JP5110493B1 - 排水の不活化方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
原水槽1に貯えた排水Aを不活化する方法において、排水Aを入力して所定温度θに加熱しつつ所定時間D1保持する加熱装置5の出口に放流路12又は原水槽1へ選択的に接続する切替弁15を設け、切替弁15の放流路12への接続時に加熱装置5を所定保持時間D1で所定滅菌レベルが得られる高滅菌温度θ1に加熱して入力排水Aを不活化し、切替弁15の原水槽1への接続時に加熱装置5の出力排水Fの還流により原水槽1を低滅菌温度θ2に加熱し且つその低滅菌温度θ2を前記所定滅菌レベルが得られる時間D2以上保持して原水槽1内の排水を不活化する。好ましくは、加熱装置5の出力排水Fの還流によって原水槽1の気相部を含む内側全体を低滅菌温度θ2以上に加熱する。
【選択図】図1
Description
log(N/N0)=−(k/2.303)t=−(1/D)t ……(2)
log(D)=−(1/Z)θ+C ……………………………………(3)
log(D1/D2)=−(θ1−θ2)/Z ……………………………(4)
(ロ)また、原水槽1に残った排水Aを加熱装置5との間で還流させて原水槽1を加熱するので、新たな熱源を用いることなく比較的小さなランニングコストで原水槽1を経済的に加熱滅菌処理することができる。
(ハ)加熱するに際して原水槽1を高温・高圧に耐えられる構造とする必要がないので、原水槽1を例えば樹脂水槽、パネルタンク等の合理的で安価な構造とすることができる。
(ニ)原水槽1の加熱温度θ2を加熱装置5の加熱温度θ1に比して低く抑え、原水槽1の加熱保持時間D2を加熱装置5の加熱保持時間D1に比して長くすることにより、比較的小さな加熱装置5の昇温エネルギーで比較的大きな原水槽1を同様の滅菌レベルまで加熱滅菌処理することができる。
(ホ)加熱装置5の出力排水Fの還流によって原水槽1を加熱することにより、原水槽1内の排水Aだけでなく揮発する蒸気で気相部を含む内側全体を低滅菌温度θ2以上に加熱することができ、原水槽1の全体を確実に所定滅菌レベルとすることができる。
(ヘ)原水槽1の滅菌処理終了後に系内配管に洗浄液を充填して循環させ、その洗浄液を加熱装置で所定温度θに加熱しながら原水槽1の排水Aと置き換えることにより、排水Aの不活化処理を容易に再開することができる。
液相部、気相部、及び複数のノズル部の各々にそれぞれ温度計18を取り付けた原水槽1(全容積27.5m3、有効容積20m3)に約8m3の排水Aを貯え、その原水槽1から加熱装置5に供給して滅菌温度θ1=96℃、保持時間D1=30秒で不活化処理された出力排水Fを原水槽1に還流させ、その還流開始後の原水槽1の各部位における温度計18の経時的温度変化を計測する実験を行った。実験結果を図2のグラフに示す。図2のグラフは、原水槽1の液相部(排水A)は排水Fの還流開始後約8.5時間で目的温度=80℃に達するのに対し、原水槽1の気相部及びノズルの一部分が目的温度=80℃に達するには排水Fの還流開始後約25時間が必要であることを示している。この実験結果から、原水槽1の気相部は温度がとくに上昇しにくく、原水槽1内の加熱不足部位の発生を避けるためには原水槽1の気相部に温度計18を取り付けて温度を検知することが有効であることを確認できた。或いは図2のグラフから、排水Fの還流を開始したのち25時間を確保すれば、原水槽1の内側全体に蒸気を回り込ませて低滅菌温度θ2以上とすることができるので、温度計18を省略できることを確認できた。
3…ポンプ 4…流量調節器
5…加熱装置 6…加熱器
7…保持管 8…温度計
9…圧力計 10…流量制御弁
11…予熱器 11a…第一予熱器
11b…第二予熱器 12…放流路
13…高温流路 14…低温流路
15…切替弁 16、17…開閉弁
18a、18b…温度計 20…入口選択弁
21、22…開閉弁 25…出口選択弁
26、27、28…開閉弁 30…洗浄液槽
31…洗浄液(水酸化ナトリウム)貯蔵タンク
32…洗浄液濃度制御装置 33…濃度計(導電率計)
34、35…流量制御弁
40…制御装置 41…滅菌制御装置
42…加熱制御装置 43…pH調整装置
45…記憶手段 46…算出手段
A…排水 B、C…昇温排水
E…高温排水 F…滅菌済排水
G…蒸気 H…放流水
I…洗浄液 W…希釈水
Claims (10)
- 原水槽に貯えた排水を不活化する方法において、前記排水を入力して所定温度に加熱しつつ所定時間D1保持する加熱装置の出口に放流路又は原水槽へ選択的に接続する切替弁を設け、前記切替弁の放流路への接続時に加熱装置を所定保持時間D1で所定滅菌レベルが得られる高滅菌温度θ1に加熱して入力排水を不活化し、前記切替弁の原水槽への接続時に加熱装置の出力排水の還流により原水槽を低滅菌温度θ2に加熱し且つその低滅菌温度θ2を前記所定滅菌レベルが得られる時間D2以上保持して原水槽内の排水を不活化してなる排水の不活化方法。
- 請求項1の不活化方法において、前記低滅菌温度θ2で所定滅菌レベルが得られる保持時間D2を、前記所定滅菌レベルが得られる高滅菌温度θ1及びその保持時間D1と、前記排水中の微生物数が10分の1に滅菌される保持時間Dを10分の1に短縮するための上昇温度Zとから次式により求めてなる排水の不活化方法。
log(D 1 /D 2 )=−(θ 1 −θ 2 )/Z - 請求項1又は2の不活化方法において、前記切替弁の原水槽への接続時に加熱装置の出力排水の還流により原水槽の気相部を含む内側全体を低滅菌温度θ2以上に加熱してなる排水の不活化方法。
- 請求項1から3の何れかの不活化方法において、前記原水槽と加熱装置との間に、前記加熱装置の出力排水を通す高温流路と加熱装置の入力排水を通す低温流路とを有し且つ高温流路の出力排水で低温流路の入力排水を昇温する予熱器を設け、前記切替弁を加熱装置の出口と予熱器との間に設けてなる排水の不活化方法。
- 請求項4の不活化方法において、前記予熱器の低温流路の入口に原水槽又は洗浄液槽へ選択的に接続する入力選択弁を設け、前記予熱器の高温流路の出口に放流路、原水槽又は洗浄液槽へ選択的に接続する出力選択弁を設け、前記原水槽内の排水の不活化終了後に切替弁を放流路に切り替えると共に入口選択弁及び出口選択弁をそれぞれ洗浄液槽に接続してシステム内に洗浄液を還流させ、前記加熱装置を高滅菌温度θ1に加熱したのち入口選択弁及び出口選択弁をそれぞれ原水槽及び放流路に切替えて入力排水の不活化を再開してなる排水の不活化方法。
- 排水を貯える原水槽、前記排水を入力して所定温度に加熱しつつ所定時間D1保持する加熱装置、前記加熱装置の出口を放流路又は原水槽へ選択的に接続する切替弁、及び前記切替弁の放流路への接続時に加熱装置を所定保持時間D1で所定滅菌レベルが得られる高滅菌温度θ1に加熱して入力排水を不活化し、前記切替弁の原水槽への接続時に加熱装置の出力排水の還流により原水槽を低滅菌温度θ2に加熱し且つその低滅菌温度θ2を前記所定滅菌レベルが得られる時間D2以上保持して原水槽内の排水を不活化する制御装置を備えてなる排水の不活化システム。
- 請求項6の不活化システムにおいて、前記制御装置に、前記所定滅菌レベルが得られる高滅菌温度θ1及びその保持時間D1と前記排水中の微生物数が10分の1に滅菌される保持時間Dを10分の1に短縮するための上昇温度Zとを記憶する記憶手段、及びその保持時間D1と上昇温度Zとから次式により前記低滅菌温度θ2で所定滅菌レベルが得られる保持時間D2を求める算出手段を含めてなる排水の不活化システム。
log(D 1 /D 2 )=−(θ 1 −θ 2 )/Z - 請求項6又は7の不活化システムにおいて、前記切替弁の原水槽への接続時に加熱装置の出力排水の還流により原水槽の気相部を含む内側全体を低滅菌温度θ2以上に加熱してなる排水の不活化システム。
- 請求項6から8の何れかの不活化システムにおいて、前記原水槽と加熱装置との間に、前記加熱装置の出力排水を通す高温流路と加熱装置の入力排水を通す低温流路とを有し且つ高温流路の出力排水で低温流路の入力排水を昇温する予熱器を設け、前記切替弁を加熱装置の出口と予熱器との間に設けてなる排水の不活化システム。
- 請求項9の不活化システムにおいて、前記予熱器の低温流路の入口に原水槽又は洗浄液槽へ選択的に接続する入力選択弁を設け、前記予熱器の高温流路の出口に放流路、原水槽又は洗浄液槽へ選択的に接続する出力選択弁を設け、前記制御装置により、前記原水槽内の排水の不活化終了後に切替弁を放流路に切り替えると共に入口選択弁及び出口選択弁をそれぞれ洗浄液槽に接続してシステム内に洗浄液を還流させ、前記加熱装置を高滅菌温度θ1に加熱したのち入口選択弁及び出口選択弁をそれぞれ原水槽及び放流路に切替えて入力排水の不活化を再開してなる排水の不活化システム。
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