JP5070764B2 - マイクロニードルのパッチの製造方法 - Google Patents
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Description
マイクロニードルは、血液の採取など、様々な物質の輸送に使用することができる。予め薬剤を塗布したマイクロニードル若しくはマイクロニードルのパッチを用いて薬剤を皮膚に浸潤させる方法は、完全な非侵襲的な薬剤塗布方法ではないが、極微細なマイクロニードルを用いて真皮領域など皮膚の浅い領域のみに刺すことを特徴としているので、患者に対する刺激等は比較的少ない。また、単なる皮膚表面への薬剤塗布方法に比して高効率で薬剤を浸潤させることを可能にする。
特許文献1や非特許文献1は、LIGAと呼ばれる工程で、長さ600μmほどのマイクロニードルを製造する技術を開示している。
LIGAでは、基板にポリメチルメタクリル樹脂(PMMA)等のX線感光レジストを塗布する。そのレジストに対して、金などの材料で形成した島状遮光部を施し、平行性の高いX線を照射する。現像すると、PMMAより成る立体構造が得られる。この立体構造にニッケルを電鋳すると、原版が製造される。
これによると、マイクロニードルの先端を鋭く成形でき、表面も平滑にできる利点がある。
Devin VMcalltister et al, PNAS, November 25, 2003,vol.100,No.24,13755-13760 Shyh-Chyi Kuo eta1, Tamkang Journal of Science and Engineering,Vol.7,No.2,pp95-98(2004)
また、微細な形状に加工する技術として、フォトレジストに光照射して特定の形状を有する基板を作成する技術が知られている。
これは、表面的な形状はフォトマスクにより自在に変化させられる反面、深さ方向に自在に成形する方法がなかったことに起因する。そのため、円錐や四角錐などの錐状を形成することができず、マイクロニードルの製造に応用することはできなかった。
さらに、かかる多様な形状を有するマイクロニードルが複数設けられているパッチ及びその製造方法を提供する。
すなわち、基板上にフォトレジストからなる薄膜を形成する感光性薄膜形成工程と、前記薄膜の上に、複数の島状遮光部を有するフォトマスクを配置するマスク配置工程と、前記フォトマスクを介して前記薄膜に光源からの照射光を照射して、前記フォトマスクにより前記フォトレジストの感光部位を選定制御する露光工程と、前記薄膜から前記フォトマスクを除去し現像を行なうフォトレジスト処理工程と、を含む原版の製造方法において、前記露光工程に、前記薄膜に対して相異なる複数の方位から光を照射する調節を行う方位調節照射工程を含むことを特徴とする。
原版の製造には、まず基板(13)上にフォトレジスト(11)からなる薄膜を形成し(感光性薄膜形成工程)、その薄膜の上に島状遮光部(15)を有するフォトマスク(31)を配置する(マスク配置工程)。
そして、フォトマスク(31)を介して薄膜に光源からの光、例えば紫外線を照射して、フォトマスク(31)により薄膜の感光部位を選定制御する(露光工程)。さらにフォトレジスト(11)からフォトマスク(31)を除去し現像を行なう(フォトレジスト処理工程)。
フォトレジスト(11)としては、例えば、マイクロケム社製NANOSU-8(登録商標)、東京応化製TMMRS2000/TMMFTS2000(登録商標)を原料としたものが利用できる。
その他に、基板(13)にスプレージェットを用いてフォトレジスト(11)を噴霧して塗布、成膜することもできる。
一方、ポジ型フォトレジストは、光があたった部分が光化学反応によってアルカリ溶液に溶ける化学構造に変化するものである。
ポジ型は強アルカリ水溶液、ネガ型は溶剤などで現像される。
本発明は、その非硬化レジスト(14)を、例えば図1のように島状遮光部(15)と同形の長方形を底面とする錐体状に成形して、マイクロニードルのパッチを製造するための原版を作製することができる。
概括的には、感光性部材(12)及びその上層のフォトマスク(31)の表面に対して、相対的に斜めから光を照射する方位調節照射手段が必要である。
すなわち、図1に示す如く、感光性部材(12)に対して従来のように垂直ではなく斜め方向から光(L1、L2、L3、L4)を照射し、非硬化レジスト(14)を四角錐(ABCD−E)に成形することを提案する。
すなわち、非硬化レジスト(14)を錐体形状にするには、照射光Lの進行方向とステージ平面との相対方位が相異なる複数回の(図1の場合4回)光照射を行えばよい。
図2は、方位調節照射の方法を示す模式図である。
図2(a)は照射光Lが鉛直下向きに照射している状態を照射基準方向として固定した状態で、仮想的な揺動軸(20)を中心に図中右方向にθ傾斜させてステージ(21)上の感光性部材(12)に照射する。
本発明の実施においては、照射基準方向に関して略対称な傾斜をなす2つの角度で照射することにより対称形の錐体を形成できるが、所望の形状により傾斜角度は任意に設定することができる。
そして、ステージ(21)を、該取付部位(22)を中心に図示の状態(左側にα傾斜)から右側にα傾斜させることにより図2(a)と同様の効果を得ることができる。また、紙面に垂直方向にも傾斜可能に構成してもよい。
このような取付部位(22)は、例えば三脚の雲台のような機構を用いて実現される。
このように、ステージ(21)を傾斜設置しておくと、ステージを自転させるだけで、多数方向から光照射できる利点がある。
また、ステージ(21)を自転させると共に、光源からの照射方位を変えることで、ステージの自転角度又は光源における照射角の変動範囲を小さくすることができる。
次に、図4(b)のように、ステージ揺動調節手段によってステージを角度+θだけ傾斜させて、感光材料を傾斜させた状態で照射(照射光L1)すると、島状遮光部の下方にまで線束が達する。
ステージ(21)を自転させながら、ステージ(21)上の感光性部材(12)に対して連続的に光照射を行なってもよい。すると、非硬化レジスト(14)部分を、円錐など、底面に曲線を有する錐体状に容易に成形できる。
島状遮光部(15)の形状は、非硬化レジスト(14)部分となる錐体の底面の形状に一致する。その錐体の側面形状は、方位調節照射の方法に依存する。
例えば、図5(a)に示した径88μmの四角形の島状遮光部(15)を用い、揺動角θを±10°に設定すると、2回の回転のみで高さ250μmの四角錐形状が得られる。図5(b)に示した三角形の島状遮光部(15)を用いた場合もθ=+−10°の2回の回転で三角錐を作ることができる。
また、ステージの自転角度を、その多角形の内角のいずれかの角度に設定することができる。図6(a)は正八角形の例であり、揺動軸は4つである。図6(b)は正八角形の例であり、揺動軸は4つである。図6(c)は正六角形の例であり、揺動軸は3つである。図6(d)は略円形の例であり、揺動軸は8つである。
上述の多角形の島状遮光部(15)によると、図7(a)(b)のような角錐状に成形できる。角数の多い正多角形若しくは円形の島状遮光部(15)によると、図7(c)のような円錐状に近くなる。図7(d)のように、径が一定でない錐体形状は、次の方法で得られる。
屈折率の異なる複数種類のフォトレジスト(11)を基板(13)に積層する。
図示の例では、下層に、高屈折率1.63のレジスト(SU-8)を300μm、上層に、低屈折率1.59のレジスト(ネガ型ドライフィルムポリカーボネート系のドライフィルム(日本ゼオン製ZED-400))を用いた。これによると、屈折率の差異により、層境で不連続に径が変化する錐体形状の非硬化レジスト(14)を成形できる。
それを基にして製造するマイクロニードルは、基部が大径の錐台になるので、強度の補強に寄与する。
非硬化レジスト(14)部分を錐体状に成形したレジスト版から、島状遮光部(15)を含む上部薄片を取り除き、現像を行うと、図9(a)に示すような基板(13)上に硬化レジスト(50)が形成される。
その表面に、無電解メッキやスパッタ法などで金属を薄くコートしてメッキ層(51)を形成させる。
図9(d)で得られた反転版(60)は、図10のように、錐体状の成型部(70)が突出した凸版である。なお、図10は反転版(60)の斜視説明図である。更に、電鋳等を施してメッキ(80)を形成し、図9(f)で示すように、反転版の反転パターンである複版(80)が得られる。
なお、反転版(60)や複版(80)を形成するメッキ材や電鋳材には、Ni、 Cr、Cu、Znなどの金属が利用できる。樹脂材やセラミック材も利用可能である。
まず、マイクロニードルのパッチの形状に対応した原版を作製する。(原版作製工程S1)
次に、その反転パターンを有する反転版を介して、複版を作製する。(複版作製工程S2)
これにより、成形版を得る。その成形版に、マイクロニードルのパッチの材料となるシートを載置し、加熱加圧すると、成形版のパターンが転写される。(転写・成形工程S3)
さらに放熱して、成形版から剥離し、パッチ形態に断裁する。(パッチ化工程S4)
最後に検査工程(S5)で検査を行い、マイクロニードルのパッチが得られる。
図12は、ポジ型フォトレジストを用いて、原版を形成する工程を示す説明図である。図12に示す如くポジ型のフォトレジスト(90)を用いる場合は、フォトレジスト(90)の上にフォトマスク(31)が基板として積層されて感光性部材が形成される。
露光工程では、まず図12(a)のように+θの角度までフォトレジスト(90)を傾斜させて鉛直下向きの照射光を照射する。島状遮光部(15)によって遮光されないフォトレジスト(90)の部位(120)が非硬化部分となる。
このようにポジ型のフォトレジスト(90)を用いることにより、反転版を介することなく、原版から直接複版が作製される。現像処理後の図12(c)の形状(122)ができ、これにメッキ工程を経て図12(d)に示す原版を作製することができる。
1つの島状遮光部(15)から1本のマイクロニードルが製造され、島状遮光部(15)の配置に応じた多数の略同一形状のマイクロニードル(70)が、パッチ基板(100)に平行に配置される。
比較品としては、単結晶シリコン基板を用いドライエッチング法で、三角錐、四角錐及び円錐状の非硬化レジスト部分を成形し、そのシリコン原版から、金属製複版を製作し、ポリ乳酸製マイクロニードルを製造した。そして、レジスト版複版とシリコン版複版から作製したポリ乳酸マイクロニードルを比較した。
マイクロニードルは剣山状なので、接触式の表面粗度測定装置は使用できないので、非接触3次元表面形状測定装置を用いて、表面粗度(Ra、Rz)を測定した。
なお、表面粗度Raは、平均から突出した絶対値の平均を示し、Rzは、平均からの突出したずれの上位5位までの平均を示す指標である。
従来技術による比較品のマイクロニードルあるマイクロニードルの表面粗度は5μm以上であるのに対し、本発明によるマイクロニードルの表面粗度1μm以下であり、表面平滑性が優れていた。
また、複版の歩留まり及びマイクロニードル成形時の離型性も共に良好であった。
13 基板
15 島状遮光部
31 フォトマスク
41 感光部分
42 非感光部分
Claims (23)
- 基板上にフォトレジストからなる薄膜を形成する感光性薄膜形成工程と、前記薄膜の上に、複数の島状遮光部を有するフォトマスクを配置するマスク配置工程と、前記フォトマスクを介して前記薄膜に光源からの照射光を照射して、前記フォトマスクにより前記フォトレジストの感光部位を選定制御する露光工程と、前記露光工程にては、前記薄膜に対して相異なる複数の方位から光を照射する調節を行う方位調節照射工程を含み、前記薄膜から前記フォトマスクを除去し現像を行なうフォトレジスト処理工程と、を含む原版の製造方法によって作製され、かつマイクロニードルの形状に対応する複数の凹凸が設けられた原版を用いて、
前記原版の表面に、メッキを形成し、前記原版の反転パターンである反転版を作り、前記反転版にメッキを形成し、前記反転版の反転パターンである複版を作製する複版作製工程と、
前記複版を用いて、前記複版を成形した成形版に、マイクロニードルのパッチの材料となるシートを載置及び加熱加圧し、成形版のパターンを転写及び放熱して成形版から剥離して、複数の前記マイクロニードルを有するマイクロニードルのパッチを成形するマイクロニードルのパッチ成形工程と、
を含むことを特徴とするマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記フォトレジストに、ネガ型のフォトレジストを用い、
前記複版作製工程は、前記原版から、その反転パターンを有する反転版を作製した後に、前記反転版から、その反転パターンを有する複版を作製する工程であることを特徴とする請求項1に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記フォトレジストに、ポジ型のフォトレジストを用い、
前記複版作製工程は、前記原版から、その反転パターンを有する複版を作製する工程であることを特徴とする請求項1に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記方位調節照射工程は、
前記照射光の進行方向を、所定の照射基準方向に固定する一方、
前記薄膜を支持する前記基板が配置されるステージを、前記照射基準方向に対して相異なる2以上の角度で傾斜させて、それぞれで光照射することを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記方位調節照射工程は、
前記照射基準方向に垂直な方向を揺動軸として、前記ステージを前記揺動軸を中心に傾斜させた状態で光照射するステージ揺動照射工程を含むことを特徴とする請求項4に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記ステージ揺動照射工程は、
前記照射基準方向に関して略対称な傾斜をなす2つの角度で、それぞれ光照射する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記ステージ揺動照射工程は、
相異なる複数の前記揺動軸で、前記ステージを相異なる複数の方位に傾斜させる工程を含むことを特徴とする請求項5に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記ステージ揺動照射工程は、
前記揺動軸を中心とする略円弧状に揺動方向を規制してステージを揺動させる工程を含むことを特徴とする請求項5に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記方位調節照射工程は、
前記ステージを、前記ステージの取付部位に対して所定角度傾斜させて光照射するステージ傾斜照射工程を含むことを特徴とする請求項4に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記方位調節照射工程は、
前記光源から、前記薄膜を支持する前記基板が配置されるステージに向けて、2以上の方位に光の進行方向を変えて、それぞれで照射する光源調節照射工程を含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記方位調節照射工程は、
前記光源調節照射工程を含むと共に、
前記ステージを、前記照射光の進行方向に対して相異なる2以上の角度で傾斜させて、それぞれで光照射することを特徴とする請求項10に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記方位調節照射工程は、
前記照射基準方向を自転軸として、前記ステージを自転させて光照射するステージ自転照射工程を含むことを特徴とする請求項4または10いずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記ステージ自転照射工程は、
前記ステージを自転させながら、前記ステージ上の前記薄膜に対して連続的に光照射する工程を含むことを特徴とする請求項12に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記島状遮光部の形状は多角形であり、
前記ステージ揺動照射工程における前記揺動方向を、前記多角形のいずれかの角と中心とを結ぶ方向、或いは、いずれかの辺に垂直な方向にすることを特徴とする請求項5に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記島状遮光部の形状は多角形であり、
前記ステージ傾斜照射工程における前記傾斜方向を、前記多角形のいずれかの角と中心とを結ぶ方向、或いは、いずれかの辺に垂直な方向にすることを特徴とする請求項9に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記島状遮光部の形状は多角形であり、
前記ステージ自転照射工程における前記ステージの回転角度を、前記多角形の内角のいずれかにすることを特徴とする請求項12に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。 - 前記薄膜は、屈折率の異なる複数種類のフォトレジスト層の積層体であることを特徴とする請求項1ないし16に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
- 前記露光工程は、照射光の波長を変えて、複数回の光照射を行なうことを特徴とする請求項1ないし17のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
- 前記フォトマスクは、同一形状の複数の前記島状遮光部を有するものとし、複数の前記マイクロニードルを互いに平行にパッチ基板に配置させる請求項1ないし18に記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
- 前記マイクロニードルの表面粗度(Ra或いはRz)は、5μm以下とすることを特徴とする請求項1ないし19のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
- 前記薄膜は、屈折率の異なる複数種類のフォトレジスト層の積層体として、前記マイクロニードルの形状は、径が不連続に変わる錐台と錐との組み合わせとすることを特徴とする請求項17ないし20のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
- 前記露光工程は、照射光の波長を変えて、複数回の光照射を行ない、前記マイクロニードルの形状は、径が不連続に変わる錐台と錐との組み合わせとすることを特徴とする請求項18ないし20のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
- 前記フォトレジストの全部若しくは一部は生体適合性材料として、前記マイクロニードルの全部若しくは一部は、生体適合性材料からなるようにすることを特徴とする請求項1ないし22のいずれかに記載のマイクロニードルのパッチの製造方法。
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