the first terminal part can be aligned, and the solder connection in the terminal forming part This is because it can be made easy.

本発明における第3導体層の材料としては、上記第1端子部とはんだとを電気的に接続できる材料であれば特に限定されるものではないが、上記第2端子部金属層を構成する材料と同一であることが好ましい。上記第3導体層を上記第2端子部金属層と同時に形成することが可能となり、上記第3導体層を容易に形成できるものとすることができるからである。
なお、上記第3導体層が上記第2端子部金属層と同一材料からなり、上記第2端子部金属層と同時形成されるものである場合には、上記第3導体層は、上記第1端子部および第2端子部の短絡を防ぐため、上記第2端子部金属層と絶縁されるように形成される。
The material of the third conductor layer in the present invention is not particularly limited as long as it is a material that can electrically connect the first terminal portion and the solder, but the material constituting the second terminal portion metal layer. Are preferably the same. This is because the third conductor layer can be formed at the same time as the second terminal portion metal layer, and the third conductor layer can be easily formed.
In the case where the third conductor layer is made of the same material as the second terminal portion metal layer and is formed at the same time as the second terminal portion metal layer, the third conductor layer is the first conductor layer. In order to prevent a short circuit between the terminal portion and the second terminal portion, the terminal portion and the second terminal portion are formed so as to be insulated from the metal layer.

本発明における第3導体層の幅としては、上記第1端子部金属層上に安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、上記第1端子部金属層の幅よりも狭いものであっても良く、上記第1端子部の幅よりも広いものであっても良い。上記第1端子部金属層の幅より狭い場合には、隣り合う導体層の間隔を狭くでき、高密度化が可能、かつ、半田が噛むことによる物理的な密着性向上が期待できるといった利点を有し、上記第1端子部金属層の幅よりも広い場合には、上記第3導体形成時の位置精度が多少ずれた場合でも安定した形状の端子部を形成することができるといった利点を有するからである。   The width of the third conductor layer in the present invention is not particularly limited as long as it can be stably formed on the first terminal metal layer, and is narrower than the width of the first terminal metal layer. It may be a thing, and the thing wider than the width | variety of the said 1st terminal part may be sufficient. When the width is smaller than the width of the first terminal metal layer, the distance between adjacent conductor layers can be narrowed, the density can be increased, and the physical adhesion can be improved due to the biting of the solder. And having a width larger than the width of the first terminal portion metal layer has an advantage that a terminal portion having a stable shape can be formed even when the positional accuracy of the third conductor is slightly shifted. Because.

本発明における第3導体層の厚さは、特に限定されるものではないが、上記第2端子部金属層を形成する工程で、同時に上記第3導体層を形成する場合は、通常、上記第2端子部金属層の厚さと同じになる。   The thickness of the third conductor layer in the present invention is not particularly limited, but when the third conductor layer is formed at the same time in the step of forming the second terminal portion metal layer, the thickness of the third conductor layer is usually The thickness is the same as the thickness of the two-terminal metal layer.

本発明における第3導体層の形成個所としては、上記第1端子部上に形成されるものであれば特に限定されるものではないが、必要に応じて、上記接続領域、中間部および配線形成部にも形成されるものであっても良い。   The formation position of the third conductor layer in the present invention is not particularly limited as long as it is formed on the first terminal portion. However, if necessary, the connection region, the intermediate portion, and the wiring formation are formed. It may be formed also in the part.

本発明においては、上記端子形成部における第3導体層が溝部を有するものであることが好ましい。上記第1端子部のはんだとの接着面積を増加させることができ接続信頼性の向上を図ることができるからである。
このような溝部としては、上記第1端子部金属層における溝部と同様とすることができる。また、上記第1端子部金属層に形成された溝部により形成されるものであっても良い。
In this invention, it is preferable that the 3rd conductor layer in the said terminal formation part has a groove part. This is because the bonding area of the first terminal portion with the solder can be increased, and the connection reliability can be improved.
Such a groove can be the same as the groove in the first terminal metal layer. Further, it may be formed by a groove formed in the first terminal portion metal layer.

4.中間部
次に、本発明における中間部について説明する。本発明における中間部は、上述した配線形成部および接続領域の間に、連続的に形成される部分である。
また、本発明における中間部では、通常、上記第1導体層および第2導体層が、上記接続領域および端子形成部において平面視上重複しないよう配置されるために分岐している。
4). Intermediate part Next, the intermediate part in the present invention will be described. The intermediate portion in the present invention is a portion that is continuously formed between the wiring formation portion and the connection region described above.
Moreover, in the intermediate part in this invention, the said 1st conductor layer and the 2nd conductor layer are branching in order to arrange | position so that it may not overlap in planar view in the said connection area | region and a terminal formation part normally.

本発明においては、厚さ方向に重複している第1導体層および第2導体層が接続領域の手前で分岐する際、第1導体層および第2導体層の一方が、他方に対して、平面視上、略直角に分岐していることが好ましい。目的とするインピーダンスが得やすいからである。既に説明した図2においては、第2導体層3bが、第1導体層3aに対して、平面視上、直角に分岐している。これに対して、第1導体層および第2導体層の一方が、平面視上、斜めに(例えば45°で)分岐していると、分岐地点において、第1導体層および第2導体層が、一部では重複し、一部では重複しない状態となる。その結果、目的とするインピーダンスからずれが生じる場合がある。そのため、本発明において、上記第1導体層および第2導体層の一方は、他方に対して、平面視上、略直角に分岐していることが好ましい。   In the present invention, when the first conductor layer and the second conductor layer overlapping in the thickness direction branch before the connection region, one of the first conductor layer and the second conductor layer is In plan view, it is preferably branched at a substantially right angle. This is because the desired impedance is easily obtained. In FIG. 2 which has already been described, the second conductor layer 3b is branched at a right angle in plan view with respect to the first conductor layer 3a. On the other hand, when one of the first conductor layer and the second conductor layer branches obliquely (for example, at 45 °) in plan view, the first conductor layer and the second conductor layer are , Some overlap, and some do not overlap. As a result, deviation from the target impedance may occur. Therefore, in the present invention, it is preferable that one of the first conductor layer and the second conductor layer is branched at a substantially right angle in plan view with respect to the other.

5.配線付フレキシャー基板
本発明の配線付フレキシャー基板は、少なくとも配線形成部、接続領域および端子形成部を有し、通常、上記中間部を有する。
また、それぞれの領域で、上記第1絶縁層、第2絶縁層、上側の配線(第2導体層〜枕部導体層〜第2端子部)、下側の配線(第1導体層〜第1端子部)および枕部を有するものであり、通常、金属基板1およびカバー層を有するものであるが、必要に応じて他の構成を有するものであっても良い。
このような他の構成としては、既に説明した図3および図4に示すように、シード層6、拡散防止層7および配線めっき層8や、上記導体層間に形成される密着性向上層等を挙げることができる。
5. Flexure substrate with wiring The flexure substrate with wiring of the present invention has at least a wiring formation portion, a connection region, and a terminal formation portion, and usually has the intermediate portion.
In each region, the first insulating layer, the second insulating layer, the upper wiring (second conductor layer to pillow portion conductor layer to second terminal portion), and the lower wiring (first conductor layer to first conductor). Terminal portion) and a pillow portion, and usually the metal substrate 1 and the cover layer, but may have other configurations as necessary.
As such other configurations, as shown in FIGS. 3 and 4, the seed layer 6, the diffusion prevention layer 7, the wiring plating layer 8, the adhesion improving layer formed between the conductor layers, and the like are provided. Can be mentioned.

(a)金属基板
本発明における金属基板は、上記第1絶縁層およびその上に形成される各部材を支持するものである。
このような金属基板の材料としては、所望の導電性およびばね性を有することが好ましく、例えばステンレススティール等を挙げることができる。上記金属基板の厚さは、例えば10μm〜30μmの範囲内、中でも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。
(A) Metal substrate The metal substrate in this invention supports the said 1st insulating layer and each member formed on it.
As a material of such a metal substrate, it is preferable to have desired conductivity and spring property, and examples thereof include stainless steel. The thickness of the metal substrate is, for example, preferably in the range of 10 μm to 30 μm, more preferably in the range of 15 μm to 25 μm.

また、本発明においては、図18に示すように、上記金属基板1が、第1導体層3aと厚さ方向において重複しないように形成されていることが好ましい。上記金属基板が上記第1導体層の電気特性に悪影響を与えることを抑制できるからである。上記第1導体層の端部と、上記金属基板の端部とは、厚さ方向と直交する水平方向において、例えば10μm以上離れていることが好ましい。
なお、図18中の符号については、図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
In the present invention, as shown in FIG. 18, the metal substrate 1 is preferably formed so as not to overlap the first conductor layer 3a in the thickness direction. This is because it is possible to suppress the metal substrate from adversely affecting the electrical characteristics of the first conductor layer. The end portion of the first conductor layer and the end portion of the metal substrate are preferably separated by, for example, 10 μm or more in the horizontal direction orthogonal to the thickness direction.
In addition, about the code | symbol in FIG. 18, since it shows the member same as the thing of FIG. 3, description here is abbreviate | omitted.

(b)カバー層
本発明におけるカバー層は、上記第1導体層および第2導体層等の導体層を保護するために形成されるものである。
本発明においては、上記カバー層を有することにより、電気信号の減衰や上記導体層の劣化を抑制することができる。
このようなカバー層の材料としては、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。なお、カバー層の材料は、上述した第1絶縁層2aおよび第2絶縁層2bと同じであっても良く、異なっていても良い。
本発明におけるカバー層の厚さは、例えば3μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。
(B) Cover layer The cover layer in this invention is formed in order to protect conductor layers, such as the said 1st conductor layer and a 2nd conductor layer.
In the present invention, by having the cover layer, attenuation of electrical signals and deterioration of the conductor layer can be suppressed.
Examples of the material for the cover layer include polyimide (PI). The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The material of the cover layer may be the same as or different from the first insulating layer 2a and the second insulating layer 2b described above.
The thickness of the cover layer in the present invention is preferably in the range of 3 μm to 30 μm, for example.

本発明におけるカバー層の形成領域としては、上記導体層を安定的に保護することができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、少なくとも上記第1導体層および第2導体層を覆うように形成され、上記第1端子部および第2端子部が露出するように形成されるものである。
本発明においては、特にカバー層の形成位置は限定される物ではないが、上記枕部導体層を覆うように形成する事によって、より、屈曲部の強度を増すことができるため好ましい。また、端子の露出部へ金メッキを形成する範囲が小さくなる事によって低コスト化を図ることができるといった利点があるからである。
また、上記カバー層は、上記外部端子形成部内に形成されるものであっても良いが、上記素子実装領域での上記素子(スライダ)の密着性のため、通常、上記素子実装領域の上記第1絶縁層上には、上記カバー層は形成されないものである。例えば、上記第1端子部および第2端子部が、外部端子形成部において外部回路との接続に用いられるものである場合には、上記カバー層は、通常、その端子端が露出しないように形成されるものとすることができる。
The formation region of the cover layer in the present invention is not particularly limited as long as it can stably protect the conductor layer. Usually, at least the first conductor layer and the second conductor layer are included. The first terminal part and the second terminal part are formed so as to be exposed.
In the present invention, the formation position of the cover layer is not particularly limited, but it is preferable to form the cover portion so as to cover the pillow portion conductor layer because the strength of the bent portion can be further increased. Moreover, it is because there exists an advantage that cost reduction can be attained by reducing the range which forms gold plating in the exposed part of a terminal.
In addition, the cover layer may be formed in the external terminal forming portion. However, because of the adhesion of the element (slider) in the element mounting area, the cover layer is usually in the element mounting area. 1 The cover layer is not formed on the insulating layer. For example, when the first terminal portion and the second terminal portion are used for connection to an external circuit in the external terminal forming portion, the cover layer is usually formed so that the terminal ends are not exposed. Can be.

本発明におけるカバー層の形成方法としては、上記カバー層を所望の領域に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、上記カバー層の材料を含むカバー層形成用塗工液を塗工し乾燥することにより塗膜を形成した後、上記塗膜上にレジストをパターン状に配置して、エッチング液を用いたウェットエッチングを用いることができる。なお、レジストのパターンとしては、例えば、上記端子部が形成される領域に開口部を有するものを用いることができる。このような方法によれば、上記端子部が露出し、かつ、上記外部端子形成部において上記端子部の端子端が覆われ、上記素子実装領域内において上記端子部の端子端を露出するカバー層を一度のパターニングで形成することができる。   The method for forming the cover layer in the present invention is not particularly limited as long as the cover layer can be formed in a desired region. For example, a cover layer forming coating solution containing the material for the cover layer is used. After forming a coating film by coating and drying, a resist is arranged in a pattern on the coating film, and wet etching using an etching solution can be used. As the resist pattern, for example, a resist pattern having an opening in a region where the terminal portion is formed can be used. According to such a method, the cover layer exposes the terminal portion, covers the terminal end of the terminal portion in the external terminal forming portion, and exposes the terminal end of the terminal portion in the element mounting region. Can be formed by one patterning.

(c)シード層
本発明におけるシード層は、上述の絶縁層および導体層の間、具体的には、上記第1および第2導体層と上記第1および第2絶縁層の間や、上記第1絶縁層および第1端子部金属層の間等に形成される金属薄膜層である。
本発明においては、このようなシード層を有することにより、上記絶縁層上に、電解めっき法により容易に導体層(第1導体層および第2導体層等)を形成することができる。
このようなシード層としては、通常、例えばCuを含む金属薄膜層であることが好ましい。上記シード層の厚さは、例えば0.05μm〜2.0μmの範囲内であり、0.1μm〜1.0μmの範囲内であることが好ましい。また、シード層の形成方法は、特に限定されるものではないが、例えばスパッタリング法等を挙げることができる。
(C) Seed layer The seed layer in the present invention is formed between the insulating layer and the conductor layer, specifically, between the first and second conductor layers and the first and second insulating layers, or the first layer. 1 is a metal thin film layer formed between the insulating layer and the first terminal portion metal layer.
In the present invention, by including such a seed layer, conductor layers (first conductor layer, second conductor layer, etc.) can be easily formed on the insulating layer by electrolytic plating.
Such a seed layer is usually preferably a metal thin film layer containing Cu, for example. The thickness of the seed layer is, for example, in the range of 0.05 μm to 2.0 μm, and preferably in the range of 0.1 μm to 1.0 μm. Moreover, the formation method of a seed layer is not specifically limited, For example, sputtering method etc. can be mentioned.

(d)拡散防止層
本発明における拡散防止層は、上記シード層と上記絶縁層との間、具体的には、上記シード層と第1および第2絶縁層の間等に形成される金属薄膜層である。
本発明においては、このような拡散防止層を有することにより、上記第1および第2導体層等の導体層の材料が第1および第2絶縁層に拡散することを抑制することができる。
このような拡散防止層としては、例えばCrを含む金属薄膜層であることが好ましい。上記拡散防止層の厚さは、例えば1.0nm〜5.0μmの範囲内であり、5.0nm〜2.0μmの範囲内であることが好ましい。また、拡散防止層の形成方法は、特に限定されるものではないが、例えばスパッタリング法等を挙げることができる。
(D) Diffusion prevention layer The diffusion prevention layer in the present invention is a metal thin film formed between the seed layer and the insulating layer, specifically, between the seed layer and the first and second insulating layers. Is a layer.
In the present invention, by having such a diffusion preventing layer, it is possible to suppress the material of the conductor layers such as the first and second conductor layers from diffusing into the first and second insulating layers.
As such a diffusion preventing layer, for example, a metal thin film layer containing Cr is preferable. The thickness of the diffusion preventing layer is, for example, in the range of 1.0 nm to 5.0 μm, and preferably in the range of 5.0 nm to 2.0 μm. Moreover, the formation method of a diffusion prevention layer is not specifically limited, For example, sputtering method etc. can be mentioned.

(e)配線めっき層
本発明における配線めっき層は、通常、上述の導体層の表面のうち上記カバー層や絶縁層等に被覆されない露出した表面に形成されるものである。
本発明においては、このようは配線めっき層を有することにより、上記導体層が劣化等することを抑制することができる。
このような配線めっき層の材料としては、ニッケル(Ni)、金(Au)等を挙げることができる。
(E) Wiring plating layer The wiring plating layer in this invention is normally formed in the exposed surface which is not coat | covered with the said cover layer, an insulating layer, etc. among the surfaces of the above-mentioned conductor layer.
In this invention, it can suppress that the said conductor layer deteriorates by having a wiring plating layer in this way.
Examples of the material for the wiring plating layer include nickel (Ni) and gold (Au).

(f)密着性向上層
本発明における密着性向上層は、上記導体層間、具体的には、上記枕部および枕部導体層間、上記第1端子部金属層および第3導体層間等に形成されるものである。
本発明においては、このような密着性向上層を有することより、上記導体層間を密着性に優れたものとすることができる。またその結果、両者の密着性を向上させることで、接続信頼性に優れたものとすることができるからである。さらに、密着性向上層を構成する金属として、上記導体層を構成する金属よりも硬度および/または引張り強度の高いものを用いることで、機械的強度をさらに向上させることができる。さらに、上記密着性向上層を有することにより、エッチング液による先に形成された導体層の劣化を防止することもできるからである。
本発明における密着性向上層は、通常、金属めっき層であり、具体的には、Cr、Ni、Zn、Pd、Ag、Sn、Ti、Auからなる群から選択される少なくとも一種の金属を含む金属めっき層を挙げることができ、中でもNiめっき層であることが好ましい。安価であり、充分な密着性を発揮することができるからである。上記密着性向上層の形成方法としては、例えば電解めっき法および無電解めっき法等を挙げることができ、中でも電解めっき法が好ましい。また、上記密着性向上層の厚さとしては、例えば、0.05μm〜5.0μmの範囲内、中でも0.1μm〜2.0μmの範囲内であることが好ましい。上記密着性向上層の厚さが小さすぎると、充分な密着性を発揮できない可能性があり、上記密着性向上層の厚さが大きすぎると、電気特性が悪くなる可能性があるからである。なお、電気特性が悪くなる理由は、上記密着性向上層は、通常、上記第1端子部金属層や枕部導体層等よりも導電性が劣るためである。
(F) Adhesion Improvement Layer The adhesion improvement layer in the present invention is formed between the conductor layers, specifically, the pillow part and the pillow part conductor layer, the first terminal part metal layer, the third conductor layer, and the like. Is.
In the present invention, by having such an adhesion improving layer, the conductor layer can be made excellent in adhesion. Moreover, as a result, it is because it can be made excellent in connection reliability by improving both adhesiveness. Furthermore, mechanical strength can be further improved by using a metal having a higher hardness and / or tensile strength than the metal constituting the conductor layer as the metal constituting the adhesion improving layer. Further, by having the adhesion improving layer, it is possible to prevent deterioration of the conductor layer previously formed by the etching solution.
The adhesion improving layer in the present invention is usually a metal plating layer, and specifically includes at least one metal selected from the group consisting of Cr, Ni, Zn, Pd, Ag, Sn, Ti, and Au. A metal plating layer can be mentioned, and among these, a Ni plating layer is preferable. This is because it is inexpensive and can exhibit sufficient adhesion. Examples of the method for forming the adhesion improving layer include an electrolytic plating method and an electroless plating method. Among them, the electrolytic plating method is preferable. Moreover, as thickness of the said adhesive improvement layer, it is preferable that it exists in the range of 0.05 micrometer-5.0 micrometers, for example, especially in the range of 0.1 micrometer-2.0 micrometers. This is because if the thickness of the adhesion improving layer is too small, sufficient adhesion may not be exhibited, and if the thickness of the adhesion improving layer is too large, electrical characteristics may be deteriorated. . The reason why the electrical characteristics are deteriorated is that the adhesion improving layer is usually inferior in conductivity to the first terminal part metal layer, the pillow part conductor layer, and the like.

B.配線付フレキシャー基板の製造方法
次に、配線付フレキシャー基板の製造方法について説明する。
本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法は、第1絶縁層と、上記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、上記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、上記第2絶縁層上に上記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の配線形成部、ならびに上記配線形成部の端部に形成され、上記第1絶縁層上に配置され、上記第1導体層と接続する第1端子部、および上記第1絶縁層上に配置され、上記第2導体層と接続する第2端子部を有する端子形成部、を有する配線付フレキシャー基板であって、上記第2導体層と上記第2端子部とを接続する接続領域では、上記第1導体層と同一材料で形成され、第1導体層とは絶縁されている枕部が形成されており、上記第2導体層と上記第2端子部とは、上記枕部上に形成された枕部導体層を介して接続されている配線付フレキシャー基板の製造方法であって、上記枕部、上記第1導体層および上記第1端子部に含まれる第1端子部金属層を同時に形成する枕部形成工程を有することを特徴とするものである。
B. Next, a method for manufacturing a flexure substrate with wiring will be described.
The method of manufacturing a flexure substrate with wiring of the present invention includes a first insulating layer, a first conductor layer formed on the first insulating layer, a second insulating layer formed on the first conductor layer, A laminated wiring forming portion having a second conductor layer formed on the second insulating layer so as to overlap the first conductor layer in the thickness direction, and formed at an end of the wiring forming portion; A terminal having a first terminal portion disposed on the first insulating layer and connected to the first conductor layer, and a second terminal portion disposed on the first insulating layer and connected to the second conductor layer. A wiring flexure substrate having a forming portion, wherein the connection region connecting the second conductor layer and the second terminal portion is formed of the same material as the first conductor layer, An insulated pillow part is formed, and the second conductor layer and the second terminal part are It is a manufacturing method of the flexure board | substrate with wiring connected via the pillow part conductor layer formed on the said pillow part, Comprising: The 1st contained in the said pillow part, the said 1st conductor layer, and the said 1st terminal part It has the pillow part formation process which forms a terminal part metal layer simultaneously.

このような本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法について図を参照して説明する。図19、本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法の一例を示す概略工程図である。また、図20は図19のI−I線断面図である。図19および図20に例示するように、金属基板1を準備し、上記金属基板1の表面上に第1絶縁層2a、上記第1絶縁層2a上にスパッタリング法を用いてシード層(図示せず)を形成し、その後、上記シード層上に、電解めっき法により第1導体層形成用層3aXを形成することにより積層体を形成する。
その後、図19(a)および図20(a)に示すように、ドライフィルムレジスト(DFR)を用いてレジスト17を形成し、次いで、図19(b)および図20(b)に例示するようにウェットエッチングを行い、上記第1導体層形成用層3aXから、上記第1導体層3a、上記枕部4および上記第1端子部金属層3aaを同時に形成した後、レジストを剥離する。
次に、図19(c)および図20(c)に例示するように、上記第1導体層3a、上記枕部4および上記第1端子部金属層3aaを覆うように第2絶縁層形成用層2bXを形成し、次いで、DFRを用いてレジストを形成し、レジストから露出する第2絶縁層形成用層2bXをウェットエッチングし、上記第1導体層3aおよび枕部4の一部を覆うように形成された第2絶縁層2bを形成する。
次いで、図19(d)および図20(d)に例示するように、上記第2絶縁層2b上、上記枕部4上および上記第1絶縁層2a上に連続して形成され、階段形状である上記第2導体層3b、枕部導体層3b´´および第2端子部金属層3bbからなる第2端子部3b´と、上記第1端子部金属層3aaおよび上記第1端子部金属層3aa上に形成された第3導体層16を含む第1端子部3a´とを、めっき法により同時に形成し、さらにその後、端子形成部11に開口を有するカバー層5を形成することにより、配線付フレキシャー基板10を得る。
なお、図19(b)および図20(b)が上記枕部形成工程であり、図19(d)および図20(d)が第2導体層形成工程である。また、図19および図20中の符号については、図2〜図4のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
The manufacturing method of such a flexure substrate with wiring of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 19 is a schematic process diagram showing an example of a method for manufacturing a flexure substrate with wiring according to the present invention. 20 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. As illustrated in FIGS. 19 and 20, a metal substrate 1 is prepared, a first insulating layer 2a is formed on the surface of the metal substrate 1, and a seed layer (not shown) is formed on the first insulating layer 2a by sputtering. After that, the first conductor layer forming layer 3aX is formed on the seed layer by electrolytic plating to form a laminate.
Thereafter, as shown in FIGS. 19A and 20A, a resist 17 is formed using a dry film resist (DFR), and then, as illustrated in FIGS. 19B and 20B. The first conductor layer 3a, the pillow part 4 and the first terminal part metal layer 3aa are simultaneously formed from the first conductor layer forming layer 3aX, and then the resist is peeled off.
Next, as illustrated in FIGS. 19C and 20C, the second insulating layer is formed so as to cover the first conductor layer 3a, the pillow portion 4, and the first terminal portion metal layer 3aa. The layer 2bX is formed, and then a resist is formed using DFR, and the second insulating layer forming layer 2bX exposed from the resist is wet-etched so as to cover a part of the first conductor layer 3a and the pillow portion 4 The second insulating layer 2b formed in (1) is formed.
Next, as illustrated in FIG. 19D and FIG. 20D, it is continuously formed on the second insulating layer 2b, the pillow portion 4 and the first insulating layer 2a, and has a stepped shape. A second terminal portion 3b ′ comprising the second conductor layer 3b, the pillow portion conductor layer 3b ″ and the second terminal portion metal layer 3bb; the first terminal portion metal layer 3aa and the first terminal portion metal layer 3aa; The first terminal portion 3a ′ including the third conductor layer 16 formed thereon is simultaneously formed by plating, and then the cover layer 5 having an opening is formed in the terminal forming portion 11, thereby providing wiring. A flexure substrate 10 is obtained.
In addition, FIG.19 (b) and FIG.20 (b) are the said pillow part formation process, FIG.19 (d) and FIG.20 (d) are the 2nd conductor layer formation process. 19 and 20 indicate the same members as those shown in FIGS. 2 to 4, and a description thereof will be omitted here.

本発明によれば、上記枕部形成工程を有することにより、上記端子形成部における枕部を容易に形成することができる。すなわち、断線不良がなく、導体層のパターン精度に優れた配線付フレキシャー基板を容易に形成することができる。   According to this invention, the pillow part in the said terminal formation part can be easily formed by having the said pillow part formation process. That is, it is possible to easily form a flexure substrate with wiring having no disconnection failure and excellent pattern accuracy of the conductor layer.

本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法は、上記枕部形成工程を少なくとも有するものである。また、上記第2導体層、上記枕部導体層および上記第2端子部に含まれる第2端子部金属層を同時に形成する第2導体層形成工程を通常有するものである。
以下、本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法の各工程について説明する。
なお、本発明により得られる配線付フレキシャー基板については、上記「A.配線付フレキシャー基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
The manufacturing method of the flexure substrate with wiring of this invention has the said pillow part formation process at least. Moreover, it usually has a second conductor layer forming step of simultaneously forming the second conductor layer, the pillow portion conductor layer, and the second terminal portion metal layer included in the second terminal portion.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of the flexure board | substrate with wiring of this invention is demonstrated.
Note that the flexure substrate with wiring obtained by the present invention is the same as the contents described in the above-mentioned “A. Flexure substrate with wiring”, and therefore description thereof is omitted here.

1.枕部形成工程
本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法における枕部形成工程は、上記枕部、上記第1導体層および上記第1端子部金属層を同時に形成する工程である。
1. Pillow part formation process The pillow part formation process in the manufacturing method of the flexure substrate with wiring of this invention is a process of forming the said pillow part, the said 1st conductor layer, and the said 1st terminal part metal layer simultaneously.

本工程において、上記枕部、上記第1導体層および上記第1端子部金属層を同時に形成する方法としては、これらを安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、既に説明した図19および図20に示すように、積層体(三層材)を出発材料として、上記第1導体層形成用層の上記枕部、上記第1導体層および上記第1端子部金属層を形成する領域上にレジストを形成した後エッチングするサブトラクト法を用いる方法や、上記第1絶縁層上に上記枕部、上記第1導体層および上記第1端子部金属層を形成する領域に開口を有するレジストを形成した後、めっき法等のアディティブ法を用いて形成する方法を挙げることができる。
本工程においては、なかでも、エッチング工程を用いるサブトラクト法を用いる方法が好ましい。全面へのめっき後にエッチングすることによって面内のめっき厚バラツキをアディティブ方式よりも低減でき、シード層を除去する工程が短縮できるからである。
In this step, the method for simultaneously forming the pillow portion, the first conductor layer, and the first terminal portion metal layer is not particularly limited as long as they can be stably formed. 19 and FIG. 20, which have already been described, using the laminate (three-layer material) as a starting material, the pillow portion, the first conductor layer, and the first terminal portion of the first conductor layer forming layer. A method using a subtracting method of etching after forming a resist on a region where a metal layer is to be formed, or a region where the pillow portion, the first conductor layer, and the first terminal portion metal layer are formed on the first insulating layer. Examples thereof include a method in which a resist having an opening is formed and then formed using an additive method such as a plating method.
In this step, among these, a method using a subtract method using an etching step is preferable. This is because by performing etching after plating on the entire surface, in-plane plating thickness variation can be reduced as compared with the additive method, and the process of removing the seed layer can be shortened.

本工程においては、上記第1端子部金属層が溝部として貫通部を有するものである場合には、上記枕部の形成と同時に上記溝部を形成する方法であることが好ましい。上記溝部を有する枕部を容易に形成できるからである。
なお、上記溝部として貫通部を形成する方法としては、具体的には、上述の上記枕部等を同時に形成する方法において、サブトラクト法において上記溝部を形成する領域に開口部を有するレジストを用いる方法や、アディティブ法において上記溝部を形成する領域にレジストを形成する方法等を挙げることができる。
In this step, when the first terminal part metal layer has a through part as a groove part, it is preferable to form the groove part simultaneously with the formation of the pillow part. It is because the pillow part which has the said groove part can be formed easily.
In addition, as a method of forming a through portion as the groove portion, specifically, in the method of simultaneously forming the above-described pillow portion or the like, a method of using a resist having an opening in the region where the groove portion is formed in the subtract method. In addition, a method of forming a resist in a region where the groove is formed in the additive method can be used.

本工程における積層体の形成方法は、上記各部材が安定的に積層したものとすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、上記金属基板、第1絶縁層、第1導体層形成用層をこの順で形成する方法を挙げることができる。また、本工程においては、上記第1絶縁層形成用層上にシード層を形成した後に、上記第1導体層形成用層を形成する方法であっても良い。   The formation method of the laminated body in this step is not particularly limited as long as each member can be stably laminated. For example, the metal substrate, the first insulating layer, the first A method of forming the conductor layer forming layer in this order can be mentioned. Moreover, in this process, after forming a seed layer on the said 1st insulating layer formation layer, the method of forming the said 1st conductor layer formation layer may be sufficient.

本工程において、上記積層体に含まれる第1絶縁層の形成方法としては、上記第1絶縁層を構成する材料を含む第1絶縁層形成用塗工液を上記金属基板上に塗布・硬化させる方法を挙げることができる。   In this step, as a method for forming the first insulating layer included in the laminate, a first insulating layer forming coating solution containing a material constituting the first insulating layer is applied and cured on the metal substrate. A method can be mentioned.

また、上記積層体における第1導体層形成用層の形成方法としては、上記第1絶縁層上に、電解めっき法および無電解めっき法等のめっき法、ならびにスパッタリング法により上記第1導体層を構成する材料からなる層を形成する方法を挙げることができる。   Further, as a method for forming the first conductor layer forming layer in the laminate, the first conductor layer is formed on the first insulating layer by a plating method such as an electrolytic plating method and an electroless plating method, and a sputtering method. The method of forming the layer which consists of the material to comprise can be mentioned.

本工程において用いられるレジストとしては、上記パターンを安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ドライフィルムレジスト等を用いることができる。   The resist used in this step is not particularly limited as long as the above pattern can be stably formed. For example, a dry film resist or the like can be used.

また、エッチング方法としては、所望のパターンにエッチングできる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、エッチング液を用いたウェットエッチングを用いることができる。   The etching method is not particularly limited as long as it can be etched into a desired pattern. For example, wet etching using an etchant can be used.

本工程においてウェットエッチングに用いられるエッチング液としては、上記第1導体層形成用層を精度よくエッチングできるものであれば特に限定されるものではなく、各材料の特性を考慮して、適宜選択することが好ましい。例えば、上記枕部、上記第1導体層および上記第1端子部金属層に銅を用いている場合には、エッチング液として、例えば塩化鉄系エッチング液を用いることができる。   The etching solution used for wet etching in this step is not particularly limited as long as it can accurately etch the first conductor layer forming layer, and is appropriately selected in consideration of the characteristics of each material. It is preferable. For example, when copper is used for the pillow part, the first conductor layer, and the first terminal part metal layer, for example, an iron chloride based etchant can be used as the etchant.

なお、本工程により形成される枕部、第1導体層および第1端子部金属層については、上記「A.配線付フレキシャー基板」の項に記載の内容と同様であるのでここでの説明は省略する。   The pillow part, the first conductor layer, and the first terminal part metal layer formed in this step are the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Flexure substrate with wiring”, so the explanation here is as follows. Omitted.

2.第2導体層形成工程
本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法における第2導体層形成工程は、上記第2導体層、上記枕部導体層および上記第2端子部金属層を同時に形成する工程である。
2. 2nd conductor layer formation process The 2nd conductor layer formation process in the manufacturing method of the flexure board | substrate with wiring of this invention is a process of forming the said 2nd conductor layer, the said pillow part conductor layer, and the said 2nd terminal part metal layer simultaneously. is there.

このような上記第2導体層、上記枕部導体層および上記第2端子部金属層の形成方法としては、上記第2導体層等を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、上記第2導体層等を形成する領域に開口を有するレジストを形成した後、めっき法等のアディティブ法により上記第2導体層等を形成する方法を挙げることができる。
本工程においては、上記第1端子部金属層上に、上記第2端子部金属層と同一材料の第3導体層を有する場合には、上記第2端子部金属層の形成と同時に上記第3導体層を形成する方法であることが好ましい。上記第3導体層を容易に形成できるからである。
なお、上記第2端子部金属層および第3導体層を同時に形成する方法としては、両者を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、上記レジストとして、上記第2導体層、上記枕部導体層、上記第2端子部金属層および上記第3導体層を形成する領域に開口を有するレジストを用いる方法を挙げることができる。
The method for forming the second conductor layer, the pillow portion conductor layer, and the second terminal portion metal layer is not particularly limited as long as the second conductor layer and the like can be stably formed. For example, after forming the resist which has an opening in the area | region which forms the said 2nd conductor layer etc., the method of forming the said 2nd conductor layer etc. by additive methods, such as a plating method, can be mentioned.
In this step, when the third conductor layer made of the same material as the second terminal portion metal layer is formed on the first terminal portion metal layer, the third terminal portion is formed simultaneously with the formation of the second terminal portion metal layer. A method of forming a conductor layer is preferred. This is because the third conductor layer can be easily formed.
The method for simultaneously forming the second terminal portion metal layer and the third conductor layer is not particularly limited as long as both methods can be stably formed. For example, as the resist, The method of using the resist which has an opening in the area | region which forms a conductor layer, the said pillow part conductor layer, the said 2nd terminal part metal layer, and the said 3rd conductor layer can be mentioned.

本工程においては、特に、形成される第2端子部金属層および/または第3導体層が溝部として貫通部を有するものである場合には、上記第2導体層、上記枕部導体層および上記第2端子部金属層の形成と同時に上記溝部を形成する方法であることが好ましい。上記溝部を有する第2導体層等を容易に形成できるからである。
なお、上記溝部として貫通部を形成する方法としては、具体的には、上述の第2導体層等の形成方法において、上記溝部を形成する領域にレジストを形成する方法等を挙げることができる。
In this step, in particular, when the second terminal metal layer and / or the third conductor layer to be formed have a through portion as a groove, the second conductor layer, the pillow portion conductor layer, and the above It is preferable that the groove is formed simultaneously with the formation of the second terminal portion metal layer. This is because the second conductor layer having the groove can be easily formed.
In addition, as a method for forming the through portion as the groove portion, specifically, in the method for forming the second conductor layer and the like, a method for forming a resist in a region where the groove portion is to be formed can be exemplified.

本工程において用いられるレジスト等については、上記「1.枕部形成工程」に記載の内容と同様とすることができる。   About the resist etc. which are used in this process, it can be made the same as the content as described in said "1.

なお、本工程により形成される第2導体層等については、上記「A.配線付フレキシャー基板」の項に記載の内容と同様であるのでここでの説明は省略する。   The second conductor layer and the like formed in this step are the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Flexure substrate with wiring”, and thus the description thereof is omitted here.

3.配線付フレキシャー基板の製造方法
本発明の配線付フレキシャー基板の製造方法は、上記枕部形成工程を少なくとも有し、上記第2導体層形成工程を通常有するものであるが、必要に応じて他の工程を有するものであっても良い。
このような他の工程としては、例えば、上記第1絶縁層および第2絶縁層を形成する絶縁層形成工程や、上記カバー層を形成するカバー層形成工程を挙げることができる。上記絶縁層およびカバー層を形成する方法としては、構成材料が感光性材料からなるものである場合には、それぞれの材料を含む塗膜を露光・現像する方法を用いることができる。また、上記構成材料が非感光性材料である場合には、上記塗膜上にレジストを形成し、エッチングする方法を用いることができる。なお、露光・現像方法、エッチング方法については、配線付フレキシャー基板の形成に一般的に使用される方法を用いることができる。
また、本発明においては、上記端子形成部等において露出する上記各導体層の表面に、配線めっき層を形成する配線めっき層形成工程を有するものとすることができる。なお、上記配線めっき層形成工程において配線めっき層を形成する方法としては、例えば、電解めっき法を挙げることができる。
3. Manufacturing method of flexure substrate with wiring The manufacturing method of a flexure substrate with wiring of the present invention has at least the pillow part forming step and usually has the second conductor layer forming step. It may have a process.
Examples of such other processes include an insulating layer forming process for forming the first insulating layer and the second insulating layer, and a cover layer forming process for forming the cover layer. As a method of forming the insulating layer and the cover layer, when the constituent material is a photosensitive material, a method of exposing and developing a coating film containing each material can be used. Moreover, when the said constituent material is a non-photosensitive material, the method of forming a resist on the said coating film and etching can be used. As the exposure / development method and the etching method, methods generally used for forming a flexure substrate with wiring can be used.
Moreover, in this invention, it can have a wiring plating layer formation process which forms a wiring plating layer in the surface of each said conductor layer exposed in the said terminal formation part. In addition, as a method of forming a wiring plating layer in the wiring plating layer forming step, for example, an electrolytic plating method can be exemplified.

C.配線付フレキシャー
次に、本発明の配線付フレキシャーについて説明する。本発明の配線付フレキシャーは、上述した配線付フレキシャー基板を含むことを特徴とするものである。
C. Next, the flexure with wiring of the present invention will be described. The flexure with wiring of the present invention includes the above-described flexure substrate with wiring.

本発明によれば、上述した配線付フレキシャー基板を用いることで、接続安定性に優れた配線付フレキシャーとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described flexure substrate with wiring, a flexure with wiring excellent in connection stability can be obtained.

図21は、本発明の配線付フレキシャーの一例を示す概略平面図である。図21に示される配線付フレキシャー30は、上述した配線付フレキシャー基板10と、素子実装領域20が形成されている表面とは反対側の配線付フレキシャー基板10の表面に備え付けられたロードビーム31とを有するものである。   FIG. 21 is a schematic plan view showing an example of a flexure with wiring according to the present invention. A wiring flexure 30 shown in FIG. 21 includes the above-described wiring flexure substrate 10 and a load beam 31 provided on the surface of the wiring flexure substrate 10 opposite to the surface on which the element mounting region 20 is formed. It is what has.

本発明の配線付フレキシャーは、少なくとも配線付フレキシャー基板を有し、通常は、さらにロードビームを有する。配線付フレキシャー基板については、上記「A.配線付フレキシャー基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、ロードビームは、一般的な配線付フレキシャーに用いられるロードビームと同様のものを用いることができる。   The flexure with wiring of the present invention has at least a flexure substrate with wiring, and usually further has a load beam. Since the flexure substrate with wiring is the same as that described in “A. Flexure substrate with wiring”, description thereof is omitted here. Further, the load beam can be the same as the load beam used for a general wiring flexure.

D.素子付配線付フレキシャー
次に、本発明の素子付配線付フレキシャーについて説明する。本発明の素子付配線付フレキシャーは、上述した配線付フレキシャーと、上記配線付フレキシャーの素子実装領域に実装された素子と、を有することを特徴とするものである。
D. Next, the flexure with wiring with elements of the present invention will be described. The flexure with wiring of the present invention has the above-mentioned flexure with wiring and the element mounted in the element mounting region of the above-mentioned flexure with wiring.

本発明によれば、上述した配線付フレキシャーを用いることで、接続安定性に優れた素子付配線付フレキシャーとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described flexure with wiring, a flexure with wiring with an element excellent in connection stability can be obtained.

図22は、本発明の素子付配線付フレキシャーの一例を示す概略平面図である。図22に示される素子付配線付フレキシャー40は、上述した配線付フレキシャー30と、配線付フレキシャー30の素子実装領域20に実装された素子41とを有するものである。   FIG. 22 is a schematic plan view showing an example of the flexure with an element wiring according to the present invention. A wiring-equipped flexure 40 with elements shown in FIG. 22 includes the above-described flexure 30 with wiring and elements 41 mounted in the element mounting region 20 of the flexure 30 with wiring.

本発明の素子付配線付フレキシャーは、少なくとも配線付フレキシャーおよび素子を有するものである。配線付フレキシャーについては、上記「C.配線付フレキシャー」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   The wiring-equipped flexure with elements of the present invention has at least a wiring-equipped flexure and elements. The flexure with wiring is the same as the contents described in the above “C. Flexure with wiring”, and therefore description thereof is omitted.

E.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述した素子付配線付フレキシャーを含むことを特徴とするものである。
E. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive according to the present invention includes the above-described flexure with wiring with elements.

本発明によれば、上述した素子付配線付フレキシャーを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described flexure with wiring with elements.

図23は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図23に示されるハードディスクドライブ50は、上述した素子付配線付フレキシャー40と、素子付配線付フレキシャー40がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク51と、ディスク51を回転させるスピンドルモータ52と、素子付配線付フレキシャー40の素子を移動させるアーム53およびボイスコイルモータ54と、上記の部材を密閉するケース55とを有するものである。   FIG. 23 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. The hard disk drive 50 shown in FIG. 23 includes the above-described wiring-equipped flexure 40 with elements, the disk 51 on which the wiring-equipped flexure 40 with elements writes and reads data, the spindle motor 52 that rotates the disk 51, and the elements. It has an arm 53 and a voice coil motor 54 for moving the elements of the flexure 40 with wiring, and a case 55 for sealing the above members.

本発明のハードディスクドライブは、少なくとも素子付配線付フレキシャーを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。素子付配線付フレキシャーについては、上記「C.素子付配線付フレキシャー」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a flexure with wiring with elements, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. About the flexure with a wiring with an element, since it is the same as the content described in the above-mentioned "C. flexure with a wiring with an element", description here is abbreviate | omitted. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

[実施例1]
まず、金属基板1、第1絶縁層、第1導体層を有する積層材を用意した。ここで、金属基板1は厚さ20μmのSUS304であり、第1絶縁層2aは厚さ10μmのポリイミドであり、第1導体層3aは厚さ5μmの電解Cuであった。
次に、図19(b)に示すように、積層材のエッチングを行い、枕部4と第1導体層3aを同時に形成した。
次に図19(c)に示すように、第2絶縁層2b(ポリイミド、厚さ10μm)を形成した。なお、第2絶縁層2bの厚さとは、第1導体層3a(または枕部4)の頂部から、第2絶縁層2bの頂部までの厚さをいう。
[Example 1]
First, a laminated material having a metal substrate 1, a first insulating layer, and a first conductor layer was prepared. Here, the metal substrate 1 was SUS304 having a thickness of 20 μm, the first insulating layer 2a was polyimide having a thickness of 10 μm, and the first conductor layer 3a was electrolytic Cu having a thickness of 5 μm.
Next, as shown in FIG. 19B, the laminated material was etched to form the pillow portion 4 and the first conductor layer 3a at the same time.
Next, as shown in FIG. 19C, a second insulating layer 2b (polyimide, thickness 10 μm) was formed. The thickness of the second insulating layer 2b refers to the thickness from the top of the first conductor layer 3a (or the pillow portion 4) to the top of the second insulating layer 2b.

次に、スパッタリング法により、拡散抑制層(Cr薄膜層、厚さ0.06μm)およびシード層(Cu薄膜層、厚さ0.3μm)を全面形成した。
その後、シード層の表面に所定のレジストパターンを作製し、電解銅めっきにより、第2導体層(厚さ5μm)を形成した。次に、レジストパターンを剥離し、不要なシード層6および拡散抑制層7をウェットエッチングにより除去し、図20(d)に示すように、カバー層5(ポリイミド、厚さ5μm)を形成し、図20(d)に示すように、端子形成部11を形成する位置の第2導体層3bをウェットエッチングにより除去した。
最後に、図20(d)に示すように、端子形成部11において露出する第2導体層3bの表面に、Niめっき(厚さ0.2μm)およびAuめっき(厚さ2.5μm)を行うことにより、配線めっき層8を形成し、図3に示すような配線回路基板を得た。
Next, a diffusion suppression layer (Cr thin film layer, thickness 0.06 μm) and a seed layer (Cu thin film layer, thickness 0.3 μm) were formed over the entire surface by sputtering.
Thereafter, a predetermined resist pattern was produced on the surface of the seed layer, and a second conductor layer (thickness 5 μm) was formed by electrolytic copper plating. Next, the resist pattern is peeled off, the unnecessary seed layer 6 and the diffusion suppressing layer 7 are removed by wet etching, and a cover layer 5 (polyimide, thickness 5 μm) is formed as shown in FIG. As shown in FIG. 20D, the second conductor layer 3b at the position where the terminal forming portion 11 is formed was removed by wet etching.
Finally, as shown in FIG. 20 (d), Ni plating (thickness 0.2 μm) and Au plating (thickness 2.5 μm) are performed on the surface of the second conductor layer 3 b exposed in the terminal forming portion 11. Thereby, the wiring plating layer 8 was formed, and a printed circuit board as shown in FIG. 3 was obtained.

[実施例2]
実施例1のように金属基板1、第1絶縁層、第1導体層を有する積層材を用意した。次に、図15(a)に示すように、積層材のエッチングを行い、上記枕部4および第1導体層3aを形成する際に、上記枕部4と第1導体層3aをハーフエッチングを行い、凹凸部を同時に形成した。本エッチング工程により凹凸部を形成したこと以外は実施例1と同様にして、配線回路基板を得た。
[Example 2]
As in Example 1, a laminated material having a metal substrate 1, a first insulating layer, and a first conductor layer was prepared. Next, as shown in FIG. 15A, when the laminated material is etched to form the pillow part 4 and the first conductor layer 3a, the pillow part 4 and the first conductor layer 3a are half-etched. The uneven part was formed at the same time. A printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the uneven portion was formed by this etching step.

[実施例3]
図16(a)に示すように積層材のエッチングにより枕部4と第1導体層3aに貫通穴を形成する工程以外は実施例1と同様にして、配線回路基板を得た。
[Example 3]
As shown in FIG. 16A, a printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that a through hole was formed in the pillow portion 4 and the first conductor layer 3a by etching the laminated material.

[実施例4]
図17(a)に示すように積層材のエッチングにより枕部4と第1導体層3aに凸部を形成する工程以外は実施例1と同様にして、配線回路基板を得た。
[Example 4]
As shown in FIG. 17A, a printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the protrusions were formed on the pillow portion 4 and the first conductor layer 3a by etching the laminated material.

[実施例5]
金属基板1、第1絶縁層、第1導体層を有する積層材を用意し、実施例1と同様に、図20(c)に示すようにエッチングを行った。次に、図3に示すように、スパッタリング法により、拡散抑制層7およびシード層6を全面形成した。
その後、シード層6の表面に所定のレジストパターンを作製し、電解銅めっきにより、第2導体層3bを図13に示すように貫通穴形状で形成し、配線回路基板を得た。
[Example 5]
A laminated material having a metal substrate 1, a first insulating layer, and a first conductor layer was prepared, and etching was performed as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 3, the diffusion suppression layer 7 and the seed layer 6 were formed on the entire surface by sputtering.
Thereafter, a predetermined resist pattern was formed on the surface of the seed layer 6, and the second conductor layer 3b was formed in a through hole shape as shown in FIG. 13 by electrolytic copper plating to obtain a printed circuit board.

[実施例6]
第2導体層3bを図14の(a)に示すように凸形状で形成したこと以外は実施例5と同様にして、配線回路基板を得た。
[Example 6]
A printed circuit board was obtained in the same manner as in Example 5 except that the second conductor layer 3b was formed in a convex shape as shown in FIG.

[実施例7]
図3に示すように、第2導体層3bまでを形成した基材に対して上記第2導体層3bをハーフエッチングし、図12(a)に示すような形状とした以外は実施例5と同様にして、配線回路基板を得た。
[Example 7]
As shown in FIG. 3, the second conductor layer 3b is half-etched with respect to the base material on which the second conductor layer 3b is formed, and the shape shown in FIG. Similarly, a printed circuit board was obtained.

[実施例8]
図10に示すように表裏に端子部を形成する部分においては、実施例1と同様に、枕部及び第1導体層をウェットエッチングにより形成した後、図10に示すように、上記第2端子部3b´が形成される領域の金属支持基板1をウェットエッチングにより除去する。
その後はカバー層5までを実施例1と同様に形成した後、上記第2端子部3b´が形成される領域の第1絶縁層2aをウェットエッチングにより除去する以外は実施例1と同様とし、配線回路基板を得た。
[Example 8]
As shown in FIG. 10, in the portions where the terminal portions are formed on the front and back surfaces, the pillow portion and the first conductor layer are formed by wet etching in the same manner as in Example 1. Then, as shown in FIG. The metal support substrate 1 in the region where the portion 3b ′ is formed is removed by wet etching.
Thereafter, up to the cover layer 5 is formed in the same manner as in Example 1, and then the same as in Example 1 except that the first insulating layer 2a in the region where the second terminal portion 3b 'is formed is removed by wet etching. A printed circuit board was obtained.

得られた配線回路基板の断線の有無を確認したところ、上記第2導体層〜上記第2端子部までが断線することなく形成できたことが確認できた。   When the presence or absence of disconnection of the obtained printed circuit board was confirmed, it was confirmed that the second conductor layer to the second terminal portion could be formed without disconnection.

1 … 金属基板
2a … 第1絶縁層
2b … 第2絶縁層
3 … 配線
3X … ライト配線
3Y … リード配線
3a … 第1導体層
3aa … 第1端子部金属層
3a´ … 第1端子部
3b … 第2導体層
3bb … 第2端子部金属層
3b´ … 第2端子部
3b´´ … 枕部導体層
4 … 枕部
5 … カバー層
6 … シード層
7 … 拡散防止層
8 … 配線めっき層
10 … 配線付フレキシャー基板
11 … 端子形成部
12 … 接続領域
13 … 中間部
14 … 配線形成部
16 … 第3導体層
17 … レジスト
20 … 素子実装領域(ジンバル部)
21 … 外部端子形成部
24 … 溝部
30 … 配線付フレキシャー
31 … ロードビーム
40 … 素子付配線付フレキシャー
41 … 素子
50 … ハードディスクドライブ
51 … ディスク
52 … スピンドルモータ
53 … アーム
54 … ボイスコイルモータ
55 … ケース
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal substrate 2a ... 1st insulating layer 2b ... 2nd insulating layer 3 ... Wiring 3X ... Write wiring 3Y ... Lead wiring 3a ... 1st conductor layer 3aa ... 1st terminal part metal layer 3a '... 1st terminal part 3b ... 2nd conductor layer 3bb ... 2nd terminal part metal layer 3b '... 2nd terminal part 3b "... Pillow part conductor layer 4 ... Pillow part 5 ... Cover layer 6 ... Seed layer 7 ... Diffusion prevention layer 8 ... Wiring plating layer 10 ... flexure substrate with wiring 11 ... terminal forming part 12 ... connection region 13 ... intermediate part 14 ... wiring forming part 16 ... third conductor layer 17 ... resist 20 ... element mounting region (gimbal part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... External terminal formation part 24 ... Groove part 30 ... Flexure with wiring 31 ... Load beam 40 ... Flexure with wiring with element 41 ... Element 50 ... Hard disk drive 51 ... Disk 52 ... Spindle motor 53 ... Arm 54 ... Voice coil motor 55 ... Case

Claims (8)

第1絶縁層と、前記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、前記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、前記第2絶縁層上に前記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の配線形成部、ならびに
前記配線形成部の端部に形成され、前記第1絶縁層上に配置され、前記第1導体層と接続する第1端子部、および前記第1絶縁層上に配置され、前記第2導体層と接続する第2端子部を有する端子形成部を有する配線付フレキシャー基板であって、
前記第2導体層と前記第2端子部とを接続する接続領域では、前記第1導体層と同一材料で形成され、第1導体層とは絶縁されている枕部が形成されており、
前記第2導体層と前記第2端子部とは、前記枕部上に形成された枕部導体層を介して接続されていることを特徴とする配線付フレキシャー基板。
A first insulating layer; a first conductor layer formed on the first insulating layer; a second insulating layer formed on the first conductor layer; and the first conductor layer on the second insulating layer. And a second wiring layer formed so as to overlap in the thickness direction, and a laminated wiring forming portion formed at an end of the wiring forming portion, disposed on the first insulating layer, A flexure substrate with wiring having a first terminal portion connected to a first conductor layer, and a terminal forming portion disposed on the first insulating layer and having a second terminal portion connected to the second conductor layer,
In the connection region connecting the second conductor layer and the second terminal portion, a pillow portion that is formed of the same material as the first conductor layer and is insulated from the first conductor layer is formed.
The flexure substrate with wiring, wherein the second conductor layer and the second terminal portion are connected via a pillow portion conductor layer formed on the pillow portion.
前記枕部が前記端子形成部内にも形成され、かつ、前記端子形成部内に溝部を有するものであり、
前記溝部に前記第2端子部が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の配線付フレキシャー基板。
The pillow part is also formed in the terminal forming part, and has a groove part in the terminal forming part,
The flexure substrate with wiring according to claim 1, wherein the second terminal portion is disposed in the groove portion.
前記第1端子部が、第1端子部金属層および前記第1端子部金属層上に形成された第3導体層を有し、
前記第3導体層が、前記第2端子部と同一の材料からなり、かつ、前記第2端子部と絶縁されているものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の配線付フレキシャー基板。
The first terminal portion has a first terminal portion metal layer and a third conductor layer formed on the first terminal portion metal layer,
3. The wiring according to claim 1, wherein the third conductor layer is made of the same material as the second terminal portion and is insulated from the second terminal portion. With flexure substrate.
前記第1端子部金属層に溝部が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の配線付フレキシャー基板。   4. The flexure substrate with wiring according to claim 3, wherein a groove is formed in the first terminal portion metal layer. 請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の配線付フレキシャー基板を含むことを特徴とする配線付フレキシャー。   A flexure with wiring, comprising the flexure substrate with wiring according to any one of claims 1 to 4. 請求項5に記載の配線付フレキシャーと、前記配線付フレキシャーの素子実装領域に実装された素子と、を有することを特徴とする素子付配線付フレキシャー。   A flexure with wiring, comprising: a flexure with wiring according to claim 5; and an element mounted in an element mounting region of the flexure with wiring. 請求項6に記載の素子付配線付フレキシャーを含むことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the flexure with wiring according to claim 6. 第1絶縁層と、前記第1絶縁層上に形成された第1導体層と、前記第1導体層上に形成された第2絶縁層と、前記第2絶縁層上に前記第1導体層と厚さ方向において重複するように形成された第2導体層と、を有する積層型の配線形成部、ならびに
前記配線形成部の端部に形成され、前記第1絶縁層上に配置され、前記第1導体層と接続する第1端子部、および前記第1絶縁層上に配置され、前記第2導体層と接続する第2端子部を有する端子形成部、
を有し、
前記第2導体層と前記第2端子部とを接続する接続領域では、前記第1導体層と同一材料で形成され、第1導体層とは絶縁されている枕部が形成されており、
前記第2導体層と前記第2端子部とは、前記枕部上に形成された枕部導体層を介して接続されている配線付フレキシャー基板の製造方法であって、
前記枕部、前記第1導体層および第1端子部に含まれる第1端子部金属層を同時に形成する枕部形成工程を有することを特徴とする配線付フレキシャー基板の製造方法。
A first insulating layer; a first conductor layer formed on the first insulating layer; a second insulating layer formed on the first conductor layer; and the first conductor layer on the second insulating layer. And a second wiring layer formed so as to overlap in the thickness direction, and a laminated wiring forming portion formed at an end of the wiring forming portion, disposed on the first insulating layer, A first terminal part connected to the first conductor layer, and a terminal forming part arranged on the first insulating layer and having a second terminal part connected to the second conductor layer;
Have
In the connection region connecting the second conductor layer and the second terminal portion, a pillow portion that is formed of the same material as the first conductor layer and is insulated from the first conductor layer is formed.
The second conductor layer and the second terminal portion are a manufacturing method of a flexure substrate with wiring connected via a pillow portion conductor layer formed on the pillow portion,
The manufacturing method of the flexure board | substrate with wiring characterized by having the pillow part formation process which forms the 1st terminal part metal layer contained in the said pillow part, a said 1st conductor layer, and a 1st terminal part simultaneously.
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