JP2005246595A - マイクロニードルアレイ及びその製造方法 - Google Patents

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    • B81C2201/0198Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate for making a masking layer

Abstract

【課題】無痛で血液を容易に採取することができるマイクロニードルアレイを提供することを目的とする。又、このようなマイクロニードルアレイを精度良く簡易に製造することができる製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基部101の表面に同形状のニードル10が多数配設されたマイクロニードルアレイ100において、ニードル10が、その先端から基部101の表面に向かって延び、微小な隙間を介して互いに向き合う壁面12からなる切込み11a、11bを1つあるいは複数備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、マイクロニードルアレイ及びその製造方法に関するものである。
マイクロニードルアレイは、微小なニードルが基部の表面に多数配設され構成されている。ニードルが穴を備えていないマイクロニードルアレイは鍼等として、ニードルが穴を備えるマイクロニードルアレイは薬液注入及び生体液採取の用途等に用いられる。特に、血液採取に用いられるマイクロニードルアレイ900は、図12(a)から図12(d)に示すように、その中心軸に微小径の長穴911を備えたニードル910が基部901の表面に多数配設されている。ニードル910の先端は皮膚表面の固い角質層を貫通する必要があるため鋭い。医療分野における各種血液検査のためには、一般に0.3〜1.0マイクロリットル程度の血液量が必要である。血液検査のために、マイクロニードルアレイ900を皮膚に押し当て、基部901の底面に設けた空室を電動ポンプ等にて減圧し負圧にすることにより血液を採取している。ニードル910の高さは、約300μm程度である。
このようなマイクロニードルアレイ900は、例えば、特許文献1に開示されるように、PCT(Plane−pattern to Cross−section Transfer)法を用いることにより製造されている。PCT法を用いたマイクロニードルアレイの製造方法について、図13(a)及び図13(b)に基づいて説明する。まず、ポリメチルメタクリレート(以下、PMMAという。)等からなるレジスト材930の表面から厚さ方向へ縦及び横方向に所定の間隔Wで微小径の長穴931を貫通して開ける。次に、X線マスク920をレジスト材930の表面と所定の間隔を隔てて水平に配置する。X線マスク920は、所望のニードルの断面形状に対応した突起形状が配列されるパターンに形成されたX線吸収層921を備えている。X線吸収層921の突起形状は、細長く先端が平らであり、レジスト材930に設けられた長穴931の間隔と等しい間隔を隔てて、その長手方向とは垂直方向に配列されている。X線マスク920を、そのX線吸収層921の各突起形状の中心線L1が、レジスト材930に設けた長穴931の中心の各連結線とが対向するように配置する。次に、X線マスク920をレジスト材930の表面と水平を保ち、かつX線吸収層921の突起形状の中心線L1と、レジスト材930に設けた長穴931の中心の連結線とを対向させつつ、所定速度にてレジスト材930を移動させながら、図示しないX線照射部からX線マスク920を介してレジスト材930表面に対して垂直にX線を照射して露光を行なう。
次に、同じX線マスク920を用い、レジスト材930を90度回転させた後に、X線マスク920をレジスト材930の表面と所定の間隔を隔てて水平に配置する。X線マスク920を、そのX線吸収層921の突起形状の中心線L1と、レジスト材930に設けた長穴931の中心の連結線とが対向するように配置する。次に、X線マスク920をレジスト材930の表面と水平を保ち、かつX線吸収層921の突起形状の中心線L1と、レジスト材930に設けた長穴931の中心の連結線とを対向させつつ、所定速度にレジスト材930を移動させながら、X線照射部からX線マスク920を介してレジスト材930表面に対して垂直にX線を照射して露光を行なう。X線マスク920を通過してレジスト材930の表面に照射されるX線は、露光工程において、その直上にX線吸収層921にてX線を遮断された割合により定まる。
2回の露光終了後にレジスト材930を所定の現像液で現像する現像工程を行なう。レジスト材930の表面に照射されるX線の照射量が多いほど、レジスト材930内部に吸収されるX線エネルギは大きく、レジスト材930表面へのX線積算照射量に、その内部への現像工程による加工深さは略比例する。これにより、各露光工程において、X線吸収層921の形状のレジスト材930の移動方向における形状に、レジスト材930の移動方向の側面視からの形状が厚さ方向にのみ拡縮した形状に加工可能になる。従って、2回の露光工程後に現像工程を行うと、図12(a)から図12(d)に示すように、中心軸に長穴911を備え先端が平面状の正四角錐からなる形状が得られる。
このようにして得られたPMMAからなる構造体をそのままマイクロニードルアレイとして用いてもよい。しかしながら、量産化のため、電気めっき法により、この構造体の上にニッケル等の金属を電鋳した後、PMMAを除去することにより、凹凸を反転させた形状を有する金属構造体が得られる。この金属構造体を金型として転写成形加工を行なうことによって、プラスチック又はセラミック製のマイクロニードルアレイを大量生産することが可能である。
特願2000−347103号公報
しかしながら、皮膚表面から約150μmを超える深さの皮膚には神経終末を含む神経層が存在し、上記従来のマイクロニードルアレイ900により血液を採取する際、ニードル910の高さが300μm程度であるため、ニードル910の先端が神経層に達し、血液を採取される者が痛みを感じるという問題があった。
又、上記従来のマイクロニードルアレイの製造方法は、予めレジスト材930の表面から縦方向及び横方向に一定間隔で長穴931を開ける必要があった。又、各々の露光工程において、長穴931の中心の連結線とX線吸収層921の突起形状の中心線L1とを対向させ一致する方向に正確に配置し、レジスト材930をその方向に沿って正確に相対移動させる必要があった。これらの理由により、マイクロニードルアレイ900を製造することが困難であるという問題があった。又、精度の良いマイクロニードルアレイ900を得ることができないという問題があった。
本発明は、かかる問題を解決すべくなされたものであり、無痛で血液を容易に採取することができるマイクロニードルアレイを提供することを目的とする。又、このようなマイクロニードルアレイを精度良く簡易に製造することができる製造方法を提供することを目的とする。
当該目的を達成するために、請求項1に記載のマイクロニードルアレイは、基部の表面に同形状のニードルが多数配設されたマイクロニードルアレイにおいて、前記ニードルが、その先端から前記基部の表面に向かって延び、微小な隙間を介して互いに向き合う壁面からなる切込みを1つあるいは複数備えることを特徴としている。
請求項2に記載のマイクロニードルアレイの製造方法は、X線の照射量に応じた深さで加工可能な材料にX線マスクを介してX線を照射することにより、前記材料を加工しマイクロニードルアレイを得るマイクロニードルアレイの製造方法であって、前記X線マスクは、微小幅の開口を有した細長い突起形状がパターンに形成されるX線吸収層を備え、前記X線マスクを材料の表面との間に所定間隔を保ち、Xマスクの突起形状の長手方向に相対移動させながら前記X線マスクを介して前記材料にX線を照射し、さらに、前記相対移動の方向とは異なる方向でかつ前記X線マスクの突起形状の長手方向に相対移動させながら前記X線マスクを介して前記材料にX線を照射することにより、前記材料を加工しマイクロニードルアレイを得ることを特徴としている。
請求項3に記載のマイクロニードルアレイは、請求項2に記載のマイクロニードルアレイの製造方法において加工した前記材料を母型として電鋳加工を行い微細構造体を得て、該微細構造体を金型として転写成形加工を行なうことによって製造されたことを特徴としている。
請求項4に記載のマイクロニードルアレイは、請求項1又は3に記載のマイクロニードルアレイにおいて、生体液採取用手段に用いられることを特徴としている。
請求項1に記載のマイクロニードルアレイによれば、ニードルが、その先端から基部の表面に向かって延び、微小な隙間を介して互いに向き合う壁面からなる切込みを1つあるいは複数備えている。そのため、皮膚にマイクロニードルアレイを圧着させると、毛細管現象によって先端から切込みの隙間を血液が上昇するとともに、切込みの隙間に血液を保持することができる。これにより、前記従来の空室を減圧することにより血液を採取するマイクロニードルアレイと比較して、血液を容易に採取することができる。又、人間の皮膚表面から約150μmの深さ(浅さ)を超えると通常神経が通っているため、例えばニードルの全高を約150μm以下としても、血液検査等に必要な量の血液を採取することが可能となり、これによって無痛で血液を採取することができる。
請求項2に記載のマイクロニードルアレイの製造方法によれば、微小幅の開口を有した細長い突起形状がパターンに形成されるX線吸収層を備えるX線マスクを材料の表面との間に所定間隔を保ち、X線マスクの突起形状の長手方向に相対移動させながらX線マスクを介して材料にX線を照射し、さらに、前記相対移動の方向とは異なる方向でかつX線マスクの突起形状の長手方向に相対移動させながらX線マスクを介して材料にX線を照射することにより、材料を加工しマイクロニードルアレイを得るので、X線マスクの開口に応じた切込みを有しX線マスクの突起形状に応じたニードルを備えるマイクロニードルアレイを容易に製造することができる。前記従来のマイクロニードルアレイの製造方法とは異なり、予め材料に長穴を開ける必要がなく、又、長穴に対してX線マスクの位置を定めながら相対移動を行なう必要がないので、より簡易にマイクロニードルアレイを製造することができる。又、前記従来のマイクロニードルアレイの製造方法とは異なり、露光を行なう際に正確な位置合わせを行なう必要がないので、より精度の良いマイクロニードルアレイを容易に製造することができる。
請求項3に記載のマイクロニードルアレイによれば、請求項2に記載のマイクロニードルアレイの製造方法において加工した材料を母型として電鋳加工を行い微細構造体を得て、該微細構造体を金型として転写成形加工を行なうので、精度の良いマイクロニードルアレイを容易に大量生産することができる。
請求項4に記載のマイクロニードルアレイによれば、生体液採取用手段に用いられるので、上記効果を備えた生体液採取用手段を得ることができる。
本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイについて図面に基づき説明する。このマイクロニードルアレイ100は、図1(a)にその一部を示すように、基部101の表面に同形状のニードル10が多数配設されている。基部101は薄厚の板状部材であり、寸法を例示すると、X軸方向長さ(幅)1cm、Y軸方向長さ(奥行き)1cm、Z方向長さ(高さ)150μm〜1mmの板状部材である。基部101は、ポリメチルメタクリレート(以下、PMMAという。)、アクリル、ポリスチレン、エポキシ、ポリカーボネイト等のプラスチック及びシリコン等の無機質からなる単層、又は上面側がPMMAで下面側がシリコン等の異なる材質からなる層が複数積層された複層である。
ニードル10は、基部101のX軸方向及びY軸方向に一定間隔Wにて規則正しく、基部101の表面から上方に向かって配設されている。例えば、基部101が前記例示した寸法である場合には、間隔Wは300μmであり、この基部101にX軸方向32列Y軸方向32列の計1024個のニードル10が配設されている。ニードル10は、ポリメチルメタクリレート(以下、PMMAという。)、アクリル、ポリスチレン、エポキシ、ポリカーボネイト等のプラスチック及びシリコン等の無機質であり単一の材質からなる。ニードルは、基部101と一体に設けられていてもよい。
ニードル10は、図1(b)から図1(d)に示すように、その底面が基部101の表面に接する正四角錐からなり、その先端から基部101の表面に向かって鉛直下方(Z軸負方向)に延びる互いに直交する2つの切込み11a、11bを備えることにより正四角錐が4分割された形状をしている。ニードル10は、全体として先端に向かって細くなっている。切込み11a、11bにより分割された個々は、底面が直角二等辺の三角錐からなり、各々鋭い先端を備えている。各切込み11a、11bは、ニードル10の中心軸L0を含んだ垂直面を挟み微小な隙間Bを介して互いに向き合う壁面12からなる。図示したニードル10は、2つの切込み11a、11bを備えている。1方の切込み11aは、中心軸L0を含んだXZ平面(垂直面)を挟み微小な隙間Bを介して互いに向き合う壁面12からなる。他方の切込み11bは、中心軸L0を含んだYZ平面(XZ平面に直交する垂直面)を挟み微小な隙間Bを介して互いに向き合う壁面12からなる。正四角錐の寸法を例示すると、高さH150μm、底面の対角辺の長さA100μm、隙間B10〜20μmである。中心軸L0を含みXZ平面方向及びYZ平面方向に切断したニードル10の断面は、同じ形状として現われ、図1(c)に示すように、その底辺を基部101の表面に接する直角二等辺三角形が、中心軸L0を挟み隙間Bを介して互いに対向し、Z軸方向に延びる垂直辺からなる切込みを備えている。ニードル10の切込み11a、11bを形成する壁面12は、ニードル10の一方の外側辺から中心軸L0を対称に対向する他方の外側辺に渡っている。ニードル10は、Z軸方向上面視において、図1(d)に示すように、正方形の両対角線を中心に所定間隔Bを隔てて、壁面12がそれぞれ対向して切込み11a、11bを形成している。
次に、このマイクロニードルアレイ100を用いて血液を採取する過程について説明する。マイクロニードルアレイ100の各ニードル10の先端を人間等の皮膚に均一に押し当てると、ニードル10の先端は鋭いため、皮膚の最上層である固い角質層を貫通する。ニードル10の高さHは、例えば150μmであるので、その先端が毛細血管を含む皮膚の中層に達する。皮膚表面から約150μmを超える深さの神経層まで神経が存在しないので、ニードル10の先端が神経に接触することがなく、血液を採取される者は無痛である。ニードル10の先端が毛細血管に達すると、切込み11a、11bの隙間Bは微小であるため、血液の表面張力に起因する毛細管現象により、切込み11a、11bのなす間隙を血液が上昇する。又、切込み11a、11bの隙間Bは微小であるので、切込み11a、11bのなす間隙に血液を保持するので、良好に血液を採取することができる。なお、図示しないが、基部101内に切込み11a、11bと連通する空洞を設け、空洞を減圧し負圧にする電動ポンプ等を備えた血液採取用バイオチップにマイクロニードルアレイ100を用いて、これにより血液を採取してもよい。採取した血液は、マイクロニードルアレイ100を複数の領域(例えば、4つの領域)に分割して、それぞれ別個に同時に(並行して)各領域毎に検査等を行なう。なお、マイクロニードルアレイ100は、血液採取用バイオチップなどの各種生体液採取用手段に用いることができる。又、マイクロニードルアレイ100は、ニードル10から薬液を切込み11a、11bの間隙に取込んだ後に皮膚に圧着させることなどによって、薬液注入に用いることができる。マイクロニードルアレイ100は、ニードル10を薬剤を含む材料から形成し、皮膚に挿入させたニードル10を折ることなどによって、薬剤埋込みに用いることができる。
次に、第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの変形例について説明する。第1の変形例は、図2(a)から図2(c)に示すように、ニードル10が全体に渡って分割されている図1(b)に示したニードル10と異なり、ニードル20の一部のみがその先端から切込み21a、21bにより分割されている。切込み21a、21bは基部101との接続部分までは設けられておらず、ニードル20の先端から鉛直下方に長さH′の切込み21a、21bを設けることによりニードル20の一部が分割されている。このように切込み21a、21bの長さを短くしても検査に必要な血液量を採取することができればよい。又、図2(d)から図2(f)に示すように、ニードル20′が2つの切込み21a、21bの重複する領域からなる一辺幅Bの正四角柱が切込み21a、21bの底部から更に基部101の表面に向かって延びるように形成される穴22を有するものであってもよい。
第2の変形例は、図3(a)から図3(c)に示すように、図1(b)に示したニードル10の先端が鋭端であるのとは異なり、ニードル30の先端は平面状に形成されている。すなわち、ニードル30は、先端が水平に切り落された正四角錐が4分割された形状をしている。中心軸L0を含みXZ平面方向及びYZ平面方向に切断したニードル10の断面は、同じ形状として現われ、図3(b)に示すように、直角台形が中心軸L0を挟み対向して向かい合っている。寸法を例示すると、直角台形の上辺の幅Cは10μmである。ニードル30の先端が鋭端でないため、先端が折れにくい利点がある。又、ニードル30の先端が全体として半球状等の曲面体であってもよい。第3の変形例は、図3(d)から図3(f)に示すように、第1と第2の変形例の特徴を組み合わせたニードル40を備えている。
第4の変形例は、図4(a)から図4(c)に示すように、ニードル50が基部101との接続部分から鉛直上方(Z軸方向正方向)に所定高さH1の正四角柱が設けられ、その上に正四角錐を設けたものである。切込みはニードル50全体に設けられている。第5の変形例は、図4(d)から図4(f)に示すように、ニードル60が円錐形である。又、図示しないが、ニードルは、正四角錐の他に三角錐や五角錐等の多角錐であってもよい。又、上記説明した各ニードルは、その先端から基部の表面に向かって鉛直下方(Z軸負方向)に延びる切込みを備えているが、これに限定されず、その先端から基部の表面に向って鉛直下方に対し傾斜して延びる切込みを備えていてもよい。又、上記説明した各ニードルは、その先端から基部の表面に向かって延びる切込みを2つ備えているが、これに限定されず、その先端から基部の表面に向かって延びる切込みを1つ又は3つ以上備えていてもよい。又、切込みがニードルの先端から基部の底面まで延びるものであってもよい。これにより、基部の底面に空室を設け、この空室を減圧する電動ポンプ等ることによって、血液を採取するものであってもよい。更に、上記説明した各ニードルの特徴を組み合わせて有するニードルであってもよい。
本発明の第2の実施の形態に係るマイクロニードルアレイについて図面に基づき説明する。このマイクロニードルアレイ200は、に、図5(a)にその一部を示すように、各ニードル70の切込み71a、71bがX軸方向及びY軸方向の隣り合うニードル70の切込み71a、71bと一体化して連通している。各ニードル70は、図5(b)に示すように、図1(b)に示したニードル10に対して、隣り合うニードル70との間に渡って設けられる堤状の連結部72を追加した形状である。この連結部72は、図5(c)及び図5(d)に示すように、基部101の表面に幅Aを有し、鉛直上方(Z軸正方向)に向かって高さDまで順次先細に形成されている。図1(a)に示したマイクロニードルアレイ100と比較して、切込み71a、71bの間隙が増すので、血液を採取する際にニードル70の先端から毛細管現象により上昇した血液をより多く保持することができる。又、上記説明した各ニードルの特徴を有するニードルが連結部を備えるものであってもよい。
次に、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの製造方法について図面に基づき説明する。図6、図7(a)及び図7(b)に示すように、所定位置に固定して配置されたX線マスク80に対して、レジスト材90をテーブル95に載置する。レジスト材90は、PMMA等からなり、金属やシリコン等からなる基板91をその底面に伴っている。レジスト材90は、X軸及びY軸方向の長さが同じW0である。X線マスク80は、微小幅の開口を有する切込みを有し縦方向(Y軸方向)に細長い突起形状を、横方向(X軸方向)に間隔を隔てて多数配列したX線吸収層81を有している。X線吸収層81は、Au等の金属からなり、ポリイミド等のメンブレン82に支持されている。X線マスク80は、横方向の長さがレジスト材90のX軸及びY軸方向の長さと同じW0である。
図7(a)及び図7(b)に示すように、X線マスク80とレジスト材90の表面との間に所定間隔を隔て水平に載置する。図示しない駆動部は、X線マスク80に対してテーブル95を、Y軸方向へ所定速度で往復移動させる。X線マスク80やテーブル95は、真空あるいはHe等のガス(1気圧程度)が充填された図示しない露光チャンバ内に配置されている。露光チャンバ外のシンクロトロン放射光装置等からなる図示しないX線照射部から露光チャンバ内にX線が入射され、X線マスク80を介してレジスト材90に照射される。X線照射部からのX線はX線マスク80が配置された範囲のみに照射され、テーブル95の移動に伴ってレジスト材90がX線マスク80と重なり合う範囲からはみ出た場合には、X線マスク80と重ならない範囲のレジスト材90上にはX線が照射されない。
図7(b)に示すように、テーブル95をY軸方向へ一定速度で往復移動させながら固定したX線マスク80を介してレジスト材90にX線を露光する。X線マスク80をレジスト材90の表面との間に所定間隔を保ち、X線吸収層81の突起形状の長手方向(中心軸L1方向)に相対移動させながらX線マスク80を介してレジスト材90にX線を照射し露光する。この時、レジスト材90の手前に向くYZ面を面Sとする。
この場合、テーブル95は、レジスト材90のY軸方向の前端位置S1がX線マスク80のY軸方向の後端位置aより手前側に位置するI位置と、レジスト材90のY軸方向の後端位置S2がX線マスク80のY軸方向の前端位置bを通過するII位置との間で移動させるようにする。すなわち、テーブルの1回の往動(Y軸正方向移動)又は復動(Y軸負方向移動)中に、レジスト材90の全領域がX線マスク80の下方を通過するように移動範囲を設定する。
上記のように、テーブル95をY軸方向へ一定移動させながらレジスト材90にX線を照射した場合、レジスト材90のX軸方向の各部におけるX線積算照射量は、図8(a)に示すような分布となる。X線吸収層81によりX線が常に遮断されるX座標においては、照射されるX線は全てX線吸収層81により吸収されるので、X線積算照射量は0である。一方、X線吸収層81により全く遮断されないX座標においては、照射されるX線は全てレジスト材90により吸収されるので、X線積算照射量は全X線積算照射量に等しい。
又、X線吸収層81によりX線が一部遮断されるX座標においては、照射されるX線は一部レジスト材90に吸収される。具体的に説明すると、図8(b)において、X座標がX1におけるX線吸収層81のY軸方向の長さをY1とし、X線吸収層81のY軸方向の全長をY0とする。レジスト材90のX座標がX1の位置においては、テーブルの移動速度は一定であることを考慮し、X線の全照射期間中にX線が遮断される確率はY1/Y0、逆にX1の位置にX線が照射される確率(X座標がX1の位置への実際のX線照射時間/全照射時間)は(Y0−Y1)/Y0=α1となる。
従って、X線積算照射量のZ軸方向の変化は、X線吸収層81のY軸方向における長さを反比例させたものとなる。なお、レジスト材90上のX座標が等しい場合、Y座標、つまり、レジスト材80のY軸方向位置に関わらず、X線積算照射量は一定となる。これは、テーブル95の1回の往動又は復動中に、レジスト材90のY軸方向の全域がX線マスク80のY軸方向の全域の下方を通過するためである。
その結果、もし、この1回目の露光後、現像液を用いて現像すると、レジスト材90が図8(c)に示すような形状に加工される。すなわち、レジスト材90のXZ平面における断面形状はY座標に関わらず一定になり、X線マスク80のXY平面内でのX線吸収層81の形状がレジスト材90のXZ平面にZ軸方向に拡大又は縮小した形状(X軸方向は等倍)に加工される。
次に、図9に示すように、所定位置に固定して配置された同じX線マスク80に対して、前記1回目の露光とはレジスト材90を90度XY面にて回転させてテーブルに載置する。レジスト材90の外面Sに直交する外面TをYZ平面の手前に向くように載置する。X線マスク80とレジスト材90の表面との間に所定間隔を隔て水平に載置する。1回目の露光と同様に、X線マスク80に対してテーブル95をY軸方向へ一定速度で往復移動させながら、X線マスク80の突起形状の長手方向に相対移動させながらX線マスク80を介してレジスト材90にX線を照射し露光する。
上記のように、テーブル95をY軸方向へ一定移動させながらレジスト材90にX線を照射した場合、レジスト材90のX軸方向の各部におけるX線積算照射量は、図8(a)に示すような分布となる。その結果、もし、この2回目の露光のみを行なった場合、その後現像すると、レジスト材90が図8(d)に示すような形状に加工される。すなわち、レジスト材のXZ平面における断面形状はY座標に関わらず一定になり、X線マスク80のXY平面内でのX線吸収層81の形状がレジスト材90のXZ平面にZ軸方向に拡大又は縮小した形状(X軸方向は等倍)に加工される。
従って、上記計2回の露光後に、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール、モルホリン及び2−アミノエタノールの混合水溶液などの適宜の現像液を用いて現像すると、レジスト材90が図10(a)又は図10(b)に示すような形状に加工される。ここで、レジスト材90の厚さが薄く、1回のみに露光にてレジスト材90の全厚さを除去可能な場合には、図10(a)に示した形状に加工される。レジスト材90の厚さが厚く、1回のみに露光にてレジスト材90の全厚さを除去できない場合には、2回の露光における合計のX線積算照射量に応じて除去され、図10(b)に示した形状に加工される。又、X線積算照射量を減らすことによっても、図10(b)に示した形状に加工できる。
上記のようにレジスト材90を部分的に除去して得られる残存したレジスト材を、マイクロニードルアレイとしてそのまま利用してもよい。しかしながら、さらに、この残存したレジスト材を母型として電鋳加工を行い、反転させた形状の凹凸を有する金属製微細構造体を得ることができる。例えば、残存したレジスト材の表面上に、ニッケルからなるめっき被膜を形成する。続いて、このめつき被膜を導電層膜として電鋳加工を行い、ニッケルやニッケル合金等からなる金属層を形成する。その後、残存したレジスト材を溶剤によって除去すると、金属層のみが残存して微細金属構造体が得られる。さらに、この金属製微細構造体を金型として用いて、ホットエンボス加工、射出成形等の転写成形加工を行なうことによりアクリル、ポリスチレン、エポキシ、ポリカーボネイト等のプラスチック又はセラミック製のマイクロニードルアレイを大量に生産することができる。
なお、X線マスク80のX線吸収層81の形状を適宜変更することにより異なった形状のニードルを備えたマイクロニードルアレイを製造することができる。例えば、図11(a)に斜線で示す領域を有するX線吸収層を用いて、上記同様に2回の露光を行なった後、現像することにより、図2(a)又は図2(d)に示したニードル20、20′を備えたマイクロニードルアレイを製造することができる。図11(b)に斜線で示す領域を有するX線吸収層を用いて、同様に2回の露光を行なった後、現像することにより、図3(a)に示したニードル30を備えたマイクロニードルアレイを製造することができる。図11(c)に斜線で示す領域を有するX線吸収層を用いて、同様に2回の露光を行なった後、現像することにより、図4(a)に示したニードル50を備えたマイクロニードルアレイを製造することができる。又、現像の加工後に得られる形状は、露光時におけるX線積算照射量により定まるので、X線吸収層のY軸方向の長さが同じであれば、X線吸収層の具体的な形状に関わらず、同じ形状に加工することができる。例えば、図8(b)に斜線で示す領域を有するX線吸収層を用いた場合と、図11(d)に斜線で示す領域を有するX線吸収層81を用いた場合では、同じ形状にレジスト材を加工することができる。
レジスト材90としてPMMAを使用した場合、加工深さが数百μm程度以下の範囲ではX線積算照射量と加工深さが略比例するので、最大の加工深さ、つまり、レジスト材90の厚さが数百μm程度以下の場合、X線マスクのX線吸収層の形状を加工後のレジスト材の断面形状と略比例させるのみでよい。
なお、本発明の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの製造方法においては、2回の露光にて互いに直交する方向にX線マスクに対してレジスト材を相対移動させながら露光を行なっているが、これに限定されるものではない。例えば、3回の露光を互いに異なる向きにX線マスクに対してレジスト材を相対移動させながら露光を行なってもよい。これにより、3つ以上の切込みを有する六角錐のニードルを備えたマイクロニードルアレイを製造することができる。ただし、3回目の露光においては、2回の露光にて加工されるべき隣接するニードルの先端を連ねた方向に対して、X線吸収層の突起形状の中心線を対向させながら、相対移動させる必要がある。又、1回目の露光時のレジスト材に対してX線マスクを相対移動させる方向に対して、2回目の露光では90度以外の異なる角度で相対移動させながらX線を照射してもよい。これにより、底面が平行四辺形の角錐からなるニードルが90度以外の異なる角度に連なって配列されるマイクロニードルアレイを製造することができる。さらに、2回の露光にて互いに異なるX線マスクに対してレジスト材を相対移動させながらX線を照射してもよい。例えば、1回目の露光において図6に示した切込みを有するX線吸収層81を備えたX線マスク80を介してレジスト材に露光を行ない、2回目の露光において図13に示した切込みを有さないX線吸収層921を備えたX線マスク920を介して前記レジスト材に露光を行なってもよい。これにより、1つの切込みを備えたニードルが配列されるマイクロニードルアレイを製造することができる。
本発明に係るマイクロニードルアレイ及びその製造方法は マイクロニードルアレイ等及びその製造方法にて利用することができる。
本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイを示し、(a)は全体斜視図、(b)はニードルの斜視図、(c)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(d)はニードルの上面図である。 (a)〜(c)は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの第1の変形例を示し、(a)はニードルの斜視図、(b)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(c)はニードルの上面図である。(d)〜(f)は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの第1の別の変形例を示し、(d)はニードルの斜視図、(e)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(f)はニードルの上面図である。 (a)〜(c)は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの第2の変形例を示し、(a)はニードルの斜視図、(b)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(c)はニードルの上面図である。(d)〜(f)は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの第3の変形例を示し、(d)はニードルの斜視図、(e)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(f)はニードルの上面図である。 (a)〜(c)は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの第4の変形例を示し、(a)はニードルの斜視図、(b)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(c)はニードルの上面図である。(d)〜(f)は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの第5の変形例を示し、(d)はニードルの斜視図、(e)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(f)はニードルの上面図である。 本発明の第2の実施の形態に係るマイクロニードルアレイを示し、(a)は全体斜視図、(b)はニードルの斜視図、(c)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(d)はニードルの上面図である。 本発明の実施の形態に係るマイクロニードルアレイの製造方法における1回目の露光時のレジスト材の移動方向を示す説明図である。 1回目の露光時のレジスト材の移動方向を示す説明図であり、(a)はY軸方向視、(b)はX軸方向視である。 (a)は露光におけるX軸方向のX線積算照射量を示すグラフ、(b)はX線マスクのX線吸収層の形状を示す説明図、(c)は1回目の露光のみにより加工した場合に得られるレジスト材の形状を示す斜視図、(d)は2回目の露光のみにより加工した場合に得られるレジスト材の形状を示す斜視図である。 2回目の露光時のレジスト材の移動方向を示す説明図である。 (a)、(b)は残存したレジスト材の形状を示す斜視図である。 (a)から(d)はX線マスクのX線吸収層の別例を示す説明図である。 従来のマイクロニードルアレイを示し、(a)は全体斜視図、(b)はニードルの斜視図、(c)はニードルの中心軸L0におけるXZ面方向及びYZ面方向の断面図、(d)はニードルの上面図である。 従来のマイクロニードルアレイの製造方法における説明図であり、(a)は1回目の露光時のレジスト材の移動方向を示す斜視図であり、(b)は露光時のレジスト材とX線マスクとの配置を示すY軸方向視である。
符号の説明
10、20、30、40、50、60、70 ニードル
11a、11b、21a、21b、71a、71b 切込み
12 壁面
80 X線マスク
81 X線吸収層
90 レジスト材(材料)
100、200 マイクロニードルアレイ
101 基部

Claims (4)

  1. 基部の表面に同形状のニードルが多数配設されたマイクロニードルアレイにおいて、
    前記ニードルが、その先端から前記基部の表面に向かって延び、微小な隙間を介して互いに向き合う壁面からなる切込みを1つあるいは複数備えることを特徴とするマイクロニードルアレイ。
  2. X線の照射量に応じた深さで加工可能な材料にX線マスクを介してX線を照射することにより、前記材料を加工しマイクロニードルアレイを得るマイクロニードルアレイの製造方法であって、前記X線マスクは、微小幅の開口を有した細長い突起形状がパターンに形成されるX線吸収層を備え、前記X線マスクを材料の表面との間に所定間隔を保ち、Xマスクの突起形状の長手方向に相対移動させながら前記X線マスクを介して前記材料にX線を照射し、さらに、前記相対移動の方向とは異なる方向でかつ前記X線マスクの突起形状の長手方向に相対移動させながら前記X線マスクを介して前記材料にX線を照射することにより、前記材料を加工しマイクロニードルアレイを得ることを特徴とするマイクロニードルアレイの製造方法。
  3. 請求項2に記載のマイクロニードルアレイの製造方法において加工した前記材料を母型として電鋳加工を行い微細構造体を得て、該微細構造体を金型として転写成形加工を行なうことによって製造されたことを特徴とするマイクロニードルアレイ。
  4. 生体液採取用手段に用いられることを特徴とする請求項1又は3に記載のマイクロニードルアレイ。
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