JP5045927B2 - 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本実施形態の露光装置100では、一連の露光工程に先立って、走査露光中のウエハステージWSTとレチクルステージRSTとの相対位置を補正するための補正マップを作成する。図2には、走査露光中のウエハステージWSTとレチクルステージRSTとの同期走査により、レチクルステージRSTに保持されたレチクルR上のパターン領域PAが、照明領域IARを通過する様子が模式的に示されている。
ところで、走査露光中に発生する両ステージWST、RSTの相対位置のずれ(相対位置ずれ)は、両ステージWST、RSTの静特性によるものと、動特性によるものとに分類することができる。
上述した補正マップの作成終了後、露光装置100において一連の露光動作が開始される。以下では、この露光動作について説明する。前述のように、この露光動作は、主制御装置20の露光動作タスクの制御により実行される。この露光動作タスクは、まず、露光対象となるウエハW上の回路パターン等の設計情報が含まれるプロセスプログラムデータファイルを、不図示の上位装置(露光装置100が稼動するプロセスを管理するホストコンピュータ)から取得し、露光に必要なレチクルRのロード、ウエハWのロード、各種アライメント、露光条件の設定などの準備処理を行う。そして、準備処理終了後、露光レシピに含まれる設定情報のうち、両ステージWST、RSTの駆動に必要なショットマップ(ショット配置)、ショット領域の露光順、ショットサイズ、ウエハステージWSTの制御フェーズなどに関する情報を読み出し、読み出された情報に基づいて、両ステージWST、RSTに対する目標位置指令群(すなわち両ステージWST、RSTの目標軌道)を作成する。そして、主制御装置20は、ステージ制御装置19に対し、露光開始を指示するとともに、次の露光対象となるショット領域に対する走査露光を行うための両ステージWST、RSTの目標位置指令のプロファイルデータをステージ制御装置19に送信する。
ルφ*の近傍にある2m個の補間変数ベクトルΦ[1]〜Φ[2m]に対応する動的マップ
RD(y)をそれらのベクトルをキーとして、マザーマップから選択するようになる。
Claims (14)
- 照明光に対してマスク及び物体を所定の露光条件の下で同期走査させつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記物体上に転写する露光方法であって、
前記同期走査中における前記マスクと前記物体との2次元面内の相対位置ずれに関するノンパラメトリックな情報に基づいて、前記同期走査中の前記マスクと前記物体との相対位置を補正する補正工程を含み、
前記ノンパラメトリックな情報として、前記露光条件に依存する前記相対位置ずれの補正量の動的な補正マップと、前記露光条件に依存しない前記相対位置ずれの補正量の静的な補正マップとが用いられる、露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記パターンの転写は、前記パターンを投影光学系を介して前記物体上に投影することで行われ、
前記マスクと物体とは、前記投影光学系の光軸に直交する第1移動面、第2移動面内でそれぞれ移動する露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記補正マップは、前記同期走査の走査方向に関する各サンプル位置での前記相対位置ずれの補正量を含む露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記補正工程は、
前記所定の露光条件に対応する前記動的な補正マップがない場合には、前記動的な補正マップが得られている複数の露光条件の中から、当該露光条件の近傍の複数の露光条件を選択する第1副工程と;
前記選択された複数の露光条件での動的な補正マップを用いた補間演算により、指定された露光条件での動的な補正マップを作成する第2副工程と;
前記作成された補正マップを用いて、前記同期走査中の前記物体と前記マスクとの相対位置を補正する第3副工程と;を含む露光方法。 - 請求項4に記載の露光方法において、
前記補間演算は、前記連続した値をとる露光条件についてのみ行われる露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記補正工程に先だって、
前記照明光に対し、複数の計測用パターンが形成されたマスクと物体とを前記複数の異なる露光条件の下で同期走査することにより、前記走査露光を行って、前記各露光条件での前記複数の計測用パターンの転写結果を取得する取得工程と;
前記取得された転写結果に基づいて、前記各計測用パターンの転写位置の位置ずれ量を検出する検出工程と;
前記検出された前記各計測用パターンの転写位置の位置ずれ量に基づいて、前記各露光条件に対応する前記ノンパラメトリックな情報を算出する算出工程と;をさらに含む露光方法。 - 請求項6に記載の露光方法において、
前記物体上における前記各計測用パターンの転写位置の位置ずれ量が許容範囲内となるまで、前記取得工程と、前記検出工程と、前記算出工程とを繰り返し、
前記取得工程では、過去の前記算出工程における算出結果を用いて前記各露光条件にそれぞれ対応する前記ノンパラメトリックな情報を更新し、更新されたノンパラメトリックな情報に基づいて、前記同期走査中の前記マスク及び前記物体の相対位置を補正しつつ、前記照明光に対してマスク及び物体を所定の露光条件の下で同期走査させつつ、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して前記物体上に転写する露光方法。 - 請求項6に記載の露光方法において、
前記算出工程では、
前記照明光が照射される領域の前記走査方向に関する幅に応じたインバースフィルタを用いて、前記各計測用パターンの転写位置の位置ずれ量をデコンボリューションし、
前記デコンボリューションされた前記各計測用パターンの転写位置の位置ずれ量に基づいて、前記マスクと前記物体との前記投影光学系の光軸に直交する2次元面内の相対位置ずれ量に関するノンパラメトリックな情報を検出する露光方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を走査露光し、該物体上にパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
- マスクに形成されたパターンを物体上に転写する露光装置であって、
照明光により前記マスクを照明する照明系と;
前記マスクを保持して前記照明系からの照明光の光路を横切る第1移動面内で移動可能な第1移動体と;
前記物体を保持して前記照明光の光路を横切る第2移動面内で移動可能な第2移動体と;
前記照明光に対して前記マスク及び前記物体を所定の露光条件の下で同期走査するために、前記第1移動体及び第2移動体を駆動する駆動装置と;
前記同期走査中における前記マスクと前記物体との2次元面内の相対位置ずれに関するノンパラメトリックな情報に基づいて、前記同期走査中の前記マスクと前記物体との相対位置を補正する補正装置と;を備え、
前記ノンパラメトリックな情報として、前記露光条件に依存する前記相対位置ずれの補正量の動的な補正マップと、前記露光条件に依存しない前記相対位置ずれの補正量の静的な補正マップとが用いられる、露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記パターンを前記物体上に投影する投影光学系を更に備え、
前記第1移動面及び第2移動面は、ともに前記投影光学系の光軸に直交する露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記補正マップは、前記同期走査の走査方向に関する各サンプル位置での前記相対位置ずれの補正量を含む露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記補正装置は、
前記所定の露光条件に対応する前記動的な補正マップがない場合には、前記動的な補正マップが得られている複数の露光条件の中から、当該露光条件の近傍の複数の露光条件を選択する選択装置と;
前記選択された複数の露光条件での動的な補正マップを用いた補間演算により、指定された露光条件での動的な補正マップを作成する作成装置と;
前記作成された補正マップを用いて、前記同期走査中の前記物体と前記マスクとの相対位置を補正する相対位置補正装置と;を含む露光装置。 - 請求項13に記載の露光装置において、
前記作成装置は、前記連続した値をとる露光条件についてのみ、前記補間演算を行う露光装置。
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