JP5052401B2 - 排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の製造方法によれば、前記複合金属酸化物からなる多孔質触媒層を形成する工程において、前記0.5〜10μmの範囲の粒子径分布を有する該触媒前駆体を含有するとともに前記2.0mPa・s以下の粘度を有する前記スラリーが塗布された前記多孔質フィルタ基材を、800〜1000℃の範囲の温度で1〜10時間の範囲の時間で焼成する。これにより、得られた多孔質触媒層は、直径が0.01〜3.5μmの範囲である細孔が形成されるとともに、該多孔質フィルタ基材及び該多孔質触媒層全体の気孔率が45〜50体積%の範囲に形成される。この結果、前記多孔質触媒層は、前記パティキュレートを燃焼させるのに十分な体積を確保することができるとともに、該パティキュレートを前記細孔を介して該触媒層に十分に接触させることができる。
したがって、本発明の製造方法により製造された排ガス浄化用酸化触媒装置によれば、内燃機関の排ガス中のパティキュレートをより低温で酸化し浄化することができる。
また、前記スラリーの粘度が2.0mPa・sを超える場合には、該スラリーを前記多孔質フィルタ基材に塗布した際に、該スラリーが該多孔質フィルタ基材の気孔の内部に侵入せず、該気孔を形成する壁面表面に前記多孔質触媒層を形成することができなくなり、これにより、前記パティキュレートの燃焼温度を十分に低下させることができない。前記スラリーは、例えば、前記水の量を増大することにより、前記範囲の粘度に調製することができる。
また、前記多孔質触媒層の前記細孔の直径が0.01μm未満である場合には、圧力損失が増大することがある。一方、前記各触媒層の前記細孔の直径が3.5μmを超える場合には、前記排ガス中の前記パティキュレートが該細孔の表面に十分に接触することができなくなり、該パティキュレートの燃焼温度を低下させる効果が得られないことがある。
また、前記多孔質フィルタ基材及び前記各触媒層全体の気孔率が45%未満である場合
には、前記排ガスが前記気孔を通過する際に圧力損失が増大することがある。一方、前記
多孔質フィルタ基材及び前記各触媒層全体の気孔率が50%を超える場合には、前記排ガ
スと該触媒層との接触確率が低下し、該パティキュレートの燃焼温度を低下させる十分な
効果が得られないことがある。
〔比較例〕
本比較例では、まず、硝酸イットリウムと、硝酸銀と、硝酸マンガンと、硝酸ルテニウムと、リンゴ酸と、水とを、0.95:0.05:0.95:0.05:6:40のモル比となるように混合した。前記混合は、乳鉢を用いて25℃の温度で15分間行った。得られた混合物を、350℃の温度に1時間維持して一次焼成を行い、触媒前駆体を形成した。次に、得られた触媒前駆体と、水と、バインダーとしての市販の水分散ジルコニアゾルとを10:100:10の重量比となるように秤量し、回転式ボールミルにて100回転/分で5時間混合して粉砕し、触媒前駆体スラリーを調製した。
Claims (3)
- 内燃機関の排ガス中のパティキュレートを複合金属酸化物からなる触媒を用いて酸化し浄化する排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法であって、
該複合金属酸化物を構成する複数の金属の化合物と有機酸と水とを焼成して触媒前駆体を得る工程と、
得られた該触媒前駆体と水とバインダーとを混合粉砕してスラリーを調製する工程と、
該スラリーを多孔質フィルタ基材に塗布する工程と、
該スラリーが塗布された該多孔質フィルタ基材を焼成して、該多孔質フィルタ基材に担持された該複合金属酸化物からなる多孔質触媒層を形成する工程とを備える方法において、
該スラリーは、0.5〜10μmの範囲の粒子径分布を有する該触媒前駆体を含有するとともに、2.0mPa・s以下の粘度を有し、
該複合金属酸化物からなる多孔質触媒層を形成する工程は、該スラリーが塗布された該多孔質フィルタ基材を800〜1000℃の範囲の温度で1〜10時間の範囲の時間で焼成し、
該多孔質触媒層は、直径が0.01〜3.5μmの範囲である細孔を備え、該多孔質フィルタ基材及び該多孔質触媒層全体の気孔率が、45〜50体積%の範囲であることを特徴とする排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法。 - 前記スラリーは、1.3〜1.5mPa・sの範囲の粘度を有することを特徴とする請求項1記載の排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法。
- 前記多孔質触媒層は、一般式Y1−xAgxMn1−yRuyO3で表され、0.01≦x≦0.15かつ0.005≦y≦0.2である複合金属酸化物からなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法。
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