JP5066703B2 - 金属材料や半導体材料等の表面改質法とそのための表面改質装置 - Google Patents
金属材料や半導体材料等の表面改質法とそのための表面改質装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5066703B2 JP5066703B2 JP2005080280A JP2005080280A JP5066703B2 JP 5066703 B2 JP5066703 B2 JP 5066703B2 JP 2005080280 A JP2005080280 A JP 2005080280A JP 2005080280 A JP2005080280 A JP 2005080280A JP 5066703 B2 JP5066703 B2 JP 5066703B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cavitation
- vortex
- flow path
- generator
- flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
本発明は、キャビテーションの圧潰衝撃力を利用して、金属材料や半導体材料の疲労強度を向上させたり、残留応力を発生させたり、ゲッタリングによりクリーン化したりするなどの表面改質をするに際して、キャビテーションの制御と、圧潰衝撃力の大きさを強化し、これによって効率良く表面改質を行う方法やそのための表面改質装置に関する。
キャビテーションの圧潰衝撃力を利用して、機械部品等の表面改質をしたり、洗浄することを特徴とする表面処理法(特開2003−62492号)。
キャビテーションの圧潰衝撃力を利用して、半導体材料ウエーハに侵入する不純物をウエーハ裏面に捕獲するゲッタリング技術(特開2000−252287号)。
加圧容器を用いて、キャビテーション気泡の圧潰衝撃力を高めて洗浄やピーニングを行う方法(特開2000−263337号)。
大気中でキャビテーション噴流を生成するノズル(特開平10−113871号、特開2000−202326号)
被加工面に噴流カバーを被せて、キャビテーション噴流ならびに低速噴流を充填してピーニングを施工する例(特開平7−328857号)。
本発明では、予備キャビテーション発生器で予備キャビテーションを生じさせて崩壊させた後にできる残留微細気泡をキャビテーション核として用いる。キャビテーション核を通常の水中に含まれるキャビテーション核からわずかに大きくすることにより、衝撃力が増大し、衝撃力が及ぼす領域も拡大する。なお空気を直接、渦に混入するのは、気体を過度に混入させるのでクッション効果を生じるだけである。適度なキャビテーション核の供給により、通常ならばキャビテーションが発生しない渦においてもキャビテーションを発生できるので、渦キャビテーションの崩壊が激しく生じ、衝撃力が著しく大きくなる。
また渦発生器の寸法は、速度比に対して小さすぎると、渦が流れ方向に引き伸ばされて大きくならない。一方、渦発生器の寸法が大きすぎると、流れ方向に対して扁平な渦となり、やがて小さな渦に分解して大きな渦を形成できない。渦発生器の寸法が適度な場合に渦が大きく発達し、強力な渦キャビテーションを発生できるのである。
すると、本発明を実施して加工したステンレス鋼の疲労寿命が、単にキャビテーション・ショットレス・ピーニングをしただけの場合に比較して、20%以上向上した。
図1は、キャビテーション核からの発生・発達・崩壊と残留気泡の生成を示す原理図であり、図2は、本発明の金属材料や半導体材料の表面改質を行う方法と、そのための表面改質装置の実施例を示す構成説明図である。また、図3の(a)(b)(c)(d)は予備キャビテーション発生器の形態例を示す構成説明図であり、図4の(a)(b)(c)(d)(e)(f)(g)(h)(i)(j)は、渦発生器の形態例を示す構成説明図である。更に、図5の(a)(b)(c)は、渦発生器における流速の影響を示す説明図であり、図6の(a)(b)(c)は、渦発生器における寸法の影響を示す説明図である。
2:流路間隔
3:渦発生器
4:キャビテーション核
5:渦キャビテーション
6:金属材料または半導体材料
7:強い衝撃力
Claims (3)
- 上流路に予備キャビテーション発生器を設け、その下流路に残留微細気泡ができる所定の流路間隔をおいて、渦キャビテーションが発生する渦発生器を設けておき、
前記予備キャビテーション発生器により予備キャビテーションを発生させた後、当該予備キャビテーション気泡が流路間隔で圧潰して生じた残留微細気泡をキャビテーション核として含む液体となし、これを流路間隔に満たしたうえ、このキャビテーション核を含む液体を前記渦キャビテーションを発生する渦発生器に流入・噴出させるが、
当該渦発生器により発生するキャビテーション噴流の流速差が、流速の速い領域と流速の遅い領域との流速比が25:1〜8:1の範囲内で連続的に流速変化するようになすとともに、当該渦発生器の噴流の寸法を、当該渦が分裂しない大きな渦キャビテーションが形成可能な寸法になすことにより生じる大きな渦キャビテーションを発生させ、
当該渦キャビテーションを金属材料または半導体材料に当て、渦キャビテーション気泡の崩壊により生じる衝撃力により、表面改質を行うようにしたことを特徴とする金属材料や半導体材料の表面改質法。 - 上流路に予備キャビテーション発生器を設け、その下流路に残留微細気泡ができる所定の流路間隔をおいて渦キャビテーションが発生する渦発生器を配設し、発生した大きな渦キャビテーションが金属材料または半導体材料に当るように構成してなる金属材料や半導体材料の表面改質装置において、
前記予備キャビテーション発生器は、流路に凹みを設けるか、流路に突起を設けるか、流路にオリフィスを設ける又は流路に超音波振動子を設けるか、のいずれかであって、予備キャビテーションが発生するように構成したものであり、
前記予備キャビテーション発生器の下流路には、予備キャビテーションが発生した後、当該予備キャビテーション気泡が圧潰して残留微細気泡ができるだけの流路間隔を設け、
渦キャビテーションが発生する渦発生器は、キャビテーション噴流の流速差が、流速の速い領域と流速の遅い領域との流速比が25:1〜8:1の範囲内で連続的に流速変化するものであり、且つ渦発生器の噴流の寸法が、渦の分裂しない大きな渦キャビテーションが形成可能な寸法となし、
発生した大きな渦キャビテーションが金属材料または半導体材料に当るように構成したことを特徴とする金属材料や半導体材料の表面改質装置。 - 大きな渦キャビテーションが発生する渦発生器は、流路に曲がり管部を設けるか、流路にテーパ部を設けるか、流路に流れが収縮するステップを設けるか、流路に流れが拡大するステップを設けるか、流路にオリフィスを設けるか、流路の流れ部にじゃま板を設けるか、複数個の流れの合流を用いるか、2種類の流速の異なる流れの合流を用いるか、複数個の流速の異なる流れの合流を用いるか、これらのうちの単体若しくは複数を複合することにより構成されたものであり、大きな渦キャビテーションが発生するようにしたことを特徴とする請求項2に記載する金属材料や半導体材料の表面改質装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005080280A JP5066703B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | 金属材料や半導体材料等の表面改質法とそのための表面改質装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005080280A JP5066703B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | 金属材料や半導体材料等の表面改質法とそのための表面改質装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006255865A JP2006255865A (ja) | 2006-09-28 |
JP5066703B2 true JP5066703B2 (ja) | 2012-11-07 |
Family
ID=37095621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005080280A Active JP5066703B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | 金属材料や半導体材料等の表面改質法とそのための表面改質装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5066703B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010214477A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Toyota Motor Corp | 表面処理方法及び表面処理装置 |
JP5876701B2 (ja) * | 2011-10-07 | 2016-03-02 | Jfe条鋼株式会社 | ボルト刻印工具の強化方法及びボルト刻印工具 |
US10590966B2 (en) | 2015-02-24 | 2020-03-17 | Sanyo-Onoda City Public University Corporation | Method for generating mechanical and electrochemical cavitation, method for changing geometric shape and electrochemical properties of substance surface, method for peeling off rare metal, mechanical and electrochemical cavitation generator, and method for generating nuclear fusion reaction of deuterium |
CN110055390B (zh) * | 2019-04-28 | 2020-08-28 | 江苏大学 | 一种压力交变浸没式内孔表面强化装置及方法 |
CN110157878B (zh) * | 2019-04-28 | 2020-09-25 | 江苏大学 | 一种气动双工位内孔空化系统及方法 |
JP2023173871A (ja) * | 2022-05-26 | 2023-12-07 | 不二越機械工業株式会社 | 研磨装置及び研磨方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2878529B2 (ja) * | 1992-07-30 | 1999-04-05 | バブコック日立株式会社 | 水中水噴流を利用する加工方法 |
JP3320105B2 (ja) * | 1992-07-30 | 2002-09-03 | バブコック日立株式会社 | キヤビテーシヨン噴流用ノズル |
JPH07328857A (ja) * | 1994-06-09 | 1995-12-19 | Babcock Hitachi Kk | ウォータージェットピーニング装置およびウォータージェットピーニング法 |
JPH07328856A (ja) * | 1994-06-09 | 1995-12-19 | Babcock Hitachi Kk | ウォータージェットピーニング装置 |
JPH0985625A (ja) * | 1995-09-20 | 1997-03-31 | Hitachi Ltd | 液体噴射ノズル及びそのノズルの製造方法並びにそのノズルを用いた応力改善装置 |
JP3197250B2 (ja) * | 1997-06-02 | 2001-08-13 | 財団法人ダム水源地環境整備センター | 湖沼、池等の浄化装置 |
JP2957976B2 (ja) * | 1997-09-09 | 1999-10-06 | 株式会社日立製作所 | 金属材料の残留応力改善方法 |
JP2000252287A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Hitoshi Soyama | 裏面にキャビテーションゲッタリングサイトを有する半導体ウエーハと、当該半導体ウエーハの製造方法と、当該半導体ウエーハによるゲッタリング方法。 |
JP2003062492A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-04 | Japan Science & Technology Corp | 機械部品等の表面処理および洗浄方法ならびにそれらの装置 |
-
2005
- 2005-03-18 JP JP2005080280A patent/JP5066703B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006255865A (ja) | 2006-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5066703B2 (ja) | 金属材料や半導体材料等の表面改質法とそのための表面改質装置 | |
JP5038600B2 (ja) | 微細気泡発生装置 | |
Hutli et al. | The relation between the high speed submerged cavitating jet behaviour and the cavitation erosion process | |
US8202369B2 (en) | Method and apparatus for controlled transient cavitation | |
JP3320105B2 (ja) | キヤビテーシヨン噴流用ノズル | |
JP2007160175A (ja) | 洗浄装置 | |
JP2006187752A (ja) | 2流体特殊洗浄ノズル | |
JP2008021672A (ja) | ガス過飽和溶液を用いた超音波洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP2011156526A (ja) | ナノバブル発生装置 | |
SK46795A3 (en) | Device for gas dissolving | |
JPH04362124A (ja) | 金属材料の残留応力改善方法 | |
JP2003062492A (ja) | 機械部品等の表面処理および洗浄方法ならびにそれらの装置 | |
JP5610487B2 (ja) | 機械加工装置及び機械加工方法 | |
JP2007000848A (ja) | 微細気泡発生方法 | |
JP3349386B2 (ja) | 管内面の液ジェットピーニング施工方法 | |
Shimada et al. | Influence of the nuclei size distribution on the collapsing behavior of the cloud cavitation | |
JPH05212317A (ja) | 急拡大型液中ジェット噴射用ノズル | |
JP2878529B2 (ja) | 水中水噴流を利用する加工方法 | |
JP6990848B2 (ja) | 噴射ノズルおよび噴射方法 | |
JPH07241494A (ja) | ウォータージェット用ノズル | |
JP2957976B2 (ja) | 金属材料の残留応力改善方法 | |
JP3304403B2 (ja) | 水中高速二相噴流による金属材料の表面改質法 | |
JPH08257998A (ja) | キャビテーション・ジェット・ノズル | |
CN111373025A (zh) | 清洗液 | |
Rezaei et al. | Experiments on the Injection of Elliptical Liquid Jets Into a Low Speed Airflow |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071203 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100817 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110628 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110813 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111028 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111028 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120309 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120309 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120524 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |