JP5120335B2 - シリコンウェーハの加工方法 - Google Patents
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Description
また、2枚のシリコンウェーハを貼り合わせて作成されたSOIウェーハの活性側のシリコンウェーハの表面をプラズマエッチングする工程を含むシリコンウェーハの加工方法において、活性側のシリコン層の膜厚を均一にするとともに活性側のシリコンウェーハ表面に突起形状が発生するのを抑制することを他の課題とする。
また、2枚のシリコンウェーハを貼り合わせて作成されたSOIウェーハの活性側のシリコンウェーハの表面をプラズマエッチングする工程を含むシリコンウェーハの加工方法において、活性側のシリコン層の膜厚を均一にするとともに活性側のシリコンウェーハ表面に突起形状が発生するのを抑制することができる。
図6は洗浄工程を全く行なわない比較例1(A)におけるSOIウェーハの活性層の膜厚分布を示す図である。図6は3枚のサンプルウェーハ(a)(b)(c)の膜厚分布を示しており、図右側のウェーハ平面図の膜厚分布線22における膜厚分布を図左側に示している。図左側の膜厚分布は横軸が膜厚分布線22における径方向(Xdirection)、縦軸が膜厚(Thickness)を示している。
図7は洗浄工程を十分な時間をかけて行ってウェーハ表面を完全撥水面にする比較例2(B)におけるSOIウェーハの活性層の膜厚分布を示す図である。図6は3枚のサンプルウェーハ(a)(b)(c)の膜厚分布を示しており、図右側のウェーハ平面図の膜厚分布線22における膜厚分布を図左側に示している。図左側の膜厚分布は横軸が膜厚分布線22における径方向(Xdirection)、縦軸が膜厚(Thickness)を示している。
図9は本実施形態の洗浄工程を行なった場合(C)のSOIウェーハの活性層の膜厚分布を示す図である。図9は3枚のサンプルウェーハ(a)(b)(c)の膜厚分布を示しており、図右側のウェーハ平面図の膜厚分布線22における膜厚分布を図左側に示している。図左側の膜厚分布は横軸が膜厚分布線22における径方向(Xdirection)、縦軸が膜厚(Thickness)を示している。
12 パーティクル
14 突起形状
Claims (2)
- フッ酸を含む洗浄液によりシリコンウェーハの表面の自然酸化膜を除去する洗浄工程と、該洗浄工程の直後に前記シリコンウェーハの表面をプラズマエッチングするプラズマエッチング工程とを含み、
前記洗浄工程は、前記洗浄液による洗浄時間、前記洗浄液の温度、及び前記洗浄液の濃度の少なくとも1つを調整して、前記シリコンウェーハの表面の自然酸化膜の厚みを0.3nmよりも厚く、0.7nmよりも薄く形成することを特徴とするシリコンウェーハの加工方法。 - 前記洗浄工程及び前記プラズマエッチング工程は、2枚のシリコンウェーハを貼り合わせて作成されたSOIウェーハの活性側のシリコンウェーハの表面に対して行なわれる請求項1のシリコンウェーハの加工方法。
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