JP5114303B2 - 浸炭ガス生成装置及び浸炭ガスの生成方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、空気添加法で得られる浸炭ガスは、一酸化炭素ガス濃度が20〜24%であり、浸炭処理を効率よく行うには、一酸化炭素ガス濃度が低い傾向にある。
一方、前記二酸化炭素添加法では、前記空気添加法よりも高い一酸化炭素ガス濃度の浸炭ガスを得ることができる。しかしながら、前記二酸化炭素添加法は、コストの高い二酸化炭素ガスを必要とするうえに、前記混合ガスの変成反応が吸熱反応となるため、多量のエネルギーを外部から混合ガスの変成反応系に加えることを必要とする。したがって、浸炭処理に際して、前記二酸化炭素添加法を行った場合、浸炭処理に要するランニングコストが高くなる。
また、本発明の浸炭ガス生成装置において、前記吸着槽の下流に、窒素ガスを回収する窒素ガス回収流路を設けておけば、前記吸着槽の吸着剤に吸着した窒素ガスの再利用が容易になる。
まず、添付図面を参照しつつ、本発明の浸炭ガス生成装置を詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る浸炭ガス生成装置を示す流体回路図である。
図1に示すように、本実施形態の浸炭ガス生成装置1は、変成ガス生成部10と、この変成ガス生成部10の下流側に接続された窒素ガス除去部20とを備えている。変成ガス生成部10は、変成ガスを生成するものである。そして、窒素ガス除去部20は、変成ガス生成部10で生成された変成ガスから窒素ガスを除去するものである。
空気供給源101は、混合ガスの原料ガスである空気を供給するものである。この空気供給源101には、流量計104を介した管路Aが接続されている。
また、第1のLPG槽102は、混合ガスの原料となる炭化水素ガスである液化石油ガス(LPG)を供給するものである。第1のLPG槽102には、流量計105を介した管路Bが接続されている。そして、流量計104の下流側に接続されている管路Aと、比例調整弁106の下流側に接続されている管路Bとは、キャブレタ107に接続されている。
変成炉111は、内部にニッケル触媒が充てんされたニッケル触媒層113を有するレトルト112と、このレトルト112の周囲に設けられ、レトルト112を加熱するヒータ114とを有している。
変成炉111では、ルーツブロワ110から供給された混合ガスがレトルト112に導入されて、ヒータ114により加熱されたニッケル触媒層113を通過させることにより、混合ガス中の空気とLPGとを反応させ、変成ガスを生成させる。
ガスクーラ115の下流側には、背圧を調整する背圧調整弁117ガスブリーダ118が接続されている。
ガスクーラ115と背圧調整弁117との間の管路Eの途中には、二酸化炭素ガス濃度を測定する赤外線CO2分析計116が設けられている。赤外線CO2分析計116は、この赤外線CO2分析計116から出力された信号によってバルブの開閉が調節されるように、配線を介してモータバルブ108と接続している。これにより、変成ガス中の二酸化炭素ガスの量に応じて、変成ガスのカーボンポテンシャルを高めるべく、LPGが供給される。
活性炭槽202の内部には、活性炭が充てんされている。活性炭槽202内に除湿後の変成ガスが導入されると、活性炭槽202内の活性炭が変成ガス中の不純物を吸着し除去する。活性炭槽202の下流側は、第1及び第2吸着槽203,204と接続されている。第1及び第2吸着槽203,204の内部には、窒素ガスを吸着する吸着剤が充てんされている。そして、変成ガスが導入される際には、第1及び第2吸着槽203,204の内部は、吸着剤が窒素ガスを吸着するに適した条件となるように維持されている。
第1及び第2吸着槽203,204では、吸着剤が活性炭槽202から導入された変成ガス中の窒素ガスを吸着し除去するため、変成ガスの窒素ガス濃度を低減させることに伴って、一酸化炭素ガス濃度及び水素ガス濃度を上昇させることができる。なお、これらの第1及び第2の吸着槽203,204は、交互に切り替わって窒素ガスの脱着を行うことで連続運転を可能とするものである。これにより、高い一酸化炭素ガス濃度を有する発生ガスA(浸炭ガス)を連続的に生成できる。
このように生成される発生ガスAは、一酸化炭素ガス濃度35vol%、水素ガス濃度42vol%、窒素ガス濃度22vol%、残部が水、二酸化炭素ガス等である組成を有する。
この発生ガスBは、通常、窒素ガス濃度99vol%、残部が水、二酸化炭素ガス等である組成を有する。発生ガスBは、パージ用ガス、例えば、炉内パージや、入出口の真空パージ後の復圧に有効利用できるほか、石油系溶剤で洗浄した被洗浄物の乾燥用の不活性ガス等としても用いることができる。
つぎに、添付図面を参照しつつ、本実施形態の浸炭ガスの生成方法における処理手順を詳細に説明する。図2は、本発明の一実施形態に係る浸炭ガスの生成方法の処理手順を示すフローチャートである。
原料ガスとしては、空気及び炭化水素ガスが挙げられる。炭化水素ガスとしては、特に限定されるものではなく、LPG、メタンガス、エタンガス、プロパンガス等が挙げられる。これらの炭化水素ガスは、単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
変成処理は、変成炉中、混合ガスを加熱条件下、触媒に接触させることにより行われる。加熱温度は、エンリッチガスを部分燃焼させて一酸化炭素を生じさせるに十分な温度であればよく、通常、1000〜1100℃である。
触媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、ニッケル触媒などが挙げられる。
変成ガス中の窒素ガスの除去は、窒素ガスを吸着する吸着剤と変成ガスとを接触させ、この吸着剤に変成ガス中の窒素ガスを吸着させることにより行われる。
前記吸着剤としては、特に限定されないが、例えば、ゼオライト等が挙げられる。
前記ゼオライトを用いて、変成ガス中の窒素ガスを除去する場合、ゼオライトと変成ガスとを加圧条件下に接触させることにより、変成ガス中の窒素ガスをゼオライトに吸着させる。その後、窒素ガスを回収して再利用する場合には、窒素ガスが吸着したゼオライトを減圧条件下に維持することにより、ゼオライトから窒素ガスを脱離させればよい。
10 変成ガス生成部
11 混合流路
12 変成流路
20 窒素ガス除去部
21 浸炭ガス生成流路
22 窒素ガス生成流路
101 空気供給源
102 第1のLPG槽
103 第2のLPG槽
104 流量計
105 流量計
106 比例調整弁
107 キャブレタ
108 モータバルブ
109 流量計
110 ルーツブロワ
111 変成炉
112 レトルト
113 ニッケル触媒層
114 ヒータ
115 ガスクーラ
116 赤外線CO2分析計
117 背圧調整弁
118 ガスブリーダ
201 除湿器
202 活性炭槽
203 第1吸着槽
204 第2吸着槽
A〜F 管路
Claims (3)
- 空気と炭化水素ガスとから被処理物の浸炭処理に用いられる浸炭ガスを発生させる浸炭ガス生成装置であって、
空気及び炭化水素ガスを混合して混合ガスを生成する混合流路と、
前記混合流路の下流側に接続されており、前記混合ガスを変成させて変成ガスを生成する変成流路と、
前記変成流路の下流側に接続されており、前記変成ガス中に含まれる窒素ガスの量を低減させ、浸炭ガスを生成する浸炭ガス生成流路と
を備えており、
前記浸炭ガス生成流路が、前記変成流路で生成された変成ガス中の窒素ガスを吸着させるべく、窒素ガスを可逆的に吸着する吸着剤が充てんされた吸着槽を有していることを特徴とする浸炭ガス生成装置。 - 前記吸着槽の吸着剤に吸着した窒素ガスを回収する窒素ガス回収流路をさらに備えている請求項1に記載の浸炭ガス生成装置。
- 請求項1または2に記載の浸炭ガス生成装置を用い、被処理物の浸炭処理に用いられる浸炭ガスを生成する方法であって、
空気と炭化水素ガスとを混合して混合ガスを生成する工程と、
前記混合ガスを変成させて変成ガスを生成する工程と、
前記変性ガス中に含まれる窒素ガスの量を低減させることにより、前記変性ガス中の一酸化炭素ガス濃度を増大させて、浸炭ガスを生成する工程と
を含み、
窒素ガスを吸着する吸着剤と前記変成ガスとを接触させて、前記変成ガス中の窒素ガスを前記吸着剤に吸着させることにより、当該変成ガス中に含まれる窒素ガスの量を低減させることを特徴とする浸炭ガスの生成方法。
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