JP5058200B2 - 乾燥装置 - Google Patents
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Description
乾燥室内に配置され、熱媒体が内部に供給される回転軸と、この回転軸に固定され、熱媒体が内部に供給されるコイル状管体と、このコイル状管体の外周側に配置されたブレードとを有する加熱攪拌部と、
乾燥室の壁面に形成され、熱媒体が供給されるジャケットと
を備えることを特徴としている。
第2乾燥室以降の乾燥室の加熱攪拌部の回転速度が、第1乾燥室の加熱攪拌部の回転速度よりも大きい。
2 第2乾燥機
3 クーリングタワー
11,21 乾燥室
12,22 ケーシング
13,23 ジャケット
14,24 加熱攪拌部
P1,P2 冷却水ポンプ
VP1,VP2 真空ポンプ
Claims (8)
- 被処理物が投入され、内部が減圧される乾燥室と、
乾燥室内に配置され、熱媒体が内部に供給される回転軸と、この回転軸に固定され、熱媒体が内部に供給されるコイル状管体と、このコイル状管体の外周側に配置されたブレードとを有する加熱攪拌部と、
乾燥室の壁面に形成され、熱媒体が供給されるジャケットとを備え、
上記加熱攪拌部を有して内部が減圧される乾燥室を複数個備え、第1乾燥室で処理された被処理物を、第2乾燥室以降の乾燥室に順次送って処理するように形成され、
第2乾燥室以降の乾燥室の減圧値が、第1乾燥機の減圧値よりも大きいことにより、第1乾燥室で乾燥させて第2乾燥室に搬送する被処理物の量と、第2乾燥室で乾燥させて第2乾燥室から排出する被処理物の量を、概ね同じに揃え、第1乾燥室と第2乾燥室で連続的に乾燥処理を行うことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1に記載の乾燥装置において、
第2乾燥室以降の乾燥室の加熱攪拌部の回転速度が、第1乾燥機の加熱攪拌部の回転速度よりも大きいことを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
第1乾燥機に被処理物を連続的に投入する投入装置と、第1乾燥室から第2乾燥室以降の乾燥室へ被処理物を連続的に順次搬送する搬送装置と、最終の乾燥室から被処理物を連続的に排出する排出装置とを備えることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
第1乾燥室よりも下側に第2乾燥室以降の乾燥室が配置されていることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
投入装置は、入口と出口に密閉バルブが設けられたエアロックを有し、エアロック内の被処理物を第1乾燥室に吸引させて投入するように形成されていることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項2に記載の乾燥装置において、
被処理物からの蒸気を凝縮させる凝縮部と、乾燥室内の空気を凝縮部で凝縮された凝縮水と共に吸引する吸引ポンプと、吸引ポンプで吸引した乾燥室内の空気と凝縮水を脱臭流体に接触させるスクラバとを有し、スクラバの脱臭流体が、凝縮部とスクラバとの間を循環する冷却水であることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項5に記載の乾燥装置において、
脱臭流体に、酵素が添加されていることを特徴とする乾燥装置。 - 請求項1に記載の乾燥装置において、
被処理物は、有機汚泥又は生ごみであることを特徴とする乾燥装置。
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