JP5124767B2 - 窒化物又は酸窒化物の製造法 - Google Patents

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本発明は、窒化物又は酸窒化物の製造法に関する。
青色LEDに用いられるGaNに代表される窒化物及び酸窒化物は、LEDや光触媒に広く応用されており、応用範囲は多岐にわたっている。また、蛍光体などの光学材料としても用いることができるものと期待されている。
従来の窒化物又は酸窒化物の製造法としては、出発原料として金属粉末やアミドなどを用いる方法が知られている(例えば、特許文献1を参照。)。
特開2002−241112号公報
しかし、出発原料として酸化物や金属粉末を用いる従来の合成方法では、反応性が悪いために色ムラや生成物の窒化の程度の差が生じてしまうという問題があった。反応性を高めるためにアミドのような特殊な前駆体を利用する方法もあるが、このような前駆体は高価であり、また反応性の制御も困難であった。そのため、複雑な組成や複数の成分元素を含む窒化物、酸窒化物において、生成物の組成を制御することは難しかった。
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、均一で光学特性に優れた窒化物又は酸窒化物を製造できる窒化物又は酸窒化物の製造法を提供することをその目的とする。
上記課題を達成するため種々検討した結果、KGaOをアンモニア流通下において加熱することで、GaNが単一相で生成することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明の窒化物又は酸窒化物の製造法は、Ga、Ge、Znから選ばれる少なくとも1種類の金属元素を含む組成式KMO(Mは金属元素)で表される化合物をアンモニア流通下で加熱し、Mの窒化物又は酸窒化物を得ることを特徴とする。
また、KZnGeOをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱し、ZnとGeの窒化物又は酸窒化物を得ることを特徴とする。
さらに、KGaOをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱し、Gaの窒化物又は酸窒化物を得ることを特徴とする。
本発明の窒化物又は酸窒化物の製造法によれば、均一で光学特性に優れた窒化物又は酸窒化物を容易に製造することができる。
本発明の窒化物又は酸窒化物の製造法は、Ga、Ge、Znから選ばれる少なくとも1種類の金属元素を含む組成式KMO(Mは金属元素)で表される化合物をアンモニア流通下で加熱するものである。
KMOは一般に、MO四面体の周りにKが存在する構造を有しており、Kと四面体の結合が弱く、700〜1000℃で加熱すると分解する準安定な構造をしている。このKMOをアンモニア流通下で焼成することにより、結晶構造からKが揮発するとともにアンモニア由来のNが付加し、酸窒化物又は窒化物が生成する。本発明は、前記KMOで表される化合物の分解しやすい性質を利用して、アンモニア流通下で加熱して前記化合物が分解するときにNを導入することで、均一な窒化を可能とするものである。
ここで、前駆体となるKMOは、KCOとMOをアセトンなどで湿式混合し、焼成することで得られる。KCO:MO=1:2のモル比で混合することで、KMOが得られる。なお、焼成温度は700℃以上とするのが好ましい。
例えば、KCO、ZnO、GeOを混合して焼成を行うと、KZnGeOが単一相で合成され、これをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱すると、Kが揮発してNが付加したZnとGeの酸窒化物が得られる。引き続き加熱を継続すると、窒化物GeZnNが生成し、さらに加熱を行うとZnが揮発して窒化物Geが得られる。
或いは、KCO、Gaを混合して焼成を行うと、KGaOが単一相で合成され、これをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱すると、Kが揮発して窒化物GaNが得られる。
このように、金属元素Mの種類を適宜選択することによって、様々な窒化物又は酸窒化物を製造することができる。そして、本発明の方法によれば、均一で光学特性に優れた窒化物及び酸窒化物を容易に製造することができる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想を逸脱しない範囲で種々の変形実施が可能である。以下、具体例に基づき、より詳細に説明する。
はじめに、前駆体となるKZnGeOを合成した。原料にKCO、ZnO、GeOを用いて、これら原料をKCO:ZnO:GeO=1:1:1のモル比で秤量してアセトンで湿式混合し、800℃で24時間の焼成を行った。得られた試料のXRDパターンは図1の下段に示すとおりであり、KZnGeOが単一相で合成されたことが確認された。
つぎに、上記で得た前駆体0.5〜1.0gを、50ml/分のアンモニア流通下において800℃で加熱した。アンモニア流通下での加熱開始後3時間では、図1の下から2段目に示すとおり組成の変化は見られなかった。
さらに、加熱開始後6時間では組成の変化が見られ、図1の上から2段目に示すように、Kが揮発してNが付加したZnとGeの酸窒化物、すなわち、Zn1.7GeN1.8OとZn1.231Ge0.6890.7821.218の混合物が生成したことが確認された。
また、加熱開始後3時間ののち、さらに6時間加熱したところ、図1の上段に示すように、GeZnNの生成が確認された。
また、加熱開始後12時間では、図2の下から2段目に示すように、さらにZn分が揮発してα−Geがほぼ単一相で生成したことが確認された。
ZnGeOは、GeO四面体の周りにKとZnが存在しており、K、Znそれぞれと四面体の結合が弱く、高温で分解する準安定な構造をしている。本実施例では、KZnGeOをアンモニア流通下で焼成することにより、酸窒化物、窒化物の生成が可能であることが確認された。
はじめに、前駆体となるKGaOを合成した。原料にKCO、Gaを用いて、これら原料をKCO:Ga=1:2のモル比で秤量してアセトンで湿式混合し、800℃で24時間の焼成を行った。得られた試料のXRDパターンは図3の下段に示すとおりであり、KGaOが単一相で合成されたことが確認された。
つぎに、上記で得た前駆体1〜2gを、50ml/分のアンモニア流通下において、800℃で12時間又は24時間、或いは、900℃で12時間又は24時間加熱した。いずれの焼成条件においても、図3に示すようにGaNが単一相で生成したことが確認された。
それぞれの焼成条件で得られたGaNの紫外可視拡散反射スペクトルを図4に示す。吸収端には不純物等の準位も見られず、均一で光学特性に優れたGaNが得られたことが確認された。
KGaOは、GaO四面体の周りにKが存在しており、Kと四面体の結合が弱く、高温で分解する準安定な構造をしている。本実施例では、KGaOをアンモニア流通下で焼成することにより、窒化物の生成が可能であることが確認された。
実施例1で得られた前駆体KZnGeO及びその焼成により得られた組成物のXRDパターンである。 実施例1で得られたα−GeのXRDパターンである。 実施例2で得られた前駆体KGaO及びその焼成により得られたGaNのXRDパターンである。 実施例2で得られたGaNの紫外可視拡散反射スペクトルである。

Claims (3)

  1. Ga、Ge、Znから選ばれる少なくとも1種類の金属元素を含む組成式KMO(Mは金属元素)で表される化合物をアンモニア流通下で加熱し、Mの窒化物又は酸窒化物を得ることを特徴とする窒化物又は酸窒化物の製造法。
  2. ZnGeOをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱し、ZnとGeの窒化物又は酸窒化物を得ることを特徴とする窒化物又は酸窒化物の製造法。
  3. KGaOをアンモニア流通下において700〜1000℃で加熱し、Gaの窒化物又は酸窒化物を得ることを特徴とする窒化物又は酸窒化物の製造法。
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