JP5108434B2 - 光記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Description
本発明は、光記録媒体の製造方法等に関し、より詳しくは、記録特性の良好な積層型多層光記録媒体を製造する方法及び製造装置に関する。
近年、長時間かつ高画質の動画等の大容量データを記録・再生するために、従来と比較してさらなる情報の高密度化が可能な光記録媒体の開発が望まれている。このような情報の高密度化が可能な光記録媒体としては、例えば、１枚の媒体に記録層を２層（デュアルレイヤ）設けた積層構造を有するＤＶＤ−ＲＯＭ等の積層型多層光記録媒体が挙げられる。このような多層化の技術を用いれば、１層あたりの記録密度は変化させることなく容量を増大させることが可能である。
積層型多層光記録媒体は、通常、フォトポリメリゼーション法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：以下、「２Ｐ法」と記すことがある。）と呼ばれる製造方法により製造される。２Ｐ法によれば、例えば、記録トラック用の凹凸形状が形成された透明な第１基板上に第１記録層、第１反射層、記録トラック用の凹凸形状が形成された中間層、第２記録層、第２反射層をこの順に形成し、最後に第２基板を接着することにより２層構造の光記録媒体が製造される。
２Ｐ法の場合は、中間層は、通常、以下のようにして製造される。すなわち、まず、第１反射層上に、光（光としては、例えば紫外線等の放射線を挙げることができる。）により硬化する光硬化性樹脂原料等を塗布して樹脂原料層を形成した後、この上に転写用の凹凸形状（以下適宜、「転写用凹凸形状」という）を有するスタンパを載置する。次いで、上記光硬化性樹脂原料等を硬化させた後に、スタンパを剥離する。このようにして、光硬化性樹脂の表面にスタンパの転写用凹凸形状を転写させて、凹凸形状を有する中間層を硬化性樹脂の硬化物によって形成することができるようになっている。
したがって、２Ｐ法においては、光硬化性樹脂を硬化させた後のスタンパをスムーズに剥離することが望まれる。２Ｐ法により記録用トラック用の凹凸形状を有する中間層を形成する際には、光硬化性樹脂とスタンパとが剥離し難い、又は、剥離しても中間層の表面の均一性が低下する、等の製造上の課題が生じると、中間層にキズやはぎ取り等の欠陥が生じ、光記録媒体に安定して光による情報の記録・再生を行うことができなくなる可能性があるからである。
ところが、特にポリカーボネート系樹脂やアクリル樹脂で形成したスタンパを用いた場合には、紫外線硬化性樹脂等で形成された中間層とスタンパとの剥離が困難であるという現状がある（特許文献１，２）。
特許文献２には、アクリル樹脂製のスタンパに対して、無機系材料による表面コーティングを行うことが提案されている。そして、それにより、上記剥離を良好に行うことができるとされている。さらに、同文献においては、スタンパの溝／ピット（転写用凹凸形状に対応）の表面にＳｉＯ2誘電体膜が成膜されたアクリルスタンパを用いている。
一方、特許文献３には、スタンパの全体を環状ポリオレフィンまたはポリスチレン系樹脂から構成するか、スタンパの少なくとも母型パターン（転写用凹凸形状に相当）が形成されている表面を環状ポリオレフィンまたはポリスチレン系樹脂から構成することが提案されている。そして、それにより、放射線硬化型樹脂の硬化物からなる中間層に対するス
タンパの離型性を良好にすることができると記載されている。また、特許文献３においては、環状ポリオレフィンが、放射線硬化型樹脂の硬化物からなる中間層に対するスタンパの離型性を特に良好にするとしている。
タンパの離型性を良好にすることができると記載されている。また、特許文献３においては、環状ポリオレフィンが、放射線硬化型樹脂の硬化物からなる中間層に対するスタンパの離型性を特に良好にするとしている。
しかしながら、特許文献２，３のような方法によって中間層とスタンパとの剥離を容易にした場合であっても、中間層に形成された溝の表面が完全に硬化されていない場合には、記録用トラックの凹凸形状が変化する場合や、記録層を積層する際に凹部と凸部の比率が変化する場合があることが判明した。また、このような凹凸形状等の変化は、経時的にも起こることが判明した。これにより、光記録媒体への光による情報記録・再生特性が不安定になる可能性があった。
特にこのような課題は、記録層として有機色素材料を用いる方式の光記録媒体において顕著に発生することが判った。しかしながら従来は、どのようにすれば、スタンパに形成された溝形状が中間層に忠実に転写され、さらに記録層として再現することが可能であるかは明らかでなかった。
本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、良好な凹凸形状を有し、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を製造することができる、光記録媒体の製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
本発明の発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、２Ｐ法による光記録媒体の製造方法において、中間層を硬化させた後にスタンパを剥離した後に、凹凸形状が転写された中間層に表面改質処理を施すという手法を見出した。そして、この手法を導入することにより、スムーズな剥離が困難であったポリカーボネート系樹脂でスタンパを形成した場合にも、良好な凹凸形状を有する中間層を得ることができるという知見を得た。さらに、この手法を導入することにより、スタンパの材質によらず、スタンパの凹凸形状が中間層に忠実に転写され、さらに記録層として再現できるという知見を得た。
即ち、本発明の要旨は、凹凸形状を有する中間層を備えた光記録媒体の製造方法であって、基板上に、直接又は他の層を介して、照射される光により情報が記録される第１記録層を形成する工程と、前記第１記録層上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層と前記凹凸形状に対応した転写用凹凸形状を有するスタンパとをこの順に載置した状態で、前記樹脂原料層を硬化させて、前記基板、前記第１記録層、前記樹脂原料層及び前記スタンパを備えた接着体を得る工程と、前記樹脂原料層から前記スタンパを剥離して前記樹脂原料層に前記転写用凹凸形状を転写した後に、前記転写用凹凸形状が転写された前記樹脂原料層の硬化を促進させる表面改質処理を施して前記中間層を形成する工程と、前記中間層上に、照射される光により情報が記録される第２記録層を形成する工程と、を有し、前記第２記録層が、有機色素材料を含有することを特徴とする、光記録媒体の製造方法に存する（請求項１）。
このとき、前記表面改質処理は、放射線照射処理及び／又は加熱処理であることが好ましい（請求項２）。
また、前記表面改質処理は、照射量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射によることが好ましい（請求項３）。
また、前記表面改質処理は、加熱温度４０〜１２０℃の加熱処理によることが好ましい（請求項４）。
さらに、前記接着体を得る工程における前記樹脂原料層の硬化は、半硬化状態までの硬化であることが好ましい（請求項５）。
また、前記表面改質処理は、照射量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射によることが好ましい（請求項３）。
また、前記表面改質処理は、加熱温度４０〜１２０℃の加熱処理によることが好ましい（請求項４）。
さらに、前記接着体を得る工程における前記樹脂原料層の硬化は、半硬化状態までの硬化であることが好ましい（請求項５）。
また、前記スタンパは、ポリカーボネート系樹脂製であることが好ましい（請求項６）。
さらに、前記樹脂原料層は複数の樹脂層から構成されていることが好ましい（請求項７）。
また、前記樹脂原料層が複数の樹脂層から構成され、且つ、前記複数の樹脂層のうち最外樹脂層の硬化が、半硬化状態までの硬化であることが好ましい（請求項８）。
さらに、前記樹脂原料層は複数の樹脂層から構成されていることが好ましい（請求項７）。
また、前記樹脂原料層が複数の樹脂層から構成され、且つ、前記複数の樹脂層のうち最外樹脂層の硬化が、半硬化状態までの硬化であることが好ましい（請求項８）。
本発明の別の要旨は、基板、第１記録層、第２記録層、及び、凹凸形状を有する中間層を少なくとも備えた光記録媒体の製造装置であって、前記基板上に、直接又は他の層を介して、有機色素材料を含有する前記記録層を形成する手段と、前記第１記録層上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層を形成する手段と、前記樹脂原料層上に、前記凹凸形状に対応した転写用凹凸形状を有するスタンパを載置した状態で、前記樹脂原料層を硬化させて、前記基板、前記第１記録層、前記樹脂原料層及び前記スタンパを備えた接着体を得る手段と、前記接着体から前記スタンパを剥離し、前記樹脂原料層に前記転写用凹凸形状を転写する手段とを備え、かつ、前記転写用凹凸形状が転写された前記樹脂原料層の硬化を促進させる表面改質処理を施す手段と、前記樹脂原料層上に、有機色素原料を含有する前記第２記録層を形成する手段と、を有することを特徴とする、光記録媒体の製造装置に存する（請求項９）。
本発明の光記録媒体の製造方法及び製造装置によれば、良好な凹凸形状を有し、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を製造することができる。
以下、本発明の実施形態について詳述する。しかしながら、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々変形して実施することができることはいうまでもない。
［Ｉ．第一実施形態］
図１（ａ）〜（ｈ）は、本発明の第一実施形態が適用される光記録媒体の製造方法の好ましい一例を説明するための模式図である。なお、図１（ａ）〜（ｈ）には、積層型多層光記録媒体の製造方法の例として、有機色素を含む２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型の光記録媒体（片面２層ＤＶＤ−Ｒ又は片面２層ＤＶＤレコーダブル・ディスク）の製造方法が示されている。
図１（ａ）〜（ｈ）は、本発明の第一実施形態が適用される光記録媒体の製造方法の好ましい一例を説明するための模式図である。なお、図１（ａ）〜（ｈ）には、積層型多層光記録媒体の製造方法の例として、有機色素を含む２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型の光記録媒体（片面２層ＤＶＤ−Ｒ又は片面２層ＤＶＤレコーダブル・ディスク）の製造方法が示されている。
まず、本実施形態において製造しようとする光記録媒体の構成について簡単に説明する。図１（ｈ）に示すように、片面２層ＤＶＤ−Ｒに代表される片面２層の光記録媒体１００は、ディスク状の光透過性の第１基板１０１を備えていて、この第１基板１０１上に、色素を含む第１記録層１０２と、半透明の第１反射層１０３と、紫外線硬化性樹脂からなる光透過性の中間層１０４と、色素を含む第２記録層１０５と、第２反射層１０６と、接着層１０７と、最外層を形成する第２基板１０８とが、順番に積層された構造を有している。
また、第１基板１０１及び中間層１０４上にはそれぞれ凹凸が形成され、これらの凹凸がそれぞれ記録トラックを構成している。即ち、第１基板１０１及び中間層１０４がそれぞれ表面に有する凹凸形状（即ち、上記の凹凸の形状）が、記録トラックの形状となっている。
さらに、光記録媒体１００の光情報の記録・再生は、第１基板１０１側から第１記録層１０２及び第２記録層１０５に照射されたレーザ光１０９により行われるようになっている。即ち、第１記録層１０２及び第２記録層１０５は、照射されるレーザ光１０９により情報が記録及び再生されるようになっている。
さらに、光記録媒体１００の光情報の記録・再生は、第１基板１０１側から第１記録層１０２及び第２記録層１０５に照射されたレーザ光１０９により行われるようになっている。即ち、第１記録層１０２及び第２記録層１０５は、照射されるレーザ光１０９により情報が記録及び再生されるようになっている。
なお、本実施の形態が適用される光記録媒体の製造方法において、「光透過性（又は透明）」とは、光情報を記録・再生するために照射される光の波長に対する光透過性を意味するものである。具体的には、光透過性とは、記録・再生のための光の波長について、通常３０％以上、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上の透過性があることを言う。一方、記録・再生のための光の波長に対する透過性は、理想的には１００％であるが、通常は、９９．９％以下の値となる。
続いて、本実施形態の光記録媒体の製造方法を説明する。
本実施形態の光記録媒体の製造方法は、第１記録層形成工程と、第１反射層形成工程と、樹脂原料層形成工程と、樹脂原料層硬化工程と、スタンパ剥離工程と、表面改質処理工程と、第２記録層形成工程と、第２反射層形成工程と、第２基板形成工程とを有する。
本実施形態の光記録媒体の製造方法は、第１記録層形成工程と、第１反射層形成工程と、樹脂原料層形成工程と、樹脂原料層硬化工程と、スタンパ剥離工程と、表面改質処理工程と、第２記録層形成工程と、第２反射層形成工程と、第２基板形成工程とを有する。
［１．基板の用意］
まず、第１基板１０１を用意する。第１基板１０１としては、図１（ａ）に示すように、表面に凹凸で、溝、ランド、及びプリピットが形成されたものを用意する。第１基板１０１は、例えばニッケル製スタンパ等を用いて射出成形等により作製することができる。
まず、第１基板１０１を用意する。第１基板１０１としては、図１（ａ）に示すように、表面に凹凸で、溝、ランド、及びプリピットが形成されたものを用意する。第１基板１０１は、例えばニッケル製スタンパ等を用いて射出成形等により作製することができる。
［２．第１記録層形成工程］
次に、第１記録層形成工程において、第１基板１０１上に第１記録層１０２を形成する。第１記録層１０２は、照射される光により情報が記録される層である。第１記録層１０２の形成方法に制限はないが、例えば以下の方法で形成することができる。即ち、有機色素を含有する塗布液を第１基板１０１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布する。その後、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱等を行い、第１記録層１０２を成膜する。なお、本実施形態では、上記のように第１基板１０１上に直接第１記録層１０２を形成した例を示して説明するが、第１記録層１０２は、光記録媒体１００の種類や構成などに応じて、第１基板１０１上に１層又は２層以上の他の層を介して形成するようにしてもよい。
次に、第１記録層形成工程において、第１基板１０１上に第１記録層１０２を形成する。第１記録層１０２は、照射される光により情報が記録される層である。第１記録層１０２の形成方法に制限はないが、例えば以下の方法で形成することができる。即ち、有機色素を含有する塗布液を第１基板１０１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布する。その後、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱等を行い、第１記録層１０２を成膜する。なお、本実施形態では、上記のように第１基板１０１上に直接第１記録層１０２を形成した例を示して説明するが、第１記録層１０２は、光記録媒体１００の種類や構成などに応じて、第１基板１０１上に１層又は２層以上の他の層を介して形成するようにしてもよい。
［３．第１反射層形成工程］
第１記録層１０２を成膜した後、第１反射層形成工程において、第１記録層１０２上に第１反射層１０３を形成する。第１反射層１０３の形成方法に制限はないが、例えば、第１記録層１０２上にＡｇ合金等をスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層１０２上に第１反射層１０３を成膜することができる。
このように、第１基板１０１上に、第１記録層１０２及び第１反射層１０３を順に積層することによって、データ基板１１１を得る。なお、本実施の形態においては、データ基板１１１を透明にしているものとする。
第１記録層１０２を成膜した後、第１反射層形成工程において、第１記録層１０２上に第１反射層１０３を形成する。第１反射層１０３の形成方法に制限はないが、例えば、第１記録層１０２上にＡｇ合金等をスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層１０２上に第１反射層１０３を成膜することができる。
このように、第１基板１０１上に、第１記録層１０２及び第１反射層１０３を順に積層することによって、データ基板１１１を得る。なお、本実施の形態においては、データ基板１１１を透明にしているものとする。
［４．樹脂原料層形成工程］
続いて、樹脂原料層形成工程において、図１（ｂ）に示すように、第１反射層１０３の表面（即ち、データ基板１１１の表面）全体に、樹脂原料層１０４ａを形成する。即ち、第１記録層１０２上に、第１反射層１０３を介して樹脂原料層１０４ａを形成する。
ここで形成する樹脂原料層１０４ａは、光記録媒体１００の完成時に中間層１０４を構成することになる層で、何らかの処理を施すことにより硬化しうる硬化性樹脂又はその前駆体により形成された層である。
続いて、樹脂原料層形成工程において、図１（ｂ）に示すように、第１反射層１０３の表面（即ち、データ基板１１１の表面）全体に、樹脂原料層１０４ａを形成する。即ち、第１記録層１０２上に、第１反射層１０３を介して樹脂原料層１０４ａを形成する。
ここで形成する樹脂原料層１０４ａは、光記録媒体１００の完成時に中間層１０４を構成することになる層で、何らかの処理を施すことにより硬化しうる硬化性樹脂又はその前駆体により形成された層である。
上記硬化性樹脂としては光記録媒体に使用しうる硬化性樹脂を任意に用いることができる。硬化性樹脂の例としては、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などが挙げられ、中でも、放射線硬化性樹脂の一種である紫外線硬化性樹脂が好ましい。なお、本明細書においては、「放射線」を、電子線、紫外線、可視光、及び赤外線を含む意味で用いる。また、硬化性樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
ただし、樹脂原料層１０４ａはこの後でスタンパ１１０（後述）により表面に凹凸が成形されることになるため、樹脂原料層硬化工程において成形される前には、不定形な状態（通常は、所定の粘度を有する液体状態）となっている。
ただし、樹脂原料層１０４ａはこの後でスタンパ１１０（後述）により表面に凹凸が成形されることになるため、樹脂原料層硬化工程において成形される前には、不定形な状態（通常は、所定の粘度を有する液体状態）となっている。
また、樹脂原料層１０４ａの形成方法に制限はない。例えば、樹脂原料層１０４ａは、硬化性樹脂の前駆体をスピンコート等により塗布することで形成することができる。本実施形態においては、放射線硬化性樹脂の一つである紫外線硬化性樹脂の前駆体をスピンコートにより塗布し、樹脂原料層（以下、説明の便宜から「紫外線硬化性樹脂原料層」と呼ぶ場合がある。）１０４ａを形成したものとする。
ところで、本実施形態においては、上記のように第１記録層１０２上に第１反射層１０３を介して紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを形成した例を示して説明するが、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａは、光記録媒体１００の種類や構成などに応じて、第１記録層１０２上に直接形成するようにしてもよく、また、第１反射層１０３以外の１層又は２層以上のその他の層を介して形成するようにしてもよい。
［５．樹脂原料層硬化工程］
次に、樹脂原料層硬化工程において、図１（ｃ）に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ上にスタンパ１１０を載置し、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させる。つまり、第１記録層１０２とは反対側の紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面にスタンパ１１０が載置された状態となる。
スタンパ１１０は、中間層１０４に形成されることになる凹凸の形状（凹凸形状）に対応した形状（転写用凹凸形状）の凹凸（転写用凹凸）を表面に有する型である。そして、スタンパ１１０が有する転写用凹凸の転写用凹凸形状が紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに転写されることにより、中間層１０４に、所望の凹凸形状の凹凸が形成されるよう、転写用凹凸形状は設定されている。
次に、樹脂原料層硬化工程において、図１（ｃ）に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ上にスタンパ１１０を載置し、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させる。つまり、第１記録層１０２とは反対側の紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面にスタンパ１１０が載置された状態となる。
スタンパ１１０は、中間層１０４に形成されることになる凹凸の形状（凹凸形状）に対応した形状（転写用凹凸形状）の凹凸（転写用凹凸）を表面に有する型である。そして、スタンパ１１０が有する転写用凹凸の転写用凹凸形状が紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに転写されることにより、中間層１０４に、所望の凹凸形状の凹凸が形成されるよう、転写用凹凸形状は設定されている。
また、スタンパ１１０の材料としては、光記録媒体１００の製造コストを考慮して、通常は樹脂を用いる。後述する通り、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させるための紫外線は、スタンパ１１０を介して照射することが好ましい。したがって、スタンパ１１０の材料として金属等の不透明材料を用いると、紫外線をスタンパ１１０を介して照射することが不可能となるが、そのような場合には紫外線により各層の劣化など悪影響を及ぼす可能性がある。
ところで、本実施形態においては、後述するように、樹脂原料層１０４ａを半硬化状態に留めておくこと、及び、スタンパ１１０の剥離を加熱環境下で行うことにより、スタンパ１１０に用いる材料の自由度が大きく広がるという利点が発揮される。つまり、従来は、スタンパ１１０を形成したときの表面エネルギーを小さくする観点から、スタンパ１１０を形成する樹脂として、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などが好ましいとされてきた。そして、実際に実用化されているのは、非晶質環状ポリオレフィン樹脂（例えば、ゼオネックスおよびゼオノア（いずれも日本ゼオン社製））である。しかし、本実施形態においては、後述する表面改質処理工程を行うこと、及び、加熱環境下においてスタンパ１１０の剥離を行うことによって、上記のような高機能性の樹脂に限られず、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂等の汎用で低コストの樹脂を用いることができる。なお、表面改質処理工程を行うこと、及び、加熱環境下においてスタンパ１１０の剥離を行うことは、いずれか一方のみを行った場合でも両方を組み合わせて行った場合でも、スタンパ１１０の剥離を良好に行うことができ、スタンパ１１０に用いる材料の自由度を高めることは可能である。
上記利点を顕著に発揮させる観点から、スタンパ１１０の材料としては、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。より好ましくは、ポリカーボネート系樹脂である。なお、スタンパ１１０の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
上記利点を顕著に発揮させる観点から、スタンパ１１０の材料としては、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。より好ましくは、ポリカーボネート系樹脂である。なお、スタンパ１１０の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
さらに、スタンパ１１０は、通常、中央部に表裏を貫通する中心孔を形成された円板形状に形成される。本実施形態においても、スタンパ１１０は、表面に転写用凹凸形状を有し、中央部にセンターホール（図示省略）を形成された円板形状のものを用いているものとする。
なお、スタンパ１１０を作製する場合、その作製方法は任意であるが、例えば、スタンパ１１０を樹脂製スタンパとする場合には、スタンパ１１０が有する転写用凹凸形状の逆（ネガ）の凹凸パターンを有する金属製スタンパ（例えば、ニッケル製スタンパ）を用いて、射出成形等により作製することができる。
また、本実施の形態において使用されるスタンパ１１０の厚さは、形状安定性及びハンドリングの容易さの点で、通常０．３ｍｍ以上とするのが望ましい。但し、厚さは、通常、５ｍｍ以下である。スタンパ１１０の厚さがこの範囲であれば、十分な光透過性を有するため、後述するようにスタンパ１１０を介して紫外線を照射しても、紫外線硬化樹脂等を効率よく硬化させることが可能であり、生産性を向上させることが出来る。
さらに、スタンパ１１０の外径は、第１基板１０１の外径（通常は、光記録媒体１００の外径に等しい）より大きくすることが好ましい。スタンパ１１０の外径を第１基板１０１の外径よりも予め大きく設計しておくと、射出成形でスタンパ１１０を製造する際に、スタンパ１１０の第１基板１０１の外径よりも外側の外周部にも余裕を持って転写用凹凸形状を形成することが可能となり、スタンパ１１０の全面にわたって良好な転写用凹凸形状を形成することが出来る。
また、第１基板１０１の外径よりもスタンパ１１０の外径を大きくすることにより、中間層１０４（及び、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ）の外径よりもスタンパ１１０の外径が大きくなる。このようにすると、中間層１０４の端面の形状を良好にしやすくなる。つまり、仮にスタンパ１１０の外径を第１基板１０１の外径以下にした場合には、スタンパ１１０を紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ上に載置した際に、スタンパ１１０の外周端部に紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの樹脂が付着することがある。この樹脂は、スタンパ１１０を剥離する際にバリとなる場合がある。したがって、中間層１０４（紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ）の外径よりもスタンパ１１０の外径が大きいと、バリとなりやすい紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの端部に存在する樹脂が、中間層１０４の外径よりも外側に存在することとなる。その結果、バリが発生したとしても、バリ発生の部分を取り除くことによって、中間層１０４の端面の形状を良好とすることができる。
具体的には、スタンパ１１０の外径は、第１基板１０１の外径より、直径で通常１ｍｍ以上、好ましくは２ｍｍ以上大きくすることが好ましい。但し、スタンパ１１０の外径を第１基板１０１の外径より大きくする程度は、直径で通常１５ｍｍ以下、好ましくは１０ｍｍ以下であることが好ましい。
スタンパ１１０を載置する際は、通常、スタンパ１１０の凹凸が形成された面を紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに押し付けるようにして載置するが、あらかじめスタンパ１１０の凹凸が形成された面にも、スピンコート等によって紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａと同じ原料を塗布しておき、塗布されたスタンパ１１０と紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａとを載置することもできる。紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの膜厚が所定範囲になるようにするためには、例えば、載置する際の押し付ける力を調節してもよいし、スピンコート時に紫外線照射を行ったり、熱をかけたりする方法等が挙げられる。
そして、スタンパ１１０を紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに載置した状態で、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させる。紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを硬化させる
には、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射すればよい。紫外線の照射方法は限定されず、スタンパ１１０を介して照射してもよいし、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの側面から照射してもよく、さらに、第１基板１０１側から照射するようにしてもよい。紫外線をスタンパ１１０側からの照射する場合には、スタンパ１１０として紫外線を透過しうるもの（光透過性のもの）を用いることが、工業的に好ましい。紫外線を第１基板１０１側から照射する場合には、紫外線の照射により第１記録層１０２がダメージを受けないようにすることが好ましい。紫外線の照射効率および紫外線による各層材料への悪影響軽減の観点から、紫外線はスタンパ１１０を介して照射することが好ましい。
には、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射すればよい。紫外線の照射方法は限定されず、スタンパ１１０を介して照射してもよいし、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの側面から照射してもよく、さらに、第１基板１０１側から照射するようにしてもよい。紫外線をスタンパ１１０側からの照射する場合には、スタンパ１１０として紫外線を透過しうるもの（光透過性のもの）を用いることが、工業的に好ましい。紫外線を第１基板１０１側から照射する場合には、紫外線の照射により第１記録層１０２がダメージを受けないようにすることが好ましい。紫外線の照射効率および紫外線による各層材料への悪影響軽減の観点から、紫外線はスタンパ１１０を介して照射することが好ましい。
紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射する場合の紫外線波長は限定されず、紫外域にピークを有するものであればよいが、そのピーク波長は、通常２５０ｎｍ以上、好ましくは３００ｎｍ以上であり、通常６００ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下である。照射する紫外線のピーク波長が前記範囲未満であっても、前記範囲超過であっても、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化が不十分となる可能性がある。
紫外線の照射量は、樹脂原料層１０４ａの構成物質や組成等によって適宜最適化されるが、通常５０ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ2以上が望ましい。照射量が前記範囲未満の場合は樹脂の未硬化部分が多くなり、剥離時に溝が抜けるなど樹脂原料層１０４ａへの（ひいては、中間層１０４への）凹凸の転写不良が起こる可能性がある。また、紫外線の照射量の上限に特に制限は無いが、後述するように樹脂原料層１０４ａを半硬化状態まで硬化させるようにする場合には、通常５００ｍＪ／ｃｍ2以下、好ましくは４００ｍＪ／ｃｍ2以下が望ましい。照射量が前記範囲を超える場合は、樹脂が完全に硬化してしまい、スタンパ１１０の剥離が困難な状況となり、結果として、剥離傷や溝抜けなど樹脂原料層１０４ａへの（ひいては、中間層１０４への）凹凸の転写不良が発生する場合がある。なお、紫外線の照射時間は、照射量が前記範囲となるように適宜調整される。
紫外線の照射強度は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常３０ｍＷ／ｃｍ2以上、好ましくは４０ｍＷ／ｃｍ2以上が望ましく、通常２００ｍＷ／ｃｍ2以下、好ましくは１５０ｍＷ／ｃｍ2以下が望ましい。照射強度が前記範囲を超えるような強力な紫外線を短時間に照射する場合は、表面改質処理が不均一になったり、物理的な歪みを生じたりする場合がある。また、照射強度が前記範囲未満のような弱い紫外線を長時間照射する場合は、製造効率が低下するばかりか、十分な表面改質処理効果が得られない場合がある。
紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射する場合の照射方法や照射装置には限定はなく、公知の方法、装置を用いることができる。
さらに、本発明においては、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの紫外線による硬化を完結させずに、半硬化状態までの硬化とすることが好ましい。紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化を半硬化状態までの硬化とすることにより、スタンパ１１０と樹脂原料層１０４ａとの密着力が低下するため、後述するスタンパ１１０の剥離を容易にすることができる。この方法によれば、スタンパ１１０の材質としてポリカーボネート系樹脂のような剥離が困難な材質を用いた場合であっても、良好にスタンパ１１０を剥離することが可能となる。したがって、スタンパの材質によらず良好な凹凸形状を有する樹脂原料層１０４ａの形成が可能となり、ひいては良好な凹凸形状を有する中間層１０４を形成することが可能となる。
ここで、半硬化状態までの硬化とは、例えば、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化度合いで判断することができる。具体的には、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに残存す
る二重結合の割合を赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）またはラマン分光法で測定することによって定量することができる。具体的には、未硬化の紫外線硬化性樹脂の二重結合の吸収位置をあらかじめ特定しておき、スタンパ上に設けられた紫外線硬化性樹脂の膜の表面の硬化前後における吸収を測定することにより、硬化前後の二重結合の量の比率を算出して得ることができる。
本発明において、半硬化状態とは、スタンパ上に設けられた紫外線硬化性樹脂表面の、硬化処理を行った後における二重結合の残存率が、通常９０％以下、好ましくは５０％以下、より好ましくは３０％以下であることが望ましい。
る二重結合の割合を赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）またはラマン分光法で測定することによって定量することができる。具体的には、未硬化の紫外線硬化性樹脂の二重結合の吸収位置をあらかじめ特定しておき、スタンパ上に設けられた紫外線硬化性樹脂の膜の表面の硬化前後における吸収を測定することにより、硬化前後の二重結合の量の比率を算出して得ることができる。
本発明において、半硬化状態とは、スタンパ上に設けられた紫外線硬化性樹脂表面の、硬化処理を行った後における二重結合の残存率が、通常９０％以下、好ましくは５０％以下、より好ましくは３０％以下であることが望ましい。
一方、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａが半硬化しているか否かを定性的に判断する方法の一つとして、硬化処理を行った後において、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａが粘性を有する状態を挙げることができる。具体的には、後述するスタンパ１１０の剥離を行った時点で、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面を指で触った場合に、べとつくような状態を挙げることができる。
このように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化を半硬化状態までの硬化とするためには、上述の紫外線照射の条件、即ち、照射量、照射強度及び照射時間を適宜最適化すればよい。
本実施形態では、スタンパ１１０を介して、スタンパ１１０側から紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａに紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂の前駆体を重合させることにより、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを半硬化状態まで硬化させたものとして説明を行う。
以上のようにして、前記樹脂原料層１０４ａを硬化させて、データ基板１１１（即ち、第１基板１０１、第１記録層１０２及び第１反射層１０３）、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ、並びに、スタンパ１１０を備えた接着体１１２が得られる。
以上のようにして、前記樹脂原料層１０４ａを硬化させて、データ基板１１１（即ち、第１基板１０１、第１記録層１０２及び第１反射層１０３）、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ、並びに、スタンパ１１０を備えた接着体１１２が得られる。
［６．スタンパ剥離工程］
スタンパ剥離工程では、図１（ｄ）に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ（図１（ｃ）参照）からスタンパ１１０を剥離させる。これにより、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａにスタンパ１１０の転写用凹凸形状が転写される。そして、この転写された転写用凹凸形状に応じて凹凸形状が、中間層１０４に形成されることになる。なお、本明細書では、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａとは、塗布後、硬化され、スタンパが剥離され、更に表面効果処理を施されるよりも以前のものを指す。また、中間層１０４とは、スタンパ１１０が剥離された後で表面効果処理を施された後のものを指す。したがって、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ及び中間層１０４は同様の位置に形成された層を指すものであるが、その状態が異なるものである。
スタンパ剥離工程では、図１（ｄ）に示すように、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ（図１（ｃ）参照）からスタンパ１１０を剥離させる。これにより、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａにスタンパ１１０の転写用凹凸形状が転写される。そして、この転写された転写用凹凸形状に応じて凹凸形状が、中間層１０４に形成されることになる。なお、本明細書では、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａとは、塗布後、硬化され、スタンパが剥離され、更に表面効果処理を施されるよりも以前のものを指す。また、中間層１０４とは、スタンパ１１０が剥離された後で表面効果処理を施された後のものを指す。したがって、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ及び中間層１０４は同様の位置に形成された層を指すものであるが、その状態が異なるものである。
スタンパ１１０を剥離させる具体的方法に制限はないが、通常は、光記録媒体が円盤形状の場合には、内周を真空吸着して、光記録媒体の内周にナイフエッジを入れ、そこにエアーを吹き込みながらディスク（後述する光記録媒体用積層体１１３）とスタンパ１１０を引き離すという方法で剥離を行う。
ここで、上記のスタンパ１１０の剥離は、常温で行う等、温度制御せずに行っても、接着体１１２を加熱した状態において行ってもよいが、加熱した状態においてスタンパ１１０の剥離することで剥離が良好となり、良好な凹凸形状を有する樹脂原料層１０４ａを得ることができ、ひいては良好な凹凸形状を有する中間層１０４が得られるので好ましい。加熱操作を行う時期は任意であり、例えば基板の用意、第１記録層形成工程、第１反射層形成工程、樹脂原料層形成工程、樹脂原料層硬化工程などのスタンパ剥離工程以前の時点から加熱を開始しても良いが、スタンパ剥離工程直前あるいは、スタンパ剥離工程中までに加熱を開始することが望ましい。中でも、通常は、樹脂原料層硬化工程後、すなわちスタンパ剥離工程において加熱操作を行うようにすることが好ましい。また、スタンパ１１０を剥離する時の接着体１１２の温度は任意であるが、通常、５０℃以上が好ましく、また、樹脂原料層１０４ａの（即ち、中間層１０４の）ガラス転移温度以下、かつスタンパ１１０のガラス転移温度以下とすることが好ましい。
なお、樹脂原料層硬化工程において樹脂原料層１０４ａの硬化を完結させた場合であっても、スタンパ剥離工程において加熱した状態で剥離を行うようにすれば、スタンパ１１０の剥離を良好に行うことが可能である。また、本実施形態のように、樹脂原料層硬化工程において樹脂原料層１０４ａを半硬化状態まで硬化させた場合にあっては、スタンパ剥離工程において加熱した状態で剥離を行うようにすれば、スタンパ１１０の剥離をより一層安定して行なうことが可能である。
なお、接着体１１２の温度は、非接触型の温度計（例えば、ＫＥＹＥＮＣＥ社製の非接触型温度計ＩＴ２−６０）により測定することができる。
なお、接着体１１２の温度は、非接触型の温度計（例えば、ＫＥＹＥＮＣＥ社製の非接触型温度計ＩＴ２−６０）により測定することができる。
以上の操作を経て、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面にスタンパ１１０の転写用凹凸の形状（即ち、転写用凹凸形状）が転写された樹脂原料層１０４ａを形成し、第１基板１０１、第１記録層１０２、第１反射層１０３及び樹脂原料層１０４ａを備えた光記録媒体用積層体１１３を得ることができる（図１（ｄ）参照）。
［７．表面改質処理工程］
本実施形態では、図１（ｅ）に示すように、スタンパ１１０を剥離することによって樹脂原料層１０４ａに転写用凹凸形状を転写した後で、樹脂原料層１０４ａに表面改質処理を施す。これにより、樹脂原料層１０４ａは硬化が進行し、中間層１０４が形成される。ここで、表面改質処理とは、樹脂原料層１０４ａの硬化を促進する処理であれば限定されないが、放射線照射処理及び／又は加熱処理であることが好ましい。また、放射線の中でも、紫外線を用いることが好ましい。したがって、例えば樹脂原料層１０４ａが紫外線硬化性樹脂で構成されている場合には、表面改質処理として紫外線照射及び加熱処理の何れを用いてもよいが、少なくとも紫外線照射を用いることが好ましい。また、例えば樹脂原料層１０４ａが熱硬化性樹脂で構成されている場合にも、表面改質処理として紫外線照射及び加熱処理の何れを用いてもよいが、表面改質処理として、少なくとも加熱処理を用いることが好ましい。
本実施形態では、図１（ｅ）に示すように、スタンパ１１０を剥離することによって樹脂原料層１０４ａに転写用凹凸形状を転写した後で、樹脂原料層１０４ａに表面改質処理を施す。これにより、樹脂原料層１０４ａは硬化が進行し、中間層１０４が形成される。ここで、表面改質処理とは、樹脂原料層１０４ａの硬化を促進する処理であれば限定されないが、放射線照射処理及び／又は加熱処理であることが好ましい。また、放射線の中でも、紫外線を用いることが好ましい。したがって、例えば樹脂原料層１０４ａが紫外線硬化性樹脂で構成されている場合には、表面改質処理として紫外線照射及び加熱処理の何れを用いてもよいが、少なくとも紫外線照射を用いることが好ましい。また、例えば樹脂原料層１０４ａが熱硬化性樹脂で構成されている場合にも、表面改質処理として紫外線照射及び加熱処理の何れを用いてもよいが、表面改質処理として、少なくとも加熱処理を用いることが好ましい。
このように、スタンパ１１０を剥離して樹脂原料層１０４ａに転写用凹凸形状を転写した後、樹脂原料層１０４ａに表面改質処理を施すことにより、樹脂原料層１０４ａの硬化反応を促進して硬化を完結させ、中間層１０４を得ることが出来る。これにより、最早、スタンパ１１０を剥離した状態でデータ基板１１１を保持した場合でも、中間層１０４に転写された凹凸の形状は変化することがなくなり、後述する第２記録層の記録・再生を安定化させることが出来る。
前記の表面改質処理の利点は、樹脂原料層硬化工程において樹脂原料層１０４ａの硬化を半硬化状態までに留めておいた場合だけでなく、樹脂原料層１０４ａを更に硬化させていた場合であっても得られるものである。この点について説明すると、樹脂原料層硬化工程において樹脂原料層１０４ａの硬化を半硬化状態から更に進行させた場合、例え樹脂原料層１０４ａの硬化を完結させるように硬化を大きく進行させた場合であっても、何らかの理由により、非常に微細なサイズの未硬化部分が残ることがある。このような未硬化部分は、時間の経過と共に凹凸形状が変化する可能性があったり、また特に溶媒を用いて記録層を積層する場合に、溝部とランド部に積層される記録層の厚さ比率が変化することが多く、光記録媒体の記録・再生の安定性を低下させる一因となっていた。しかし、表面改質処理を行うことにより、このような未硬化部分を硬化させることができるので、スタンパ剥離後、第２記録層形成前にデータ基板１１１を保持した場合でも、樹脂原料層１０４ａに転写された凹凸の形状は変化することを防止でき、光記録媒体の記録・再生を安定させることができるのである。
スタンパ１１０を剥離してから表面改質処理を行う迄の時間は本発明の効果が著しく損なわれない限り限定されないが、通常２４時間以内、好ましくは１２時間以内であることが望ましい。特に、スタンパ１００を剥離して直ちに表面改質処理することが最適である。また、表面改質処理を複数回に分割して行うことも出来る。この場合も、初回の表面改質処理は前記の時期に行うことが望ましい。
表面改質処理を紫外線照射で行う場合の紫外線波長は限定されず、紫外域にピークを有するものであれば制限は無いが、そのピーク波長は、通常２５０ｎｍ以上、好ましくは３００ｎｍ以上であり、通常６００ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下である。照射する紫外線のピーク波長が前記範囲未満であっても、前記範囲超過であっても、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化が不十分となる可能性がある。
紫外線の照射量は、樹脂原料層１０４ａの構成物質や組成、前記の樹脂原料層硬化工程における硬化条件等によって適宜最適化されるが、通常５０ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ2以上、より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ2以上が望ましく、通常１０００ｍＪ／ｃｍ2以下、好ましくは８００ｍＪ／ｃｍ2以下、より好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以下が望ましい。紫外線の照射量が前記範囲未満である場合は、十分な表面改質効果が得られない場合があり、前記範囲超過である場合は、収縮や媒体の温度上昇等の理由により媒体に物理的な歪みが生じる場合がある。
紫外線の照射強度は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常５０ｍＷ／ｃｍ2以上、好ましくは２００ｍＷ／ｃｍ2以上が望ましい。照射強度が前記範囲未満のような弱い紫外線を長時間照射する場合は、製造効率が低下するばかりか、反応速度が遅くなり十分な表面改質処理効果が得られない場合がある。
表面改質処理として紫外線照射する場合の照射方法や照射装置には限定はなく、前記の樹脂原料層硬化工程と同様、公知の方法、装置を用いることができる。
一方、表面改質処理として加熱を行う場合の加熱方法や加熱装置には限定は無いが、樹脂原料層１０４ａの全面に亘って均一に加熱することが望ましい。その点では、オーブン式の加熱方法または赤外線ランプを使用した加熱方式が適している。
表面改質処理をオーブン等の熱源による加熱処理で行う場合の温度は、樹脂原料層１０４ａの構成物質や組成、前記の樹脂原料層硬化工程における硬化条件等によって適宜最適化されるが、通常４０℃以上、好ましくは５０℃以上が望ましく、通常１２０℃以下、好ましくは１００℃以下が望ましい。加熱温度が前記範囲未満である場合は、十分な表面改質効果が得られない場合があり、また十分な改質効果を得るためには長時間の加熱が必要となるため製造効率が低下する傾向にある。また、加熱温度が前記範囲超過である場合は、熱により基板に物理的な歪みを生じたり、記録層にダメージを与えてしまう可能性がある。
オーブン等の熱源によって加熱処理を行う場合の加熱時間は、通常１０秒以上、好ましくは３０秒以上、より好ましくは１分以上であり、通常３時間以下、好ましくは２時間以下である。加熱時間が前記範囲未満のような短時間に高温加熱を行うような場合は、表面改質処理が不均一になったり、物理的な歪みを生じたりする場合がある。また、低温の加熱を前記範囲超過のような長時間行うような場合は、製造効率が低下するばかりか、十分な表面改質処理効果が得られない場合がある。
また、加熱処理は、赤外線を用いた加熱方法も好ましい。赤外線を用いた加熱の場合は瞬時に加熱することが出来るため、数秒程度の加熱で十分な表面改質処理効果を得ることが出来る。このため、生産効率上、好ましい加熱方法である。
また、加熱処理は、赤外線を用いた加熱方法も好ましい。赤外線を用いた加熱の場合は瞬時に加熱することが出来るため、数秒程度の加熱で十分な表面改質処理効果を得ることが出来る。このため、生産効率上、好ましい加熱方法である。
本実施形態では、表面改質処理により、半硬化状態であった樹脂原料層１０４ａを十分に硬化されることになる。そして、この表面改質処理工程を経たことによって、光記録媒体用積層体１１３において、樹脂原料層１０４ａ（即ち、中間層１０４）の硬化を完結させ、次の工程（ここでは、第２記録層形成工程）までの間に光記録媒体用積層体１１３を保存した場合でも、中間層１０４が経時的に劣化することを抑制できるようになっている。
［８．第２記録層形成工程］
第２記録層形成工程では、図１（ｆ）に示すように、中間層１０４上に第２記録層１０５を形成する。第２記録層１０５の形成方法に制限はないが、例えば以下の方法で形成することができる。即ち、有機色素を含む塗布液を、スピンコート等により中間層１０４表面に塗布する。そして、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱等を行い、第２記録層１０５を成膜する。［４．樹脂原料層形成工程］から［８．第２記録層形成工程］を繰り返すことによって、積層型多層光記録媒体を効率よく製造することができる。
第２記録層形成工程では、図１（ｆ）に示すように、中間層１０４上に第２記録層１０５を形成する。第２記録層１０５の形成方法に制限はないが、例えば以下の方法で形成することができる。即ち、有機色素を含む塗布液を、スピンコート等により中間層１０４表面に塗布する。そして、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱等を行い、第２記録層１０５を成膜する。［４．樹脂原料層形成工程］から［８．第２記録層形成工程］を繰り返すことによって、積層型多層光記録媒体を効率よく製造することができる。
なお、本実施形態は、第２記録層１０５を中間層１０４上に直接形成した例を示して説明するが、光記録媒体１００の種類や構成などに応じて、１層又は２層以上の他の層（例えば保護層やバッファー層）を介して第２記録層１０５を形成してもよいことはいうまでもない。
［９．第２反射層形成工程］
第２反射層形成工程では、図１（ｇ）に示すように、第２記録層１０５上に第２反射層１０６を形成する。第２反射層１０６の形成方法に制限はないが、例えば、Ａｇ合金等をスパッタ蒸着することにより第２記録層１０５上に第２反射層１０６を成膜することができる。
第２反射層形成工程では、図１（ｇ）に示すように、第２記録層１０５上に第２反射層１０６を形成する。第２反射層１０６の形成方法に制限はないが、例えば、Ａｇ合金等をスパッタ蒸着することにより第２記録層１０５上に第２反射層１０６を成膜することができる。
［１０．第２基板形成工程］
第２基板形成工程においては、図１（ｈ）に示すように、第２反射層１０６上に第２基板１０８を形成する。第２基板１０８の形成方法に制限はないが、例えば、第２基板１０８を、接着層１０７を介して第２反射層１０６に貼り合わせて形成することができる。なお、第２基板１０８に制限はないが、ここでは、ポリカーボネートを射出成形して得られた鏡面基板を第２基板１０８として用いているものとする。
第２基板形成工程においては、図１（ｈ）に示すように、第２反射層１０６上に第２基板１０８を形成する。第２基板１０８の形成方法に制限はないが、例えば、第２基板１０８を、接着層１０７を介して第２反射層１０６に貼り合わせて形成することができる。なお、第２基板１０８に制限はないが、ここでは、ポリカーボネートを射出成形して得られた鏡面基板を第２基板１０８として用いているものとする。
ここで、接着層１０７の構成は任意である。例えば、接着層１０７は、透明であっても不透明であってもよい。また、表面が多少粗くてもよい。さらに、遅延硬化型の接着剤であっても問題なく使用できる。また、例えば、第２反射層１０６上にスクリーン印刷等の方法で接着剤を塗布し、紫外線を照射してから第２基板１０８を載置し、押圧することにより接着層１０７を形成するようにしてもよい。また、第２反射層１０６と第２基板１０８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより接着層１０７を形成することも可能である。
以上のようにして、光記録媒体１００の製造が完了する。本実施形態の光記録媒体の製造方法によれば、図１（ｈ）に示すような層構成の光記録媒体１００を得ることができる。また、本発明の光記録媒体の製造方法によれば、光による情報の記録・再生が安定した高品質の光記録媒体１００を製造できる。さらに、本実施形態の光記録媒体の製造方法によれば、良好な凹凸形状を有する、欠陥の少ない中間層１０４を備える光記録媒体１００
を安定的に製造することができる、スタンパ１１０の材質によらず、良好な凹凸形状を有する中間層１０４を備える光記録媒体１００を製造することが可能である、などの利点も得ることができる。また、表面改質処理を行ったことにより、凹凸形状を有するデータ記録領域に対する記録・再生を安定化できるという効果のみならず、ＢＣＡ（バーストカッティングエリア）と呼ばれる媒体識別信号を記録する領域に対しても、良好な信号記録特性が得られる。これは、表面処理を行うことで硬化反応が進み、中間層１０４の弾性率が高くなったためと考えられる。
を安定的に製造することができる、スタンパ１１０の材質によらず、良好な凹凸形状を有する中間層１０４を備える光記録媒体１００を製造することが可能である、などの利点も得ることができる。また、表面改質処理を行ったことにより、凹凸形状を有するデータ記録領域に対する記録・再生を安定化できるという効果のみならず、ＢＣＡ（バーストカッティングエリア）と呼ばれる媒体識別信号を記録する領域に対しても、良好な信号記録特性が得られる。これは、表面処理を行うことで硬化反応が進み、中間層１０４の弾性率が高くなったためと考えられる。
なお、図１（ｈ）に示した層構成はあくまで一例であり、例えば、本実施形態の光記録媒体の製造方法により、図１（ｈ）に図示しない１層又は２層以上の他の層（例えば、第１基板１０１と第１記録層１０２との間に下地層を挿入する。）を有する光記録媒体を製造するようにしてもよい。また、上述した各工程の前、途中、後に、上述した工程以外の他の工程を行うようにしてもよい。
上述の工程は有機色素を含む２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面入射型の光記録媒体を例にとって説明したが、例えばＢｌｕ−ｒａｙ ディスク等（ＢＤ−ＲＯＭ、ＢＤ−Ｒ、ＢＤ−ＲＥ等）のいわゆる膜面入射型の光記録媒体の製造においても、本発明の製造方法を適用することが出来る。その場合、記録レーザ光１０９が図１（ｈ）の上側から照射されることになるため、中間層からみて上下に存在するそれぞれの層の形成工程において、記録層形成工程と反射層形成工程の工程順が逆になり、第２基板形成工程の代わりに、カバー層形成工程を有する。
［１１．カバー層形成工程］
カバー層は、記録レーザ光に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板（以下適宜、「カバー層シート」という）を接着剤で貼り合せるか、液状の材料を塗布後に光、放射線、又は熱等により硬化して形成する。
カバー層は、記録レーザ光に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板（以下適宜、「カバー層シート」という）を接着剤で貼り合せるか、液状の材料を塗布後に光、放射線、又は熱等により硬化して形成する。
カバー層の材料として用いられるプラスチックは、記録レーザ光に対して透明で複屈折の少ない材料である限り任意の材料を用いることが出来るが、例えば、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル、三酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、接着には、例えば、光、放射線硬化、熱硬化樹脂や、感圧性の接着剤などを用いることが出来る。さらに、感圧性接着剤としては、例えば、アクリル系、メタクリレート系、ゴム系、シリコン系、ウレタン系の各ポリマーからなる粘着剤を使用できる。なお、カバー層の材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。
カバー層シートを接着するための具体的方法も任意であるが、例えば、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を記録層上に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜上にポリカーボネートシートを重ね合わせる。その後、必要に応じて重ね合わせた状態で、媒体を回転させるなどして塗布液を更に延伸展開した後、ＵＶランプで紫外線を照射して硬化させる。或いは、感圧性接着剤をあらかじめカバー層シートに塗布しておき、カバー層シートを記録層上に重ね合わせた後、適度な圧力で押さえつけて圧着することもできる。
前記粘着剤としては、透明性、耐久性の観点から、アクリル系、メタクリレート系のポリマー粘着剤が好ましい。より具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉｓｏ−オクチルアクリレートなどを主成分モノマーとし、これらの主成分モノマーに、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の極性モノマーを共重合させて得られる粘着剤が好ましい。主成分モノマーの分子量調整、その短鎖成分の混合、アクリル酸による架橋点密度の調整により、ガラス転移温度Ｔｇ、タック性能（低い圧力で接触させたときに直ちに形成される接着力）、剥離強度、せん断保持力等の物性を制御することができる。アクリル系ポリマーの溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン等が用いられる。上記粘着剤は、更に、ポリイソシアネート系架橋剤を含有することが好ましい。なお、粘着剤は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。
また、粘着剤としては前述のような材料を用いることができ、カバー層シートの記録層側に接する表面に粘着剤を所定量均一に塗布し、溶剤を乾燥させた後、記録層側表面（界面層を有する場合はその表面）に貼り合わせローラー等により圧力をかけて硬化させることができる。また、該粘着剤が塗布されたカバー層シートを、記録層を形成した記録媒体表面に接着する際には、空気を巻き込んで泡を形成しないように、真空中で貼り合せるのが好ましい。
また、離型フィルム上に上記粘着剤を塗布して溶剤を乾燥した後、カバー層シートを貼り合わせ、更に離型フィルムを剥離してカバー層シートと粘着剤層を一体化した後、記録媒体と貼りあわせてもよい。
塗布によってカバー層を形成する場合には、例えば、スピンコート法、ディップ法等が用いられるが、特に、ディスク状媒体に対してはスピンコート法を用いることが好ましい。塗布によるカバー層を形成する際、カバー層の材料としてはウレタン、エポキシ、アクリル系の樹脂等を用い、塗布後、紫外線、電子線、放射線を照射し、ラジカル重合若しくはカチオン重合を促進して硬化させることができる。
［II．第二実施形態］
本発明の光記録媒体の製造方法においては、光記録媒体の反りや、中間層上に形成される記録層の記録特性等を考慮し、樹脂原料層を複数の樹脂層から形成してもよい。この場合、樹脂原料層を構成する複数の樹脂層のうち、スタンパにより凹凸形状を形成される樹脂層が最外樹脂層となる。
本発明の光記録媒体の製造方法においては、光記録媒体の反りや、中間層上に形成される記録層の記録特性等を考慮し、樹脂原料層を複数の樹脂層から形成してもよい。この場合、樹脂原料層を構成する複数の樹脂層のうち、スタンパにより凹凸形状を形成される樹脂層が最外樹脂層となる。
このように樹脂原料層を複数の樹脂層から構成する場合、樹脂原料層を構成する樹脂層の数は、特に制限されない。具体的には、上記樹脂層の数は、通常１０層以下、好ましくは５層以下、より好ましくは４層以下とする。一方、上記樹脂層の数は、２層以上とする。但し、生産効率の観点からは、樹脂原料層を構成する樹脂層の数は、２層以上、５層以下とすることが好ましい。生産効率の観点から特に好ましいのは、樹脂原料層を構成する樹脂層の数を、２層又は３層構造とすることである。
以下、樹脂原料層を２層の樹脂層から構成する場合について、第二実施形態を示して説明する。なお、以下の第二実施形態では、第一実施形態に対して、樹脂原料層の形成方法、及び、スタンパの載置方法を変更したものである。また、樹脂原料層１０４を形成する樹脂としては、第一実施形態と同様に、紫外線硬化性樹脂を用いているものとして説明を行う。
本実施形態では、基板の用意、第１記録層形成工程、及び、第１反射層形成工程は、それぞれ第一実施形態と同様にして行い、その後、樹脂原料層形成工程を行う。
図２（ａ），（ｂ）は、本発明の第二実施形態が適用される光記録媒体の製造方法の樹脂原料層形成工程について説明するための模式図である。なお、図２（ａ），（ｂ）において、図１（ａ）〜（ｈ）と同様の部位については、図１（ａ）〜（ｈ）と同様の符号を付して説明する。
図２（ａ），（ｂ）は、本発明の第二実施形態が適用される光記録媒体の製造方法の樹脂原料層形成工程について説明するための模式図である。なお、図２（ａ），（ｂ）において、図１（ａ）〜（ｈ）と同様の部位については、図１（ａ）〜（ｈ）と同様の符号を付して説明する。
本実施形態の製造方法では、樹脂原料層形成工程において、図２（ａ），（ｂ）に示すように、表面に第１樹脂層１０４ａ1を形成したデータ基板１１１上に、最外樹脂層である第２樹脂層１０４ａ2を形成したスタンパ１１０を載置し、第１樹脂層１０４ａ1と第２樹脂層１０４ａ2とから紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ（図３参照）を形成する。つまり、第１樹脂層１０４ａ1上に、最外樹脂層である第２樹脂層１０４ａ2を形成したスタンパ１１０を載置することによって、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ上にスタンパ１１０が載置された状態となる。以下、この点に関して詳しく説明する。
即ち、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを形成するためには、図２（ａ）に示すように、第１基板１０１、第１記録層１０２及び第１反射層１０３から構成されるデータ基板１１１上に紫外線硬化樹脂を塗布し、例えばスピンコート等により第１樹脂層１０４ａ1を形成する。なお、データ基板１１１の製造方法は、第一実施形態と同様である。
ここで、第１樹脂層１０４ａ1を硬化させる程度は限定されず、第２樹脂層１０４ａ2を載置する段階において、十分に硬化を完結させておいてもよく、半硬化状態であってもよい。第２樹脂層１０４ａ2を載置する段階において第１樹脂層１０４ａ1を十分に硬化を完結させておけば、第１樹脂層１０４ａ1と第２樹脂層１０４ａ2とから形成される紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの厚みを制御し易く、均一な膜厚にすることができる。また、第２樹脂層１０４ａ2を載置する段階において、第１樹脂層１０４ａ1を半硬化の状態としておけば、第１樹脂層１０４ａ1と第２樹脂層１０４ａ2との界面の親和性を向上させることができる。
一方、スタンパ１１０上には、図２（ｂ）に示すように、転写用凹凸形状を有している側の表面上に紫外線硬化樹脂を塗布し、例えばスピンコート等により、第２樹脂層１０４ａ2を形成する。なお、スタンパ１１０は、第一実施形態と同様のものを用いることができる。また、本実施形態においては、この第２樹脂層１０４ａ2に凹凸形状が形成されることになるため、第２樹脂層１０４ａ2は最外樹脂層として機能することになる。
また、第２樹脂層１０４ａ2の形成方法に制限はないが、例えば、スタンパ１１０の表面全体に、紫外線硬化性樹脂の前駆体をスピンコート等により塗布して成膜することができる。
また、第２樹脂層１０４ａ2の形成方法に制限はないが、例えば、スタンパ１１０の表面全体に、紫外線硬化性樹脂の前駆体をスピンコート等により塗布して成膜することができる。
次いで、第１樹脂層１０４ａ1と第２樹脂層１０４ａ2とを向かい合うようにして、第２樹脂層１０４ａ2が形成されたスタンパ１１０を、第１樹脂層１０４ａ1が形成されたデータ基板１１１と貼り合わせる。このとき、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの膜厚が所定範囲になるようにするには、例えば、スピンコート時に紫外線照射を行ったり、熱をかけたりする方法等が考えられる。これにより、データ基板１１１の表面（即ち、第１反射層１０３の表面）全体に、第１樹脂層１０４ａ1と第２樹脂層１０４ａ2とからなる紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａが形成される。即ち、第１記録層１０２上に、第１反射層１０３を介して紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａが形成される。そして、上記操作によって、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ上に、転写用凹凸形状を有するスタンパ１１０を載置した状態を得ることができる。換言すれば、第１記録層１０２とは反対側の紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの表面にスタンパ１１０が載置された状態となる。
樹脂原料層硬化工程としては、第一実施形態と同様に、図３に示すように、この状態でスタンパ１１０を介して、スタンパ１１０側から紫外線を照射して樹脂原料層１０４ａを硬化させる。なお、図３は、本発明の第二実施形態が適用される光記録媒体の製造方法の樹脂原料層硬化工程について説明するための模式図である。図３において、図１（ａ）〜（ｈ）及び図２（ａ），（ｂ）と同様の部位については、図１（ａ）〜（ｈ）及び図２（ａ），（ｂ）と同様の符号を付して説明する。
本発明の第二実施形態においても、第一実施形態と同様に、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの紫外線による硬化を完結させずに、半硬化状態までの硬化とすることも好ましい。特に、最外樹脂層である第２樹脂層１０４ａ2を、半硬化状態までの硬化とすることが好ましい。このように紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化を半硬化状態までの硬化とすることにより、スタンパ１１０と樹脂原料層１０４ａとの密着力が低下するため、後述するスタンパ１１０の剥離を容易にすることが出来る。また、この方法によれば、スタンパ１１０の材質としてポリカーボネート系樹脂のような剥離が困難な材質を用いた場合であっても、良好にスタンパ１１０を剥離することが可能となる。
紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａの硬化を半硬化状態までの硬化とするためには、第一実施形態と同様に、紫外線照射の条件を調節すればよい。
以上のようにして、データ基板１１１、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ及びスタンパ１１０を備えた接着体１１２'が得られる。なお、本実施形態の接着体１１２'においては、第１樹脂層１０４ａ1及び第２樹脂層１０４ａ2はいずれも半硬化状態となっているものとして説明する。
以上のようにして、データ基板１１１、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａ及びスタンパ１１０を備えた接着体１１２'が得られる。なお、本実施形態の接着体１１２'においては、第１樹脂層１０４ａ1及び第２樹脂層１０４ａ2はいずれも半硬化状態となっているものとして説明する。
このようにして樹脂原料層１０４ａを硬化させた後、第一実施形態と同様にして、スタンパ１１０を硬化性樹脂層１０４ａから剥離する。これにより、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａにスタンパ１１０の転写用凹凸形状が転写される（図１（ｄ）参照）。
第二実施形態においても、スタンパ１１０を剥離することによって樹脂原料層１０４ａに転写用凹凸形状を転写した後、樹脂原料層１０４ａに表面改質処理を施す表面改質処理工程を行う（図１（ｅ）参照）。ここで、表面改質処理の方法、条件は、前記の第一実施形態と同様にして行うことができる。これにより、第１樹脂層１０４ａ1であった層部分と第２樹脂層１０４ａ2であった層部分との両方の硬化が十分に進行し、樹脂原料層１０４ａの硬化が完結され、中間層１０４が得られる。
このように、第二実施形態においても、スタンパ１１０を剥離して樹脂原料層１０４ａに転写用凹凸形状を転写した後、樹脂原料層１０４ａに表面改質処理を施すことにより、樹脂原料層１０４ａの硬化反応を促進し硬化を完結させ、中間層１０４を形成することが出来る。これにより、最早、スタンパ１１０を剥離した状態でデータ基板１１１を保持した場合でも、中間層１０４に転写された凹凸の形状は変化することがなくなり、後述する第２記録層の記録・再生を安定化させることが出来る。
その後、第２記録層形成工程、第２反射層形成工程、及び、第２基板形成工程は、それぞれ第一実施形態と同様にして行うようにすればよい。
以上のようにすれば、第一実施形態と同様に、良好な凹凸形状を有する、欠陥の少ない中間層１０４を備えた光記録媒体１００（図１（ｇ）参照）を製造することができる。また、本実施形態の光記録媒体の製造方法によれば、第一実施形態と同様の利点を得ることができる。
以上のようにすれば、第一実施形態と同様に、良好な凹凸形状を有する、欠陥の少ない中間層１０４を備えた光記録媒体１００（図１（ｇ）参照）を製造することができる。また、本実施形態の光記録媒体の製造方法によれば、第一実施形態と同様の利点を得ることができる。
さらに、本実施形態によれば、中間層１０４の形成のために、紫外線硬化性樹脂原料層１０４ａを複数の樹脂層（第１樹脂層１０４ａ1，第２樹脂層１０４ａ2）により構成するようにした。このため、第２記録層１０５の記録特性を良好にしやすい材料を最外樹脂層として用いることができる、第１反射層１０３との密着性がよい材料をデータ基板１１１に接する樹脂層に用いることができる、光記録媒体の反りの改善する材料をデータ基板１１１に接する樹脂層に用いることができる、という利点を得ることも可能である。
［III．本発明の光記録媒体の製造方法を適用しうる光記録媒体の説明］
上記の第一及び第二実施形態では、製造対象となる光記録媒体の例として、有機色素を含む２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面２層ＤＶＤ−Ｒを例に挙げて説明したが、本発明の光記録媒体の製造方法を適用しうる光記録媒体はこれに限られるものではない。即ち、基板と、記録層と、凹凸形状を有する中間層とを有し、記録層上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層を形成し、樹脂原料層上に転写用凹凸形状を有するスタンパを載置し、樹脂原料層を硬化させた後、樹脂原料層からスタンパを剥離し、樹脂原料層にスタンパの転写用凹凸形状を転写して中間層を形成する工程を含む製造方法によって製造される光記録媒体又は光記録媒体用積層体であれば本発明を適用することができ、これにより、本発明の効果が良好に発揮される。したがって、追記型のＤＶＤ−Ｒのみならず、再生専用のＤＶＤ−ＲＯＭ、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等はもちろん、短波長青色レーザを用いることによって高密度記録を可能とするＨＤ ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ、ＨＤ ＤＶＤ−ＲＷ等にも好適に用いることが出来る。更に、上記いわゆる基板面入射型の光記録媒体のみならず、Ｂｌｕ−ｒａｙ ディスク等（ＢＤ−ＲＯＭ、ＢＤ−Ｒ、ＢＤ−ＲＥ等）のいわゆる膜面入射型の光記録媒体の製造においても、本発明の製造方法を適用することが出来る。
上記の第一及び第二実施形態では、製造対象となる光記録媒体の例として、有機色素を含む２つの記録層を有するデュアルレイヤタイプの片面２層ＤＶＤ−Ｒを例に挙げて説明したが、本発明の光記録媒体の製造方法を適用しうる光記録媒体はこれに限られるものではない。即ち、基板と、記録層と、凹凸形状を有する中間層とを有し、記録層上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層を形成し、樹脂原料層上に転写用凹凸形状を有するスタンパを載置し、樹脂原料層を硬化させた後、樹脂原料層からスタンパを剥離し、樹脂原料層にスタンパの転写用凹凸形状を転写して中間層を形成する工程を含む製造方法によって製造される光記録媒体又は光記録媒体用積層体であれば本発明を適用することができ、これにより、本発明の効果が良好に発揮される。したがって、追記型のＤＶＤ−Ｒのみならず、再生専用のＤＶＤ−ＲＯＭ、書換可能型のＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等はもちろん、短波長青色レーザを用いることによって高密度記録を可能とするＨＤ ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ、ＨＤ ＤＶＤ−ＲＷ等にも好適に用いることが出来る。更に、上記いわゆる基板面入射型の光記録媒体のみならず、Ｂｌｕ−ｒａｙ ディスク等（ＢＤ−ＲＯＭ、ＢＤ−Ｒ、ＢＤ−ＲＥ等）のいわゆる膜面入射型の光記録媒体の製造においても、本発明の製造方法を適用することが出来る。
また、例えば、本発明の光記録媒体の製造方法は、記録層を１層のみ有する光記録媒体に適用することもできる。
さらに、例えば、本発明の光記録媒体の製造方法は、記録層を３層以上有し、中間層を２層以上有する光記録媒体に適用することもできる。この場合、２層以上の中間層のそれぞれを形成するために、上記実施形態で説明した中間層の形成方法を適用することができる。
また、本発明の光記録媒体の製造方法を適用しうる光記録媒体としては、一度の記録のみ可能な追記型媒体（ＣＤ−ＲやＤＶＤ−ＲなどのＷｒｉｔｅ Ｏｎｃｅ媒体）や、記録消去を繰り返し行なえる書き換え型媒体（ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷなどのＲｅＷｒｉｔａｂｌｅ媒体）が好適であるが、再生専用媒体（ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭなどのＲＯＭ媒体）を排除するものではない。特に、本発明の光記録媒体の製造方法は、追記型媒体に適用した場合に、安定した記録・再生特性を発現することが出来るため好ましい。
さらに、例えば、本発明の光記録媒体の製造方法は、記録層を３層以上有し、中間層を２層以上有する光記録媒体に適用することもできる。この場合、２層以上の中間層のそれぞれを形成するために、上記実施形態で説明した中間層の形成方法を適用することができる。
また、本発明の光記録媒体の製造方法を適用しうる光記録媒体としては、一度の記録のみ可能な追記型媒体（ＣＤ−ＲやＤＶＤ−ＲなどのＷｒｉｔｅ Ｏｎｃｅ媒体）や、記録消去を繰り返し行なえる書き換え型媒体（ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷなどのＲｅＷｒｉｔａｂｌｅ媒体）が好適であるが、再生専用媒体（ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭなどのＲＯＭ媒体）を排除するものではない。特に、本発明の光記録媒体の製造方法は、追記型媒体に適用した場合に、安定した記録・再生特性を発現することが出来るため好ましい。
次に、図１（ｈ）に示された片面２層ＤＶＤ−Ｒを中心に、片面２層の光記録媒体１００を構成する各層について説明する。
〔第１基板〕
第１基板１０１は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等、光学特性に優れることが望ましい。一方、膜面入射型の構成の場合には、記録・再生用のレーザ光に対して透明性や複屈折に対する制限は無い。
第１基板１０１は、光透過性を有し、複屈折率が小さい等、光学特性に優れることが望ましい。一方、膜面入射型の構成の場合には、記録・再生用のレーザ光に対して透明性や複屈折に対する制限は無い。
第１基板１０１を構成する材料としては、特に限定されないが、例えば、適度な加工性と剛性を有する樹脂、金属、ガラス等を用いることができる。樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。なお、第１基板１０１を構成する材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。
第１基板１０１の厚さは、特に制限されないが、通常２ｍｍ以下、好ましくは１．２ｍｍ以下である。対物レンズと記録層との距離が小さく、また、基板が薄いほどコマ収差が小さい傾向があり、記録密度を上げやすいためである。但し、光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るために、通常１０μｍ以上、好ましくは３０μｍ以上である。また、第１基板１０１によって記録媒体の強度を確保することが望ましい場合は、通常、０．５ｍｍ以上である。
第１基板１０１は、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、第１基板１０１は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えることが望ましい。
第１基板１０１は、吸湿性が小さいことが望ましい。更に、第１基板１０１は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えることが望ましい。
第１基板１０１には、通常、凹凸形状としてトラッキング用の案内溝が形成されている。トラッキング用の案内溝は、通常、同心円状又はスパイラル状の溝として第１基板１０１上に設けられる。案内溝のトラックピッチは、光記録媒体の記録再生に用いるレーザ光の波長によって異なる。具体的には、ＣＤ系の光記録媒体では、トラックピッチは通常１．５μｍ以上、１．６μｍ以下である。ＤＶＤ系の光記録媒体では、トラックピッチは通常０．７μｍ以上、０．８μｍ以下、である。青色レーザ用の光記録媒体では、トラックピッチは通常０．１μｍ以上、０．６μｍ以下である。
一方、溝の深さも光記録媒体の記録再生に用いるレーザ光の波長によって異なる。具体的には、ＣＤ系の光記録媒体では、溝深さは通常１０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である。
ＤＶＤ系の光記録媒体では、溝深さは通常１０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下である。青色レーザ用の光記録媒体では、溝深さは通常１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である。
ＤＶＤ系の光記録媒体では、溝深さは通常１０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下である。青色レーザ用の光記録媒体では、溝深さは通常１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である。
また、第１基板１０１の表面に案内溝を形成する場合、案内溝の形成方法は任意である。例えば、以下のようにして形成することができる。具体的には、第１基板１０１の材料として金属やガラスを用いる場合には、通常、その表面に光硬化性や熱硬化性の薄い樹脂層を設け、そこに案内溝を形成することができる。この点、第１基板１０１の材料として樹脂を用いれば、射出成型によって表面に案内溝を形成することができるので好ましい。
なお、第１基板１０１としては、一般的に、中心にセンターホールを有する環形状のものを用いる。環形状は特に制限されず、円盤形状、楕円形状、多角形等、様々な形状を考えることができる。但し、第１基板１０１は通常、円盤形状とする。この場合、第１基板１０１の直径を８０ｍｍ又は１２０ｍｍ程度とするのが通常である。
〔第１記録層〕
第１記録層１０２は、通常、ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等に用いられる光記録媒体に用いる記録層に比較して、より高感度であることが望ましい。例えば、上記の実施形態に適用する場合、光記録媒体１００においては、通常、第１反射層１０３を半透明反射膜とする。このため、入射したレーザ光１０９の半分は第１反射層１０３を透過する。この結果、第１記録層１０２に入射するレーザ光１０９のパワーは半減することになる。したがって、入射したレーザ光の約半分のパワーで第１記録層１０２に対する記録が行われることになるために、第１記録層１０２は、特に感度が高いことが望ましい。
第１記録層１０２は、通常、ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等に用いられる光記録媒体に用いる記録層に比較して、より高感度であることが望ましい。例えば、上記の実施形態に適用する場合、光記録媒体１００においては、通常、第１反射層１０３を半透明反射膜とする。このため、入射したレーザ光１０９の半分は第１反射層１０３を透過する。この結果、第１記録層１０２に入射するレーザ光１０９のパワーは半減することになる。したがって、入射したレーザ光の約半分のパワーで第１記録層１０２に対する記録が行われることになるために、第１記録層１０２は、特に感度が高いことが望ましい。
また、第１記録層１０２に使用される材料は限定されず、有機物質であっても無機物質であっても良いが、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する化合物が好ましい。通常、ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザでの記録に適する化合物、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザでの記録に適する化合物、あるいは、波長４１０ｎｍや５１５ｎｍ等のいわゆる青色レーザでの記録に適する化合物等がより好ましい。
第１記録層１０２に使用される具体的な化合物は、特に限定されないが、例えば、有機色素材料やアモルファス半導体などが挙げられ、特に有機色素材料を含有することが好ましい。
有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。なお、これらの色素は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
有機色素材料としては、例えば、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。なお、これらの色素は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
一方、アモルファス半導体材料の具体例としては、ＳｂＴｅ系、ＧｅＴｅ系、ＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＳｂＴｅ系、ＡｇＳｂＴｅ系、ＡｇＩｎＳｂＴｅ系、ＧｅＳｂ系、ＧｅＳｂＳｎ系、ＩｎＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＧｅＳｂＳｎＴｅ系等の材料が挙げられる。これらの中でも、結晶化速度を高めるために、Ｓｂを主成分とする組成物を用いることが好ましい。なお、これらのアモルファス半導体材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
さらに、第１記録層１０２の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されない。ただし、十分な変調度を得るために、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。また、光を透過させるためには、通常３μｍ以下、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
また、第１記録層１０２の形成方法としては、特に限定されないが、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。成膜形成法は、量産性、コスト面からはスピンコート法等の湿式成膜法が好ましい。また、均一な記録層が得られるという点から、真空蒸着法が好ましい。
〔第１反射層〕
第１反射層１０３は、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が通常４０％以上あり、かつ、適度な光反射率を有することが望ましい。第１反射層１０３の具体的な構成の例としては、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせた層が挙げられる。さらに、第１反射層１０３は、ある程度の耐食性があることが望ましい。また、第１反射層１０３の上層（上記の実施形態では中間層１０４）からの他の成分の浸み出しにより第１記録層１０２が影響されないような遮断性を持つことが望ましい。
第１反射層１０３は、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が通常４０％以上あり、かつ、適度な光反射率を有することが望ましい。第１反射層１０３の具体的な構成の例としては、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせた層が挙げられる。さらに、第１反射層１０３は、ある程度の耐食性があることが望ましい。また、第１反射層１０３の上層（上記の実施形態では中間層１０４）からの他の成分の浸み出しにより第１記録層１０２が影響されないような遮断性を持つことが望ましい。
また、第１反射層１０３を構成する材料としては、特に限定されないが、再生光の波長における反射率が適度に高いものが好ましい。第１反射層１０３を構成する材料の例を挙げると、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属等の金属若しくは半金属を、単独あるいは合金にして用いることが可能である。また、第１反射層１０３を構成する材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
さらに、第１反射層１０３の厚さは、通常５０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下である。上記範囲とすることにより、光透過率を４０％以上としやすくなる。但し、第１反射層１０３の厚さは、第１記録層１０２が第１反射層１０３上に存在する層により影響されないために、通常３ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上である。
また、第１反射層１０３を形成する方法は任意であるが、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
〔中間層〕
中間層１０４は、透明、且つ、溝やピットの凹凸形状が形成可能であり、また、接着力が高い樹脂から構成される。さらに、硬化接着時の収縮率が小さい樹脂を用いると、媒体の形状安定性が高く好ましい。
また、中間層１０４は、第一実施形態のような単層膜としてもよく、第二実施形態のような多層膜にしてもよい。
中間層１０４は、透明、且つ、溝やピットの凹凸形状が形成可能であり、また、接着力が高い樹脂から構成される。さらに、硬化接着時の収縮率が小さい樹脂を用いると、媒体の形状安定性が高く好ましい。
また、中間層１０４は、第一実施形態のような単層膜としてもよく、第二実施形態のような多層膜にしてもよい。
また、中間層１０４は、第２記録層１０５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。中間層１０４を構成する材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂を挙げることができる。なお、中間層１０４の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
中間層１０４の材料の中でも、放射線硬化性樹脂が好ましく、その中でも、紫外線硬化性樹脂が好ましい。これらの樹脂の採用により、スタンパの凹凸形状の転写が行いやすくなる。
中間層１０４の材料の中でも、放射線硬化性樹脂が好ましく、その中でも、紫外線硬化性樹脂が好ましい。これらの樹脂の採用により、スタンパの凹凸形状の転写が行いやすくなる。
紫外線硬化性樹脂としては、ラジカル系（ラジカル重合型の）紫外線硬化性樹脂とカチオン系（カチオン重合型の）紫外線硬化性樹脂が挙げられ、いずれも使用することができる。
ラジカル系紫外線硬化性樹脂は、例えば、紫外線硬化性化合物（ラジカル系紫外線硬化性化合物）と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。ラジカル系紫外線硬化性化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、一種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。なお、ここで、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
また、光重合開始剤に制限はないが、例えば、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。本発明においては、ラジカル重合型のアクリル酸エステルを主体とする未硬化の紫外線硬化樹脂前駆体を用いて、これを硬化させて中間層を得ることが好ましい。
ラジカル系紫外線硬化性樹脂は、例えば、紫外線硬化性化合物（ラジカル系紫外線硬化性化合物）と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。ラジカル系紫外線硬化性化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、一種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。なお、ここで、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
また、光重合開始剤に制限はないが、例えば、分子開裂型または水素引き抜き型のものが好ましい。本発明においては、ラジカル重合型のアクリル酸エステルを主体とする未硬化の紫外線硬化樹脂前駆体を用いて、これを硬化させて中間層を得ることが好ましい。
一方、カチオン系紫外線硬化性樹脂としては、例えば、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、遊離した塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量は、１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
また、カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩等が挙げられる。
また、カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩等が挙げられる。
また、中間層１０４の材料として放射線硬化性樹脂を使用する場合、２０〜４０℃において液状であるものを用いることが好ましい。樹脂原料層１０４ａの形成時に、上記放射線硬化性樹脂を用いることにより溶媒を用いることなく塗布できるので、生産性が向上するためである。また、粘度は２０〜４０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。
さらに、中間層１０４には、凹凸形状が螺旋状又は同心円状に設けられる。そしてこの凹凸形状が、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層１０５に情報が記録・再生される。本発明の光記録媒体の製造方法においては、通常記録トラックとして使用される上記凹凸形状を良好に形成することができるという利点を有しているため、欠陥の少ない中間層１０４を有する光記録媒体１００を得ることが可能である。
なお、上記の溝幅は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは１００ｎｍ以上、より好ましくは１２０ｎｍ以上である。また、その上限は、通常８００ｎｍ以下、好ましくは６００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下である。溝深さは、通常１０ｎｍ以上、好ましくは１２ｎｍ以上、より好ましくは１４ｎｍ以上である。また、その上限は、通常３００ｎｍ以下、好ましくは２７０ｎｍ以下、より好ましくは２５０ｎｍ以下である。また、記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは、通常０．１ｎｍ以上、好ましくは０．２ｎｍ以上、より好ましくは０．３ｎｍ以上である。また、その上限は、通常２．０ｎｍ以下、好ましくは１．５ｎｍ以下、より好ましくは１．０ｎｍ以下である。
さらに、中間層１０４の膜厚は、正確に制御されることが好ましく、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が望ましい。但し、通常、１００μｍ以下、好ましくは７０μｍ以下である。
さらに、中間層１０４の膜厚は、正確に制御されることが好ましく、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が望ましい。但し、通常、１００μｍ以下、好ましくは７０μｍ以下である。
さらに、中間層１０４の形成方法に制限はなく任意であるが、通常は、以下のようにして形成される。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いた中間層１０４は、適当な溶剤に熱可塑性樹脂等を溶解して塗布液を調製する。この塗布液を塗布し、乾燥（加熱）することによって、中間層１０４を形成することができる。
一方、放射線硬化性樹脂を用いた中間層１０４は、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製する。放射線硬化性樹脂を用いた中間層１０４は、この塗布液を塗布し、適当な放射線を照射して硬化させることによって形成することができる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いた中間層１０４は、適当な溶剤に熱可塑性樹脂等を溶解して塗布液を調製する。この塗布液を塗布し、乾燥（加熱）することによって、中間層１０４を形成することができる。
一方、放射線硬化性樹脂を用いた中間層１０４は、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製する。放射線硬化性樹脂を用いた中間層１０４は、この塗布液を塗布し、適当な放射線を照射して硬化させることによって形成することができる。
なお、塗布方法に制限はなく、例えばスピンコート法やキャスト法等の方法が用いられる。この中でも、スピンコート法が好ましい。特に、高粘度の樹脂を用いた中間層１０４は、スクリーン印刷等によっても塗布形成できる。
〔第２記録層〕
第２記録層１０５は、前述した第１記録層１０２の場合と同様に、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体に用いる記録層より高感度であることが望ましい。また、第２記録層１０５は、良好な記録・再生を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。更に、第２記録層１０５と第２反射層１０６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。
第２記録層１０５は、前述した第１記録層１０２の場合と同様に、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体に用いる記録層より高感度であることが望ましい。また、第２記録層１０５は、良好な記録・再生を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。更に、第２記録層１０５と第２反射層１０６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。
第２記録層１０５を構成する材料、成膜方法等については、第１記録層１０２と同様とすればよい。但し、第２記録層１０５の製膜方法は、湿式製膜法が好ましい。
なお、第１記録層１０２と第２記録層１０５とに用いる材料は、同じでも良いし、異なっていてもよい。
第２記録層１０５に使用される具体的な化合物は限定されず、第１記録層１０２と同様の化合物が好適に使用される。
一般に、アモルファス半導体材料で構成される記録層に較べ、有機色素材料で構成される記録層の方が案内溝が深い。このため、特に第２記録層１０５を有機色素材料を含有する層とする場合、中間層１０４に形成された深い溝形状を維持したまま第２記録層１０５を形成することは困難になる。しかしながら、本発明においては、第２記録層として有機色素材料を含有する場合であっても、中間層１０４との親和性が良好であるため、中間層１０４上に形成された凹凸形状を記録層の凹凸として良好に反映することが出来る。従って、本発明によれば、特に第２記録層１０５として有機色素材料を含有する場合において、その効果は顕著である。
なお、第１記録層１０２と第２記録層１０５とに用いる材料は、同じでも良いし、異なっていてもよい。
第２記録層１０５に使用される具体的な化合物は限定されず、第１記録層１０２と同様の化合物が好適に使用される。
一般に、アモルファス半導体材料で構成される記録層に較べ、有機色素材料で構成される記録層の方が案内溝が深い。このため、特に第２記録層１０５を有機色素材料を含有する層とする場合、中間層１０４に形成された深い溝形状を維持したまま第２記録層１０５を形成することは困難になる。しかしながら、本発明においては、第２記録層として有機色素材料を含有する場合であっても、中間層１０４との親和性が良好であるため、中間層１０４上に形成された凹凸形状を記録層の凹凸として良好に反映することが出来る。従って、本発明によれば、特に第２記録層１０５として有機色素材料を含有する場合において、その効果は顕著である。
また、第２記録層１０５の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、通常１０ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るために、第２記録層１０５の膜厚は、通常３μｍ以下、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
〔第２反射層〕
第２反射層１０６は、高反射率、かつ高耐久性であることが望ましい。
第２反射層１０６は、高反射率、かつ高耐久性であることが望ましい。
第２反射層１０６を構成する材料としては、再生光の波長において反射率の十分高いものが好ましい。第２反射層１０６を構成する材料としては、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ等の金属を単独または合金にして用いることが可能である。これらの中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く、第２反射層１０６の材料として適している。また、これらの金属を主成分とする以外に他の成分を含んでいてもよい。他の成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属などの金属若しくは半金属を挙げることができる。なお、第２反射層１０６を形成する材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
また、高反射率を確保するために、第２反射層１０６の厚さは、通常２０ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上、更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためには、通常４００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下である。
さらに、第２反射層１０６を形成する方法に制限はないが、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
また、第２反射層１０６の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
また、第２反射層１０６の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
〔接着層〕
接着層１０７は、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと、光記録媒体１００の形状安定性が高くなり、好ましい。また、接着層１０７は、第２反射層１０６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。さらに、ダメージを抑えるために第２反射層１０６，接着層１０７の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
接着層１０７は、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと、光記録媒体１００の形状安定性が高くなり、好ましい。また、接着層１０７は、第２反射層１０６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。さらに、ダメージを抑えるために第２反射層１０６，接着層１０７の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
接着層１０７の材料は、中間層１０４の材料と同様のものを用いることができる。
また、接着層１０７の膜厚は、通常、２μｍ以上、好ましくは５μｍ以上である。但し、光記録媒体１００をできるだけ薄くするために、また、硬化に時間を要して生産性が低下する等のことを抑制するために、接着層１０７の膜厚は、通常、１００μｍ以下が好ましい。
なお、接着層１０７としては、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを第２反射層１０６と第２基板１０８との間に挟んで押圧することにより、接着層１０７を形成できる。
また、接着層１０７の膜厚は、通常、２μｍ以上、好ましくは５μｍ以上である。但し、光記録媒体１００をできるだけ薄くするために、また、硬化に時間を要して生産性が低下する等のことを抑制するために、接着層１０７の膜厚は、通常、１００μｍ以下が好ましい。
なお、接着層１０７としては、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを第２反射層１０６と第２基板１０８との間に挟んで押圧することにより、接着層１０７を形成できる。
〔第２基板〕
第２基板１０８は、機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層１０７との接着性が高いことが望ましい。
このような第２基板１０８の材料としては、第１基板１０１に用いうる材料と同様のものを用いることができる。また、上記材料としては、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分としたＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板等を用いることもできる。また、第２基板１０８の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
第２基板１０８は、機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層１０７との接着性が高いことが望ましい。
このような第２基板１０８の材料としては、第１基板１０１に用いうる材料と同様のものを用いることができる。また、上記材料としては、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分としたＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板等を用いることもできる。また、第２基板１０８の材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
なお、第２基板１０８の材料は、成形性等の高生産性、コスト、形状安定性等の点から、ポリカーボネートが好ましい。また、第２基板１０８の材料は、耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、第２基板１０８の材料は、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
さらに、光記録媒体１００に十分な剛性を持たせるために、第２基板１０８はある程度厚いことが好ましく、第２基板１０８の厚さは、０．３ｍｍ以上が好ましい。但し、通常３ｍｍ以下、好ましくは１．５ｍｍ以下である。
さらに、光記録媒体１００に十分な剛性を持たせるために、第２基板１０８はある程度厚いことが好ましく、第２基板１０８の厚さは、０．３ｍｍ以上が好ましい。但し、通常３ｍｍ以下、好ましくは１．５ｍｍ以下である。
〔その他の層〕
光記録媒体１００は、上記の積層構造において、必要に応じて１層又は２層以上の任意の他の層を挟んでもよい。或いは、光記録媒体１００の最外面に１層又は２層以上の任意の他の層を設けてもよい。更に、光記録媒体１００には、必要に応じて、記録光又は再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。さらに、光記録媒体１００を２枚、第１基板１０１を外側にして貼合わせてもよい。光記録媒体１００を２枚貼り合わせることにより、記録層を４層有する大容量の媒体を得ることができる。
光記録媒体１００は、上記の積層構造において、必要に応じて１層又は２層以上の任意の他の層を挟んでもよい。或いは、光記録媒体１００の最外面に１層又は２層以上の任意の他の層を設けてもよい。更に、光記録媒体１００には、必要に応じて、記録光又は再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。さらに、光記録媒体１００を２枚、第１基板１０１を外側にして貼合わせてもよい。光記録媒体１００を２枚貼り合わせることにより、記録層を４層有する大容量の媒体を得ることができる。
また、本発明の光記録媒体の製造方法を、相変化型の書き換え型コンパクトディスク（ＣＤ−ＲＷ、ＣＤ−Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）又は、相変化型の書き換え型ＤＶＤに適用することもできる。相変化型の光記録媒体に適用する場合における記録層等の層構成については、公知のものを適宜使用することができる。相変化型のＣＤ−ＲＷ又は書き換え型ＤＶＤは、相変化型記録材料から構成された記録層における非晶質状態と結晶状態との屈折率差によって生じる反射率差および位相差変化を利用して記録情報信号の検出が行われる。相変化型記録材料の具体例としては、例えば、ＳｂＴｅ系、ＧｅＴｅ系、ＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＳｂＴｅ系、ＡｇＳｂＴｅ系、ＡｇＩｎＳｂＴｅ系、ＧｅＳｂ系、ＧｅＳｂＳｎ系、ＩｎＧｅＳｂＴｅ系、ＩｎＧｅＳｂＳｎＴｅ系等の材料が挙げられる。これらの中でも、結晶化速度を高めるために、記録層にＳｂを主成分とする組成を用いることが好ましい。
また、前述の通り、本発明の光記録媒体の製造方法をＢｌｕ−ｒａｙ ディスクのような膜面入射型の光記録媒体に適用することも可能である。その場合、記録レーザ光１０９が図１（ｈ）の上側から照射されることになるため、記録層と反射層の積層順が逆になり、第１反射層ではなく第２反射層に適度な光反射率が要求されることになる。また、第２基板の代わりに、カバー層が形成される。
カバー層は、記録レーザ光に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、カバー層シートを接着剤で貼り合せるか、液状の材料を塗布後に光、放射線、又は熱等により硬化して形成する。カバー層は、記録レーザ光の波長λにおいて透過率７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。なお、透過率の上限は、１００％である。カバー層は、更にその入射光側表面に耐擦傷性、耐指紋付着性といった機能を付与するために、表面に厚さ０．１μｍ以上、５０μｍ以下程度の層を別途設けることもできる。カバー層の厚みは、記録レーザ光の波長λや対物レンズのＮＡ（開口数）にもよるが、通常０．０１ｍｍ以上、好ましくは０．０５ｍｍ以上、また、通常０．３ｍｍ以下、好ましくは０．１５ｍｍ以下の範囲であることが望ましい。接着層やハードコート層等の厚みを含む全体の厚みが、光学的に許容される厚み範囲となるようにするのが好ましい。例えば、いわゆるＢｌｕ−ｒａｙ ディスクでは、１００μｍ±３μｍ程度以下に制御するのが好ましい。
［IV．本発明の光記録媒体の製造装置］
このような本実施形態の光記録媒体の製造方法は、例えば、図４に示すような光記録媒体の製造装置１により行なうことができる。即ち、この製造装置１は、第１記録層形成工程の操作を行なう第１記録層形成装置２と、第１反射層形成工程の操作を行なう第１反射層形成装置３と、樹脂原料層形成工程の操作を行なう樹脂原料層形成装置４と、樹脂原料層硬化工程の操作を行なう樹脂原料層硬化装置５と、スタンパ剥離工程の操作を行なうスタンパ剥離装置６と、樹脂原料層の表面改質処理工程の操作を行う表面改質処理装置７と、第２記録層形成工程の操作を行なう第２記録層形成装置８と、第２反射層形成工程の操作を行なう第２反射層形成装置９と、第２基板形成工程の操作を行なう第２基板形成装置１０と、光記録媒体１００及びその製造途中の中間品をこれらの各装置２〜１０の間で前記の順に搬送する搬送装置１１とを備えて構成される。
このような本実施形態の光記録媒体の製造方法は、例えば、図４に示すような光記録媒体の製造装置１により行なうことができる。即ち、この製造装置１は、第１記録層形成工程の操作を行なう第１記録層形成装置２と、第１反射層形成工程の操作を行なう第１反射層形成装置３と、樹脂原料層形成工程の操作を行なう樹脂原料層形成装置４と、樹脂原料層硬化工程の操作を行なう樹脂原料層硬化装置５と、スタンパ剥離工程の操作を行なうスタンパ剥離装置６と、樹脂原料層の表面改質処理工程の操作を行う表面改質処理装置７と、第２記録層形成工程の操作を行なう第２記録層形成装置８と、第２反射層形成工程の操作を行なう第２反射層形成装置９と、第２基板形成工程の操作を行なう第２基板形成装置１０と、光記録媒体１００及びその製造途中の中間品をこれらの各装置２〜１０の間で前記の順に搬送する搬送装置１１とを備えて構成される。
よって、この製造装置１は、基板、記録層、及び、凹凸形状を有する中間層を少なくとも備えた光記録媒体の製造装置であって、第１基板１０１上に、直接又は他の層を介して、第１記録層１０２を形成する手段としての第１記録層形成装置２と、第１記録層１０２上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層１０４ａを形成する手段としての樹脂原料層形成装置４と、樹脂原料層１０４ａ上に、前記凹凸形状に対応した転写用凹凸形状を有するスタンパ１１０を載置した状態で、樹脂原料層１０４ａを硬化させて、第１基板１０１、第１記録層１０２、樹脂原料層１０４ａ及びスタンパ１１０を備えた接着体１０７を得る手段としての樹脂原料層硬化装置５と、接着体１０７からスタンパ１１０を剥離し、樹脂原料層１０４ａに転写用凹凸形状を転写する手段としてのスタンパ剥離装置６とを備え、かつ、転写用凹凸形状が転写された前記樹脂原料層の硬化を促進させる表面改質処理を施す手段としての表面改質処理装置７を有することにより構成される。したがって、この製造装置１により上述した光記録媒体の製造方法を実施することで、良好な凹凸形状を有する欠陥の少ない中間層を備えた光記録媒体を安価に製造することができるのに加え、上述した作用・効果を得ることができる。
ただし、上述したように、ここで例示した製造装置１は上述した光記録媒体の製造方法を実施するための製造装置の一例であり、本発明の光記録媒体の製造装置はこれに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で任意に変更して実施することができる。例えば、装置２〜１１は、製造しようとする光記録媒体の構成に応じて任意に組み合わせて構成できる。また、製造装置１は、ここで挙げていない別の装置と組み合わせて構成することもできる。さらに、装置２〜１１は本例のように一つの製造装置１中に組み込まれていてもよく、それぞれ別々に構成された装置２〜１１が全体として製造装置１を構成するようにしてもよい。
さらには、１つの装置が、製造装置１中の異なる装置の機能を兼ね備えていてもよい。このような例としては、第１記録層形成装置２と第２記録層形成装置８、或いは、第１反射層形成装置３と第２反射層形成装置９、樹脂原料層硬化装置５と表面改質処理装置７などが挙げられる。
ここで、上記装置１は基板面入射型のデュアルレイヤタイプの片面２層ＤＶＤ−Ｒを製造する場合の例であるが、膜面入射型のＢｌｕ−ｒａｙ ディスクの場合は、第１記録層形成装置と第１反射層形成装置との載置順番、及び第２記録層形成装置と第２反射層形成装置との載置順番をそれぞれ逆にし、第２基板形成装置の代わりにカバー層形成装置を配置することにより対応可能である。
以下、実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］〔ＨＤ ＤＶＤ−Ｒ−ＤＬの例〕
本実施例はＨＤ ＤＶＤ−Ｒ−ＤＬ（２層媒体）の例であるが、本発明の効果を確認するため、第１記録層および第１反射層は省略して光記録媒体を作製し、評価した。第１記録層および第１反射層を省略した場合であっても、本発明の効果がＨＤ ＤＶＤ−Ｒ−ＤＬに適用できることは、以下の実施例により十分検証することができる。
本実施例はＨＤ ＤＶＤ−Ｒ−ＤＬ（２層媒体）の例であるが、本発明の効果を確認するため、第１記録層および第１反射層は省略して光記録媒体を作製し、評価した。第１記録層および第１反射層を省略した場合であっても、本発明の効果がＨＤ ＤＶＤ−Ｒ−ＤＬに適用できることは、以下の実施例により十分検証することができる。
（１）光記録媒体の作製
（１−１）スタンパの用意
ポリカーボネート（ＰＣ）を材料として、射出成形法により、内径１５ｍｍの中心孔を有する、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの円盤状のスタンパ（以下、ＰＣ１スタンパという場合がある。）を形成した。射出成形は、トラックピッチ０．４μｍ、幅０．２３μｍ、深さ６５ｎｍの案内溝を有するニッケル製原盤を使用した。なお、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により、ＰＣ１スタンパには、ニッケル製原盤の案内溝（凹凸）が正確に転写されたことが確認された。
（１−１）スタンパの用意
ポリカーボネート（ＰＣ）を材料として、射出成形法により、内径１５ｍｍの中心孔を有する、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの円盤状のスタンパ（以下、ＰＣ１スタンパという場合がある。）を形成した。射出成形は、トラックピッチ０．４μｍ、幅０．２３μｍ、深さ６５ｎｍの案内溝を有するニッケル製原盤を使用した。なお、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により、ＰＣ１スタンパには、ニッケル製原盤の案内溝（凹凸）が正確に転写されたことが確認された。
（１−２）第１基板の形成
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．４μｍ、幅０．２３μｍ、深さ６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５８ｍｍの基板（第１基板）を得た。
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．４μｍ、幅０．２３μｍ、深さ６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５８ｍｍの基板（第１基板）を得た。
（１−３）中間層の形成
次に、第１基板上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１８μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＰＣ１スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約７μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、第１基板上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１８μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＰＣ１スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約７μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、この第１樹脂層と第２樹脂層とが対向するように、第１基板とＰＣ１スタンパとを貼り合わせた。続いて、ＰＣ１スタンパ側から紫外線を大気雰囲気下、常温で照射（光源：ハリソン東芝社製トスキュア７５１）して、第１樹脂層及び第２樹脂層を硬化させて、接着体を形成した。この際の紫外線の照射量は、９０ｍＪ／ｃｍ2とした。
接着体を形成後、接着体の外周部にナイフエッジを差し込んだ後、力を加えてＰＣ１スタンパを第２樹脂層（最外樹脂層）から剥離させた。ＰＣ１スタンパと第２樹脂層（最外樹脂層）との界面で、全面にわたりムラ無く良好な状態で剥離を行うことができた。なお、ＰＣ１スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
ＰＣ１スタンパを剥離した後、直ちに第２樹脂層の上から紫外線を照射することによって表面改質処理を行い、中間層を形成した。この際の紫外線の照射量は、３５０ｍＪ／ｃｍ2とした。
ＰＣ１スタンパを剥離した後、直ちに第２樹脂層の上から紫外線を照射することによって表面改質処理を行い、中間層を形成した。この際の紫外線の照射量は、３５０ｍＪ／ｃｍ2とした。
（１−４）第２記録層等の形成
第一基板上に中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内で１２時間放置した後、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．０重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長４７０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．１５となるように塗布条件を調整した。
第一基板上に中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内で１２時間放置した後、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．０重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長４７０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．１５となるように塗布条件を調整した。
続いて、第２記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、スパッタリング法により厚さ１００ｎｍの第２反射層を成膜した。
さらに、第２反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、光記録媒体を製造した。
さらに、第２反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、光記録媒体を製造した。
（２）光記録媒体のＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定
上記方法で製造した光記録媒体から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。なお、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は下記式で定義される。
上記方法で製造した光記録媒体から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。なお、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は下記式で定義される。
式中、（Ｉ1−Ｉ2）ppは、（Ｉ1−Ｉ2）信号の頂点間振幅である。（Ｉ1＋Ｉ2）maxは
、（Ｉ1＋Ｉ2）信号の最大値である。（Ｉ1＋Ｉ2）minは（Ｉ1＋Ｉ2）信号の最小値であ
る。また、（Ｉ1）は、光記録媒体からの再生信号を４分割フォトディテクタにより、４
分割されたディテクタ（ＰＤ１、ＰＤ２、ＰＤ３、ＰＤ４）として受光したとき、案内溝の仮想中心に対して左側に位置するＰＤ１及びＰＤ２の出力の和である（Ｉ1＝ＰＤ１＋
ＰＤ２）。（Ｉ2）は、案内溝の仮想中心に対して右側に位置するＰＤ３及びＰＤ４の出
力の和である（Ｉ2＝ＰＤ３＋ＰＤ４）。
、（Ｉ1＋Ｉ2）信号の最大値である。（Ｉ1＋Ｉ2）minは（Ｉ1＋Ｉ2）信号の最小値であ
る。また、（Ｉ1）は、光記録媒体からの再生信号を４分割フォトディテクタにより、４
分割されたディテクタ（ＰＤ１、ＰＤ２、ＰＤ３、ＰＤ４）として受光したとき、案内溝の仮想中心に対して左側に位置するＰＤ１及びＰＤ２の出力の和である（Ｉ1＝ＰＤ１＋
ＰＤ２）。（Ｉ2）は、案内溝の仮想中心に対して右側に位置するＰＤ３及びＰＤ４の出
力の和である（Ｉ2＝ＰＤ３＋ＰＤ４）。
なお、フォーカスサーボは第２記録層にかけ、トラッキングサーボはオープンループの状態にして、光記録媒体を６００ｒｐｍで回転させた。通常、光ディスクには数十ミクロンの偏心が存在するので、再生ビームは案内溝とランドとを、１回転で数十回横断することになる。（Ｉ1−Ｉ2）信号及び（Ｉ1＋Ｉ2）信号は正弦波状の出力を示すことになる。
Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長４０５ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．４ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置４０ｍｍで測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表１に示す。
［実施例２，３及び比較例１，２］
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表１に示す通りとした以外は実施例１と同様にして光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＰＣ１スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べ
とつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例１と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表１に示す。
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表１に示す通りとした以外は実施例１と同様にして光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＰＣ１スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べ
とつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例１と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表１に示す。
［実施例４〜６及び比較例３，４］
ＰＣ１スタンパの代わりに非晶質ポリオレフィンを用いて実施例１と同様にしてスタンパを製造した（ＡＰＯ１スタンパという場合がある。）。このＡＰＯ１スタンパを用い、接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表１に示す通りとした以外は実施例１と同様にして光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＡＰＯ１スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例１と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表１に示す。
ＰＣ１スタンパの代わりに非晶質ポリオレフィンを用いて実施例１と同様にしてスタンパを製造した（ＡＰＯ１スタンパという場合がある。）。このＡＰＯ１スタンパを用い、接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表１に示す通りとした以外は実施例１と同様にして光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＡＰＯ１スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例１と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表１に示す。
表１から、表面改質処理を行った実施例１〜３及び実施例４〜６は、表面改質処理を行わなかった比較例１，２及び比較例３，４よりも、それぞれ、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の値が大きい。このことから、比較例１〜４では、第２記録層の案内溝形状がスタンパ（ＰＣ１またはＡＰＯ１）の溝形状から変化している可能性が考えられる。これに対し、実施例１〜６ではこの変化を抑制し、良好な凹凸形状を有する第２記録層が形成できていることがわかる。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが推察される。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが推察される。
［実施例７］〔ＤＶＤＲ−ＤＬ（１２０ｍｍ媒体）の例〕
（３）光記録媒体の作製
（３−１）スタンパの用意
ポリカーボネート（ＰＣ）を材料として、射出成形法により、内径１５ｍｍの中心孔を有する、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの円盤状のスタンパ（以下、ＰＣ２スタンパという場合がある。）を形成した。射出成形は、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３２μｍ、深さ１７５ｎｍの案内溝を有するニッケル製原盤を使用した。なお、原子間力顕微鏡により、ＰＣ２スタンパには、ニッケル製原盤の案内溝（凹凸）が正確に転写されたことが確認された。
（３）光記録媒体の作製
（３−１）スタンパの用意
ポリカーボネート（ＰＣ）を材料として、射出成形法により、内径１５ｍｍの中心孔を有する、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの円盤状のスタンパ（以下、ＰＣ２スタンパという場合がある。）を形成した。射出成形は、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３２μｍ、深さ１７５ｎｍの案内溝を有するニッケル製原盤を使用した。なお、原子間力顕微鏡により、ＰＣ２スタンパには、ニッケル製原盤の案内溝（凹凸）が正確に転写されたことが確認された。
（３−２）第１記録層等の形成
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（第１基板）を得た。
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（第１基板）を得た。
次に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度０．９重量％）を調製し、これを基板上に滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第１記録層を形成した。なお、第１記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５３となるように塗布条件を調整した。
さらに、第１記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、厚さ１７ｎｍの半透明の第１反射層をスパッタリング法により成膜した。
さらに、第１記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、厚さ１７ｎｍの半透明の第１反射層をスパッタリング法により成膜した。
（３−３）中間層の形成
次に、第１反射層上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約３５μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＰＣ２スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１３μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、第１反射層上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約３５μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＰＣ２スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１３μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、この第１樹脂層と第２樹脂層とが対向するように、第１基板とＰＣ２スタンパとを貼り合わせた。続いて、ＰＣ２スタンパ側から紫外線を常温で照射して、第１樹脂層及び第２樹脂層を硬化させて、接着体を形成した。この際の紫外線の照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ2とした。
実施例１と同様にしてＰＣ２スタンパを剥離した後、直ちに第２樹脂層の上から紫外線を照射することによって表面改質処理を行い、中間層を形成した。この際の紫外線の照射量は、３５０ｍＪ／ｃｍ2とした。なお、ＰＣ２スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最
外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
（３−４）第２記録層等の形成
基板の上に第１記録層、第１反射層及び中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内で１２時間放置した後、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．１重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２の記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５９となるように塗布条件を調整した。
基板の上に第１記録層、第１反射層及び中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内で１２時間放置した後、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．１重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２の記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５９となるように塗布条件を調整した。
続いて、第２記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、スパッタリング法により厚さ１２０ｎｍの第２反射層を成膜した。
さらに、第２反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。次いで、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。
さらに、第２反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。次いで、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。
（４）光記録媒体のＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定
上記方法で製造した光記録媒体の第２記録層から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。なお、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．７ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置２３ｍｍ、４０ｍｍ、および５８ｍｍの位置でそれぞれ測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表２に示す。
上記方法で製造した光記録媒体の第２記録層から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。なお、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．７ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置２３ｍｍ、４０ｍｍ、および５８ｍｍの位置でそれぞれ測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表２に示す。
（５）記録層の溝形状の測定
上記方法で製造した光記録媒体について、第２記録層形成前後における案内溝の溝深さ及び溝幅を、半径位置２５ｍｍ、４０ｍｍ及び５５ｍｍでそれぞれ測定した。測定は、ｄｒ．ｓｃｈｗａｂ社製、ＵＭＤＳ ａｒｇｕｓ ｐｌｕｓを用いた。第２記録層形成前については、表面改質処理後の中間層表面を測定した。第２記録層形成後については、さらに第２反射層を形成した後、第２反射層表面を測定した。その結果を表３に示す。
上記方法で製造した光記録媒体について、第２記録層形成前後における案内溝の溝深さ及び溝幅を、半径位置２５ｍｍ、４０ｍｍ及び５５ｍｍでそれぞれ測定した。測定は、ｄｒ．ｓｃｈｗａｂ社製、ＵＭＤＳ ａｒｇｕｓ ｐｌｕｓを用いた。第２記録層形成前については、表面改質処理後の中間層表面を測定した。第２記録層形成後については、さらに第２反射層を形成した後、第２反射層表面を測定した。その結果を表３に示す。
［実施例８，９及び比較例５，６］
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表２に示す通りとした以外は実施例７と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＰＣ２スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例７と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表２に示す。また、比較例５について、実施例７と同様の方法にて第２記録層形成前後の案内溝形状の測定を行った結果を表３に示す。
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表２に示す通りとした以外は実施例７と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＰＣ２スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例７と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表２に示す。また、比較例５について、実施例７と同様の方法にて第２記録層形成前後の案内溝形状の測定を行った結果を表３に示す。
［実施例１０，１１及び比較例７，８］
ＰＣ２スタンパの代わりに非晶質ポリオレフィンを用いて実施例７と同様にしてスタンパを製造した（ＡＰＯ２スタンパという場合がある。）。ＡＰＯ２スタンパを用い、接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表２に通りとした以外は実施例７と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＡＰＯ２スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例７と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表２に示す。
ＰＣ２スタンパの代わりに非晶質ポリオレフィンを用いて実施例７と同様にしてスタンパを製造した（ＡＰＯ２スタンパという場合がある。）。ＡＰＯ２スタンパを用い、接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表２に通りとした以外は実施例７と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。なお、何れの製造においても、ＡＰＯ２スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
得られた光記録媒体を、実施例７と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表２に示す。
表２から、表面改質処理を行った実施例７〜９及び実施例１０，１１は、いずれの測定位置においても、表面改質処理を行わなかった比較例５，６及び比較例７，８よりも、それぞれ、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の値が大きい。このことから、比較例５〜８では、第２記録層の案内溝形状がスタンパ（ＰＣ２またはＡＰＯ２）の溝形状から変化している可能性が考えられる。これに対し、実施例７〜１１ではこの変化を抑制し、良好な凹凸形状を有する第２記録層が形成できていることがわかる。
また、表３から、表面改質処理を行った実施例７は、表面改質処理を行わなかった比較例５よりも、第２記録層形成後において溝が深いことが確認された。このことは、表２に示したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の結果を裏付けるものであり、実施例７では良好な凹凸形状を有する第２記録層が形成できていることがわかる。表３中、第２記録層形成前においては、実施例７と比較例５の溝形状に差異が見られないことから、表面改質処理を行うことによって中間層と第２記録層との親和性、換言すれば濡れ性が変化し、この結果、スタンパの案内溝を反映した凹凸形状が第２記録層として形成されたものと考えられる。表面改質処理を行わない場合は、中間層に形成された案内溝が、第２記録層の形成過程で埋まってしまうことが考えられる。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが確認された。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが確認された。
［実施例１２］〔ＤＶＤＲ−ＤＬ（８０ｍｍ媒体）の例〕
（６）光記録媒体の作製
（６−１）スタンパの用意
非晶質ポリオレフィンを材料として、射出成形法により、内径１５ｍｍの中心孔を有する、外径８０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの円盤状のスタンパ（以下、ＡＰＯ３スタンパという場合がある。）を形成した。射出成形は、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３２μｍ、深さ１７５ｎｍの案内溝を有するニッケル製原盤を使用した。なお、原子間力顕微鏡により、ＡＰＯ３スタンパには、ニッケル製原盤の案内溝（凹凸）が正確に転写されたことが確認された。
（６）光記録媒体の作製
（６−１）スタンパの用意
非晶質ポリオレフィンを材料として、射出成形法により、内径１５ｍｍの中心孔を有する、外径８０ｍｍ、厚さ０．６０ｍｍの円盤状のスタンパ（以下、ＡＰＯ３スタンパという場合がある。）を形成した。射出成形は、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３２μｍ、深さ１７５ｎｍの案内溝を有するニッケル製原盤を使用した。なお、原子間力顕微鏡により、ＡＰＯ３スタンパには、ニッケル製原盤の案内溝（凹凸）が正確に転写されたことが確認された。
（６−２）第１記録層等の形成
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径８０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（第１基板）を得た。
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径８０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（第１基板）を得た。
次に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度０．９重量％）を調製し、これを基板上に滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第１記録層を形成した。なお、第１記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５３となるように塗布条件を調整した。
さらに、第１記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用い
て、厚さ１７ｎｍの半透明の第１の反射層をスパッタリング法により成膜した。
さらに、第１記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用い
て、厚さ１７ｎｍの半透明の第１の反射層をスパッタリング法により成膜した。
（６−３）中間層の形成
次に、第１反射層上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約３５μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＡＰＯ３スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１３μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、第１反射層上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約３５μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＡＰＯ３スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１３μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、この第１樹脂層と第２樹脂層とが対向するように、第１基板とＡＰＯ３スタンパとを貼り合わせた。続いて、ＡＰＯ３スタンパ側から紫外線を常温で照射して、第１樹脂層及び第２樹脂層を硬化させて、接着体を形成した。この際の紫外線の照射量は、１００ｍＪ／ｃｍ2とした。
実施例１と同様にしてＡＰＯ３スタンパを剥離した後、直ちに第２樹脂層の上から紫外線を照射することによって表面改質処理を行い、中間層を形成した。この際の紫外線の照射量は、４００ｍＪ／ｃｍ2とした。なお、ＡＰＯ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層
（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。
（６−４）第２記録層等の形成
基板の上に第１記録層、第１の反射層及び中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内に設置した後、直ちに、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．１重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２の記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５９となるように塗布条件を調整した。
基板の上に第１記録層、第１の反射層及び中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内に設置した後、直ちに、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．１重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２の記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５９となるように塗布条件を調整した。
続いて、第２記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、スパッタリング法により厚さ１２０ｎｍの第２の反射層を成膜した。
さらに、第２の反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径８０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。
さらに、第２の反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径８０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。
（７）光記録媒体のＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定
上記方法で製造した光記録媒体の第２記録層から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。
Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．７ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置２３ｍｍ、３３ｍｍ、および３８ｍｍの位置でそれぞれ測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表４に示す。
上記方法で製造した光記録媒体の第２記録層から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。
Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．７ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置２３ｍｍ、３３ｍｍ、および３８ｍｍの位置でそれぞれ測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表４に示す。
（８）光記録媒体の剥離キズの確認
上記方法で製造した光記録媒体について、周方向に起こり易い溝抜けや半径方向に起こり易い剥離キズの有無を、光学顕微鏡で観察した。
上記方法で製造した光記録媒体について、周方向に起こり易い溝抜けや半径方向に起こり易い剥離キズの有無を、光学顕微鏡で観察した。
［実施例１３〜１５及び比較例９〜１２］
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表４に示す通りとした以外は実施例１２と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した
。なお、実施例１３、１４、比較例９〜１１の製造においては、ＡＰＯ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。実施例１５および比較例１２の製造においては、ＡＰＯ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、ほとんどべとつきは感じられなかった。
得られた光記録媒体を、実施例１２と同様の方法にて、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定及び剥離キズの確認を行った。その結果を表４に示す。
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の紫外線照射量を表４に示す通りとした以外は実施例１２と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した
。なお、実施例１３、１４、比較例９〜１１の製造においては、ＡＰＯ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、べとつきがあり、半硬化状態であることが確認された。実施例１５および比較例１２の製造においては、ＡＰＯ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、ほとんどべとつきは感じられなかった。
得られた光記録媒体を、実施例１２と同様の方法にて、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定及び剥離キズの確認を行った。その結果を表４に示す。
表４から、表面改質処理を行った実施例１２〜１５は、いずれの測定位置においても、表面改質処理を行わなかった比較例９〜１２よりもＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の値が大きい。このことから、比較例９〜１２では、第２記録層の案内溝形状がスタンパ（ＡＰＯ３）の溝形状から変化している可能性が考えられる。これに対し、実施例１２〜１５ではこの変化を抑制し、良好な凹凸形状を有する第２記録層が形成できていることがわかる。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが推察される。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが推察される。
また、接着体形成時に多量の紫外線を照射した実施例１５及び比較例１２では溝抜け／剥離キズが生じているのに対し、実施例１２〜１４及び比較例１０，１１では溝抜け／剥離キズが生じていないことから、良好な案内溝（即ち、凹凸形状）を形成するためには、スタンパの剥離前においては中間層（樹脂原料層）を半硬化状態にしておくことが好ましいことが確認された。
［実施例１６］〔ＤＶＤＲ−ＤＬ（１２０ｍｍ媒体）の例〕
（９）光記録媒体の作製
（９−１）スタンパの用意
スタンパとしては、実施例７で用いたＰＣ２スタンパと同様のスタンパを用いた。このスタンパを、以下適宜、ＰＣ３スタンパという。
（９）光記録媒体の作製
（９−１）スタンパの用意
スタンパとしては、実施例７で用いたＰＣ２スタンパと同様のスタンパを用いた。このスタンパを、以下適宜、ＰＣ３スタンパという。
（９−２）第１記録層等の形成
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（第１基板）を得た。
ニッケルスタンパを用いてポリカーボネートを射出成形し、トラックピッチ０．７４μｍ、幅０．３３μｍ、深さ１６０ｎｍの溝が形成された、直径１２０ｍｍ、厚さ０．５７ｍｍの基板（第１基板）を得た。
次に、含金属アゾ色素のテトラフルオロロペンタノール溶液（濃度０．９重量％）を調製し、これを基板上に滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾
燥し、第１記録層を形成した。なお、第１記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５３となるように塗布条件を調整した。
燥し、第１記録層を形成した。なお、第１記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５３となるように塗布条件を調整した。
さらに、第１記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、厚さ１７ｎｍの半透明の第１反射層をスパッタリング法により成膜した。
（９−３）中間層の形成
次に、第１反射層上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約３５μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＰＣ３スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１３μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、第１反射層上に、第１樹脂層を形成するための紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製ＳＤ６０３６）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約３５μｍの膜（第１樹脂層）を形成した。一方、ＰＣ３スタンパの案内溝が形成された面に、第２樹脂層（最外樹脂層）を形成するための所定の紫外線硬化性樹脂（日本化薬社製ＭＰＺ３８８）を円形に滴下し、スピナー法により厚さ約１３μｍの膜（第２樹脂層）を形成した。
次に、この第１樹脂層と第２樹脂層とが対向するように、第１基板とＰＣ３スタンパとを貼り合わせた。続いて、ＰＣ３スタンパ側から紫外線を常温で照射して、第１樹脂層及び第２樹脂層を硬化させて、接着体を形成した。この際の紫外線の照射量は、２４０ｍＪ／ｃｍ2とした。
実施例１と同様にしてＰＣ３スタンパを剥離した後、直ちに１００℃で３０分の加熱処理による表面改質処理を行い、中間層を形成した。なお、ＰＣ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったところ、ほとんどべとつきは感じられなかった。
（９−４）第２記録層等の形成
基板の上に第１記録層、第１反射層及び中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内で１２時間放置した後、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．１重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５９となるように塗布条件を調整した。
基板の上に第１記録層、第１反射層及び中間層を設け、表面改質処理を施したものを、２５℃、相対湿度４２％のクリーンブース内で１２時間放置した後、該中間層の上に、含金属アゾ色素のテトラフルオロプロパノール溶液（濃度１．１重量％）を滴下してスピナー法により塗布した。塗布後、７０℃で３０分間乾燥し、第２記録層を形成した。なお、第２記録層は、波長５９０ｎｍのレーザでＯＤ値が０．５９となるように塗布条件を調整した。
続いて、第２記録層上に、Ａｇ−Ｂｉ（Ｂｉ：１．０原子％）からなるＡｇ合金を用いて、スパッタリング法により厚さ１２０ｎｍの第２反射層を成膜した。
さらに、第２反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。
さらに、第２反射層上に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして接着層を設けた。そして、この接着層上に直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を載置して第２基板とし、紫外線を照射し硬化接着させた。
このようにして、２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。
（１０）光記録媒体のＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定
上記方法で製造した光記録媒体の第２記録層から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。
Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．７ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置２３ｍｍ、４０ｍｍ、および５８ｍｍの位置でそれぞれ測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表５に示す。
上記方法で製造した光記録媒体の第２記録層から得られるＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号を測定した。数値が大きいほど、記録特性が良好である。
Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号は、パルステック工業社製ＯＤＵ１０００を使用し、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、再生パワー０．７ｍＷとした。光記録媒体上の半径位置２３ｍｍ、４０ｍｍ、および５８ｍｍの位置でそれぞれ測定したＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定結果を表５に示す。
［実施例１７及び比較例１３］
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の加熱処理条件を表５に示す通りとした以外は実施例１６と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。なお、ＰＣ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったと
ころ、何れも、ほとんどべとつきは感じられなかった。
得られた光記録媒体を、実施例１６と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表５に示す。
接着体形成時の紫外線照射量および表面改質処理時の加熱処理条件を表５に示す通りとした以外は実施例１６と同様にして２つの記録層を有する多層型の光記録媒体を製造した。なお、ＰＣ３スタンパを剥離した後に第２樹脂層（最外樹脂層）の表面を指で触ったと
ころ、何れも、ほとんどべとつきは感じられなかった。
得られた光記録媒体を、実施例１６と同様の方法にてＰｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の測定を行った。その結果を表５に示す。
表５から、表面改質処理を行った実施例１６および１７は、いずれの測定位置においても、表面改質処理を行わなかった比較例１３よりも、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ信号の値が大きい。このことから、比較例１３では、第２記録層の案内溝形状がスタンパ（ＰＣ３）の溝形状から変化している可能性が考えられる。これに対し、実施例１６および１７ではこの変化を抑制し、良好な凹凸形状を有する第２記録層が形成できていることがわかる。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが推察される。
このことから、本発明の製造法によれば、光による情報の記録・再生が安定した光記録媒体を得られることが推察される。
本発明は、光記録媒体にかかる任意の分野で広く用いることができ、特に、凹凸形状を有する中間層を有する光記録媒体の製造に用いる場合に好適である。具体例としては、ＣＤ、ＤＶＤ、青色レーザ対応光記録媒体等などに用いて特に好適である。
１ 製造装置
２ 第１記録層形成装置
３ 第１反射層形成装置
４ 樹脂原料層形成装置
５ 樹脂原料層硬化装置
６ スタンパ剥離装置
７ 表面改質処理装置
８ 第２記録層形成装置
９ 第２反射層形成装置
１０ 第２基板形成装置
１１ 運搬装置
１００ 光記録媒体
１０１ 第１基板
１０２ 第１記録層
１０３ 第１反射層
１０４ 中間層
１０４ａ 樹脂原料層（紫外線硬化性樹脂原料層）
１０４ａ1 第１樹脂層
１０４ａ2 第２樹脂層（最外樹脂層）
１０５ 第２記録層
１０６ 第２反射層
１０７ 接着層
１０８ 第２基板
１０９ レーザ光
１１０ スタンパ
１１１ データ基板
１１２，１１２' 接着体
１１３ 光記録媒体用積層体
２ 第１記録層形成装置
３ 第１反射層形成装置
４ 樹脂原料層形成装置
５ 樹脂原料層硬化装置
６ スタンパ剥離装置
７ 表面改質処理装置
８ 第２記録層形成装置
９ 第２反射層形成装置
１０ 第２基板形成装置
１１ 運搬装置
１００ 光記録媒体
１０１ 第１基板
１０２ 第１記録層
１０３ 第１反射層
１０４ 中間層
１０４ａ 樹脂原料層（紫外線硬化性樹脂原料層）
１０４ａ1 第１樹脂層
１０４ａ2 第２樹脂層（最外樹脂層）
１０５ 第２記録層
１０６ 第２反射層
１０７ 接着層
１０８ 第２基板
１０９ レーザ光
１１０ スタンパ
１１１ データ基板
１１２，１１２' 接着体
１１３ 光記録媒体用積層体
Claims (9)
- 凹凸形状を有する中間層を備えた光記録媒体の製造方法であって、
基板上に、直接又は他の層を介して、照射される光により情報が記録される第１記録層を形成する工程と、
前記第１記録層上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層と前記凹凸形状に対応した転写用凹凸形状を有するスタンパとをこの順に載置した状態で、前記樹脂原料層を硬化させて、前記基板、前記第１記録層、前記樹脂原料層及び前記スタンパを備えた接着体を得る工程と、
前記樹脂原料層から前記スタンパを剥離して前記樹脂原料層に前記転写用凹凸形状を転写した後に、前記転写用凹凸形状が転写された前記樹脂原料層の硬化を促進させる表面改質処理を施して前記中間層を形成する工程と、
前記中間層上に、照射される光により情報が記録される第２記録層を形成する工程と、を有し、
前記第２記録層が、有機色素材料を含有する
ことを特徴とする、光記録媒体の製造方法。 - 前記表面改質処理が、放射線照射処理及び／又は加熱処理である
ことを特徴とする、請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。 - 前記表面改質処理が、照射量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射による
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の光記録媒体の製造方法。 - 前記表面改質処理が、加熱温度４０〜１２０℃の加熱処理による
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の光記録媒体の製造方法。 - 前記接着体を得る工程における前記樹脂原料層の硬化が、半硬化状態までの硬化であることを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載の光記録媒体の製造方法。
- 前記スタンパが、ポリカーボネート系樹脂製である
ことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の光記録媒体の製造方法。 - 前記樹脂原料層が複数の樹脂層から構成されたことを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の光記録媒体の製造方法。
- 前記樹脂原料層が複数の樹脂層から構成され、且つ、
前記複数の樹脂層のうち最外樹脂層の硬化が、半硬化状態までの硬化である
ことを特徴とする、請求項５記載の光記録媒体の製造方法。 - 基板、第１記録層、第２記録層、及び、凹凸形状を有する中間層を少なくとも備えた光記録媒体の製造装置であって、
前記基板上に、直接又は他の層を介して、前記第１記録層を形成する手段と、
前記第１記録層上に、直接又は他の層を介して、樹脂原料層を形成する手段と、
前記樹脂原料層上に、前記凹凸形状に対応した転写用凹凸形状を有するスタンパを載置した状態で、前記樹脂原料層を硬化させて、前記基板、前記第１記録層、前記樹脂原料層及び前記スタンパを備えた接着体を得る手段と、
前記接着体から前記スタンパを剥離し、前記樹脂原料層に前記転写用凹凸形状を転写する手段とを備え、かつ、
前記転写用凹凸形状が転写された前記樹脂原料層の硬化を促進させる表面改質処理を施す手段と、
前記樹脂原料層上に、有機色素原料を含有する前記第２記録層を形成する手段と、を有する
ことを特徴とする、光記録媒体の製造装置。
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