JP5062744B2 - 液化ガス充填装置の殺菌方法 - Google Patents
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殺菌・冷却用として無菌化されたガスを供給する無菌ガス供給管路を、液化ガス供給管路の液化ガス除菌フィルターよりも下流側に接続し、この接続部よりも下流側で液化ガス供給管路に開閉バルブを設けると共に、殺菌・冷却に使用したガスを排出するガス排出管路を、液化ガス供給管路の液化ガス除菌フィルターよりも上流側に接続し、この接続部よりも上流側の液化ガス供給管路とガス排出管路とにそれぞれ開閉バルブを設けて、
それらの開閉バルブの開閉を適宜に切り換えることで、液化ガス除菌フィルターへの液化ガスの供給を停止した状態として、無菌ガス供給管路から液化ガス供給管路に無菌化された高温ガスを所定時間だけ供給することにより、
フィルター殺菌処理系統として、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも上流側では、液化ガス除菌フィルター内に高温ガスを供給して、ガス排出管路から高温ガスを排出させ、また、タンク殺菌処理系統として、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側では、充填用ノズルを開放した状態で貯留タンク内に高温ガスを供給して、充填用ノズルと気化ガス排気管路から高温ガスを排出させ、それら2つの系統の殺菌処理の何れか一方を先に行ない他方を後で行なうことで、装置内の高温ガスが通過した箇所を殺菌した後、
少なくとも液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側に対して、無菌ガス供給管路から無菌化された低温ガスを液化ガス供給管路に所定時間だけ供給することにより、該下流側の装置内で低温ガスが通過した箇所を冷却するようにしたことを特徴とするものである。
殺菌・冷却用として無菌化されたガスを供給する無菌ガス供給管路を、液化ガス供給管路の液化ガス除菌フィルターよりも下流側に接続し、この接続部よりも下流側で液化ガス供給管路に開閉バルブを設けると共に、殺菌・冷却に使用したガスを排出するガス排出管路を、液化ガス供給管路の液化ガス除菌フィルターよりも上流側に接続し、この接続部よりも上流側の液化ガス供給管路とガス排出管路とにそれぞれ開閉バルブを設けて、
それらの開閉バルブの開閉を適宜に切り換えることで、液化ガス除菌フィルターへの液化ガスの供給を停止した状態として、無菌ガス供給管路から液化ガス供給管路に無菌化された高温ガスを所定時間だけ供給することにより、
フィルター殺菌処理系統として、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも上流側では、液化ガス除菌フィルター内に高温ガスを供給して、ガス排出管路から高温ガスを排出させ、また、タンク殺菌処理系統として、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側では、充填用ノズルを開放した状態で貯留タンク内に高温ガスを供給して、充填用ノズルと気化ガス排気管路から高温ガスを排出させ、それら2つの系統の殺菌処理の何れか一方を先に行ない他方を後で行なうことで、装置内の高温ガスが通過した箇所を殺菌した後、
少なくとも液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側に対して、無菌ガス供給管路から無菌化された低温ガスを液化ガス供給管路に所定時間だけ供給することにより、該下流側の装置内で低温ガスが通過した箇所を冷却する、ということで実現した。
(1)フィルター殺菌処理系統では、装置内を150℃以上(約160℃)の温度に昇温させるのに要した時間とその温度に維持した時間との合計で約15分間。
(2)タンク殺菌処理系統では、装置内を150℃以上(約160℃)の温度に昇温させるのに要した時間(約20分間)とその温度を維持した時間(約10分間)との合計で30分間。
(3)フィルター冷却処理系統では、約25℃の不活性ガス(窒素ガス)を流して装置内を50℃以下の温度に冷却するのに要した時間が約5分間。
(4)タンク冷却処理系統では、約25℃の不活性ガス(窒素ガス)を流して装置内を50℃以下の温度に冷却するのに要した時間が約22分間であった。
2 貯留タンク
3 充填用ノズル
5 気化ガス排気管路
6 液化ガス供給管路
10 液化ガス除菌フィルター
11 無菌ガス供給管路
12 ガス用フィルター
13 ヒーター
14 ガス排出管路
A1〜A5 開閉弁
Claims (3)
- 液化ガスを貯留するための貯留タンクに対し、液化ガス供給源から液化ガスを該タンク内に供給するための液化ガス供給管路が、該管路の途中に液化ガス除菌フィルターを設けた状態で、該タンクの上部側に接続され、該タンク内で液化ガスから気化したガスを排出するための気化ガス排気管路が、該タンクの上部側に接続され、該タンク内に貯留された液化ガスを流出させるための充填用ノズルが、該タンクの底部側に連設されている液化ガス充填装置について、該装置の内部を加熱殺菌してから冷却するために、
殺菌・冷却用として無菌化されたガスを供給する無菌ガス供給管路を、液化ガス供給管路の液化ガス除菌フィルターよりも下流側に接続し、この接続部よりも下流側で液化ガス供給管路に開閉バルブを設けると共に、殺菌・冷却に使用したガスを排出するガス排出管路を、液化ガス供給管路の液化ガス除菌フィルターよりも上流側に接続し、この接続部よりも上流側の液化ガス供給管路とガス排出管路とにそれぞれ開閉バルブを設けて、
それらの開閉バルブの開閉を適宜に切り換えることで、液化ガス除菌フィルターへの液化ガスの供給を停止した状態として、無菌ガス供給管路から液化ガス供給管路に無菌化された高温ガスを所定時間だけ供給することにより、
フィルター殺菌処理系統として、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも上流側では、液化ガス除菌フィルター内に高温ガスを供給して、ガス排出管路から高温ガスを排出させ、また、タンク殺菌処理系統として、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側では、充填用ノズルを開放した状態で貯留タンク内に高温ガスを供給して、充填用ノズルと気化ガス排気管路から高温ガスを排出させ、それら2つの系統の殺菌処理の何れか一方を先に行ない他方を後で行なうことで、装置内の高温ガスが通過した箇所を殺菌した後、
少なくとも液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側に対して、無菌ガス供給管路から無菌化された低温ガスを液化ガス供給管路に所定時間だけ供給することにより、該下流側の装置内で低温ガスが通過した箇所を冷却するようにしたことを特徴とする液化ガス充填装置の殺菌方法。 - 液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも下流側の装置内を低温ガスにより冷却する際に、無菌ガス供給管路から無菌化された低温ガスを液化ガス供給管路に所定時間だけ供給することにより、液化ガス供給管路の無菌ガス供給管路との接続部よりも上流側に対しても、該上流側の装置内で低温ガスが通過した箇所を冷却するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の液化ガス充填装置の殺菌方法。
- 無菌ガス供給管路から供給される殺菌用の高温ガスが、フィルターの表面積が大きいスクリーンフィルターでの除菌により無菌化されて、ヒーターによる加熱で140℃〜220℃に高温化されたものであり、冷却用の低温ガスが、殺菌用の高温ガスと同様に無菌化されて、ヒーターによる加熱がないものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の液化ガス充填装置の殺菌方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007297743A JP5062744B2 (ja) | 2007-11-16 | 2007-11-16 | 液化ガス充填装置の殺菌方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007297743A JP5062744B2 (ja) | 2007-11-16 | 2007-11-16 | 液化ガス充填装置の殺菌方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009120241A JP2009120241A (ja) | 2009-06-04 |
JP5062744B2 true JP5062744B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=40812849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007297743A Active JP5062744B2 (ja) | 2007-11-16 | 2007-11-16 | 液化ガス充填装置の殺菌方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5062744B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000185710A (ja) * | 1998-10-14 | 2000-07-04 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 液化ガス除菌充填方法とその装置 |
JP4225763B2 (ja) * | 2002-10-21 | 2009-02-18 | 岩谷産業株式会社 | 液体窒素供給装置 |
JP5202927B2 (ja) * | 2007-11-16 | 2013-06-05 | 大和製罐株式会社 | 液化ガス充填装置への無菌液化ガス供給方法及びその装置 |
-
2007
- 2007-11-16 JP JP2007297743A patent/JP5062744B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
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JP2009120241A (ja) | 2009-06-04 |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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