JP5073329B2 - 圧電薄膜デバイス - Google Patents
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Description
図1〜図3は、本発明の第1実施形態に係る圧電薄膜共振子1の模式図である。図1は、圧電薄膜共振子1の斜視図、図2は、図1のII-IIの切断線における圧電薄膜共振子1の断面図、図3は、図1のIII-IIIの切断線における圧電薄膜共振子1の断面図となっている。図1〜図3には、説明の便宜上、左右方向をX軸方向、前後方向をY軸方向、上下方向をZ軸方向とする共通のXYZ直交座標系が定義されている。
支持基板11は、圧電薄膜共振子1の製造途上で圧電体基板を除去加工するときに、キャビティ形成膜13及び下面電極14が下面に形成された圧電体基板を接着層12を介して支持する支持体としての役割を有している。加えて、支持基板11は、圧電薄膜共振子1の製造後に、キャビティ形成膜13及び下面電極14が下面に形成され、上面電極16が上面に形成された圧電体薄膜15を接着層12を介して支持する支持体としての役割も有している。したがって、支持基板11には、圧電体基板を除去加工するときに加わる力に耐え得ることと、圧電薄膜共振子1の製造後にも強度が低下しないこととが要請される。
接着層12は、圧電薄膜共振子1の製造途上で圧電体基板を除去加工するときに、キャビティ形成膜13及び下面電極14が下面に形成された圧電体基板を支持基板11に接着固定する役割を有している。加えて、接着層12は、圧電薄膜共振子1の製造後に、キャビティ形成膜13及び下面電極14が下面に形成され、上面電極16が上面に形成された圧電体薄膜15を支持基板11に接着固定する役割も有している。したがって、接着層12には、圧電体基板を除去加工するときに加わる力に耐え得ることと、圧電薄膜共振子1の製造後にも接着力が低下しないこととが要請される。
キャビティ形成膜13は、絶縁材料を成膜することにより得られた絶縁体膜である。キャビティ形成膜13は、対向領域181の外側に形成され、対向領域181において圧電体薄膜15を支持基板11から離隔させるキャビティ135を形成している。このようなスペーサとしての役割を有するキャビティ形成膜13により、対向領域181において圧電体薄膜15が支持基板11と干渉しなくなり、対向領域181における振動の励振が阻害されることがなくなる。
圧電体薄膜15は、圧電体基板を除去加工することにより得られる。より具体的には、圧電体薄膜15は、単独で自重に耐え得る厚み(例えば、50μm以上)を有する圧電体基板を、単独で自重に耐え得ない膜厚(例えば、10μm以下)まで除去加工で薄肉化することにより得られる。
下面電極14及び上面電極16は、それぞれ、圧電体薄膜15の平坦に研磨された下面及び上面に導電材料を成膜することにより形成された導電体薄膜である。ここで、圧電体薄膜15の下面及び上面が「平坦」であるとは、研磨後に不可避的に残存する表面粗さを超えるような凹凸がない状態をいう。
図11〜図13は、本発明の第2実施形態に係る圧電薄膜共振子2の模式図である。図11は、圧電薄膜共振子2の斜視図、図12は、図11のXII-XIIの切断線における圧電薄膜共振子2の断面図、図13は、図11のXIII-XIIIの切断線における圧電薄膜共振子2の断面図となっている。図11〜図13には、説明の便宜上、左右方向をX軸方向、前後方向をY軸方向、上下方向をZ軸方向とする共通のXYZ直交座標系が定義されている。
図14〜図16は、本発明の第3実施形態に係る圧電薄膜共振子3の模式図である。図14は、圧電薄膜共振子3の斜視図、図15は、図14のXV-XVの切断線における圧電薄膜共振子3の断面図、図16は、図14のXVI-XVIの切断線における圧電薄膜共振子3の断面図となっている。図14〜図16には、説明の便宜上、左右方向をX軸方向、前後方向をY軸方向、上下方向をZ軸方向とする共通のXYZ直交座標系が定義されている。
続いて、加重部分の他の例について説明する。ただし、以下で説明する加重部分は、あくまで例示であって、本発明の範囲を限定することを目的とするものではない。
上述の第1実施形態〜第3実施形態で説明した技術手段は、様々に組み合わせて用いることができる。例えば、第3実施形態における加重部分3615及び軽減部分3616を第2実施形態における加重部分2615及び軽減部分2616と同様に2辺化することも可能である。
11,21,31 支持基板
12,22,32 接着層
13,23,33 キャビティ形成膜
14,24,24 下面電極
15,25,35 圧電体薄膜
16,26,36 上面電極
1615,2615,3615,4615,5615,6616,6616,7615 加重部分
1616,2616,3616,4616,5616,6616,7616 軽減部分
Claims (2)
- 単数又は複数の圧電薄膜共振子を含む圧電薄膜デバイスであって、
圧電体薄膜と、
前記圧電体薄膜の両主面にそれぞれ形成され、対向領域において前記圧電体薄膜を挟んで対向する電極と、
前記圧電体薄膜を支持する支持体と、
を備え、
前記電極は、前記対向領域の中央部よりも単位面積あたりの質量が大きい加重部分を前記対向領域の周縁部に有し、
前記圧電体薄膜及び前記電極を積層した積層体は、前記対向領域の中央部よりも単位面積あたりの質量が小さい軽減部分を前記加重部分に沿って前記加重部分より中央部寄りに有し、
前記対向領域の平面形状が矩形であり、
前記加重部分及び前記軽減部分が、前記対向領域の長辺に沿って配置されており、前記対向領域の短辺に沿っては配置されていない圧電薄膜デバイス。 - 前記対向領域が、直交する対称軸について軸対称となっており、前記加重部分及び前記軽減部分も当該対称軸について軸対象となっている請求項1に記載の圧電薄膜デバイス。
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