JP5045618B2 - 水処理剤及び水処理方法 - Google Patents
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Description
前記アニオン性ポリマーは、モノマー単位として、(メタ)アクリル酸及び/又はその塩と、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩と、を有する共重合体であり、
前記共重合体における2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩からなるモノマー単位の含有割合は10モル%以上である水処理剤。
本発明に係る水処理剤は、アニオン性ポリマー、ホスホン酸化合物、及びスライム抑制剤を含有する。各成分の詳細を以下に説明する。
アニオン性ポリマーは、一般にスケール抑制作用を奏することが知られており、従来、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸の塩が使用されている。このうち本発明で使用されるアニオン性ポリマーは、モノマー単位として、(メタ)アクリル酸及び/又はその塩と、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩と、を有する共重合体である。なお、アニオン性ポリマーは、更に他のモノマー単位を有していてもよい。
ホスホン酸化合物は、主にスケール抑制作用を有する。具体的には、特に限定されないが、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、ヒドロキシホスホノ酢酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミン−N,N,N’,N’−テトラメチレンホスホン酸、及び/又はこれらの塩が挙げられる。このうち、後述のスライム抑制剤に含まれる酸化剤と併存した際の安定性に優れる点で、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸及び/又はその塩が好ましい。
スライム抑制剤は、水系に添加されてスライムを抑制する機能を有するあらゆる成分を指す。例えば、文献(沼倉孝男:日本材料学会腐食部門委員会資料、No.199,Vol.36,Part4,p.1(1997))には、特に冷却水系に添加されるスライム抑制剤の成分として、次亜塩素酸ナトリウムに代表される無機系酸化物、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オンに代表される非酸化性有機化合物が開示されている。
ClO−+H2NSO3H→HClNSO3 −+H2O
2ClO−+H2NSO3H+H+→Cl2NSO3 −+2H2O
本発明に係る水処理方法は、以上の水処理剤を水系に添加する工程を有する。これにより、水系へのスケール付着を充分に抑制できる。
図1は、試験例1で用いた冷却水系評価試験装置10のブロック図である。評価試験装置10において、試験水は試験水タンク11からポンプ12により評価部15に送給され、再び試験水タンク11に戻る。試験水の流量はバルブ13により調整される。試験水タンク11には、試験水補給タンク17よりポンプ18を介して試験水が供給される。試験水の供給量は、所定の滞留時間となるよう調整される。試験水の温度は温度調整器16により所定の温度に調整される。なお、符号14は流量計である。
[運転条件]
保有水量:100L
評価部15における試験水の流速:0.4m/s
滞留時間:24時間
試験水温度:30℃
管肉温度:80℃
評価時間:2日間
AA/AMPS:アクリル酸/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体
AA/AMPS/t−BTAM:アクリル酸/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸/t−ブチルアクリルアミド共重合体
MA/IB:マレイン酸/イソブチレン共重合体
AA/HAPS:アクリル酸/2−ヒドロキシ−3−アリロキシプロパンスルホン酸酸共重合体
ホスホン酸:2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸
有効塩素:次亜塩素酸ナトリウムをスルファミン酸で安定化させたスライム抑制剤(有効塩素含有量として4.8質量%の次亜塩素酸ナトリウム、8質量%のスルファミン酸、9.12質量%の水酸化ナトリウム、1質量%の1,2,3−ベンゾトリアゾール、77.08質量%の水からなる)を、各残留塩素濃度になるように添加した。なお、有効塩素濃度は、JIS K0101に準拠した残留塩素測定法によって測定した塩素濃度である。
図3は、試験例2で用いたベンチスケール冷却水系評価試験装置20のブロック図である。評価試験装置20では、ポンプ25を有する循環配管により、冷却塔29の収容槽23(保有量100L)に収容された循環冷却水が熱交換器28に送給され、冷却水(冷却対象)が冷却塔29に戻される。一方、水処理剤タンク21に水処理剤が収容され、水処理剤の収容槽23への供給量はポンプ22によって調節される。また、収容槽23には補給水が補給されるとともに、ポンプ24によって所定量の水がブロー水として廃棄される。熱交換器28は、外径19mm、長さ1300mm、厚さ2.3mmの炭素鋼製テストチューブ「STB340」2本が設けられた蒸気加熱シェル側通水熱交換器であった(熱交換部のチューブ長さ:1000mm)。
[運転条件]
熱交換器28での流速:0.3m/s
熱交換器28入口水温:30℃
熱交換器28出口水温:50℃(蒸気加熱)
滞留時間:24時間
試験水温度:30℃
運転期間:30日間
試験区1:水処理剤(50mg/L)単独
試験区2:水処理剤(50mg/L)+次亜塩素酸ナトリウム(0.5mg/L)
試験区3:水処理剤(50mg/L)+次亜塩素酸ナトリウム(1.0mg/L)
試験区4:水処理剤(50mg/L)+安定化塩素(5mg/L)
Claims (5)
- アニオン性ポリマーと、ホスホン酸化合物と、スライム抑制剤と、を含有し、
前記アニオン性ポリマーは、モノマー単位として、(メタ)アクリル酸及び/又はその塩と、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩と、を有する共重合体であり、
前記共重合体における2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩からなるモノマー単位の含有割合は10モル%以上である水処理剤であって、
前記ホスホン酸化合物は、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸及び/又はその塩、又は1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸及び/又はその塩であり、
前記スライム抑制剤は、次亜塩素酸塩、スルファミン酸化合物、及びアゾール系化合物を含有する水処理剤。 - 13以上のpHを有し、且つ、前記水処理剤の全質量に対して、(a)有効塩素含有量1〜8質量%の次亜塩素酸塩、(b)1.5〜9質量%のスルファミン酸化合物、(c)2.5〜20質量%の水酸化ナトリウム、(d)0.05〜3質量%のアゾール系化合物を含有する請求項1記載の水処理剤。
- 水系の水処理方法であって、前記水系に、ホスホン酸化合物と、スライム抑制剤と、モノマー単位として、(メタ)アクリル酸及び/又はその塩と、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩と、を有する共重合体であり、この共重合体における2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩からなるモノマー単位の含有割合が10モル%以上であるアニオン性ポリマーと、を添加する水処理方法であって、
前記ホスホン酸化合物は、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸及び/又はその塩、又は1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸及び/又はその塩であり、
前記スライム抑制剤は、次亜塩素酸塩、スルファミン酸化合物、及びアゾール系化合物を含有するものである水処理方法。 - 前記水系は開放循環式冷却水系である請求項3記載の水処理方法。
- 前記水系はプレート式熱交換器を有する請求項3又は4記載の水処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008228108A JP5045618B2 (ja) | 2008-09-05 | 2008-09-05 | 水処理剤及び水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008228108A JP5045618B2 (ja) | 2008-09-05 | 2008-09-05 | 水処理剤及び水処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010058079A JP2010058079A (ja) | 2010-03-18 |
JP5045618B2 true JP5045618B2 (ja) | 2012-10-10 |
Family
ID=42185493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008228108A Active JP5045618B2 (ja) | 2008-09-05 | 2008-09-05 | 水処理剤及び水処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5045618B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5720964B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-05-20 | 栗田工業株式会社 | 結合塩素剤、その製造および使用方法 |
JP5856894B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-02-10 | 栗田工業株式会社 | 冷却水系の処理方法 |
JP5972749B2 (ja) * | 2012-10-18 | 2016-08-17 | オルガノ株式会社 | スケール洗浄液組成物およびスケール洗浄方法 |
JP6156494B2 (ja) * | 2013-06-14 | 2017-07-05 | 栗田工業株式会社 | 蒸気発生設備の水処理方法 |
JP6645030B2 (ja) * | 2015-05-11 | 2020-02-12 | 栗田工業株式会社 | 水処理剤及び水処理方法 |
KR20240122683A (ko) * | 2021-12-15 | 2024-08-13 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 역침투막 시스템의 실리카 오염 억제법 및 실리카 오염 억제제 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4642194A (en) * | 1985-09-16 | 1987-02-10 | Nalco Chemical Company | Method for prevention of phosphonate decomposition by chlorine |
JPH05104093A (ja) * | 1990-07-02 | 1993-04-27 | Calgon Corp | 2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸並びにアニオンポリマーを用いた、水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出の制御方法 |
JP4370488B2 (ja) * | 1999-11-29 | 2009-11-25 | オルガノ株式会社 | 防食分散剤及び防食方法 |
JP4321733B2 (ja) * | 2000-03-23 | 2009-08-26 | 伯東株式会社 | 次亜塩素酸塩を含有する安定な水処理剤組成物 |
JP4361812B2 (ja) * | 2004-01-16 | 2009-11-11 | 伯東株式会社 | 開放循環冷却水系の処理方法 |
JP4467046B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-05-26 | 伯東株式会社 | 金属腐食抑制剤 |
JP2006263510A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Kurita Water Ind Ltd | 膜分離用スライム防止剤及び膜分離方法 |
-
2008
- 2008-09-05 JP JP2008228108A patent/JP5045618B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010058079A (ja) | 2010-03-18 |
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