JP5042605B2 - トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法 - Google Patents
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Description
ジー・エヌ・コイダン他、「ジャーナル・オブ・ジェネラル・ケミストリ・オブ・ユー・エス・エス・アール」、1985年、第55巻、第1453頁 G. N. Koidan et al., Journal of General Chemistry of The USSR, 55, 1453 (1985).
工程(B):前記工程(A)で得られた反応液中の、アミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドを含む固形分を除去する工程、
工程(C1):前記工程(B)で得られた反応液に、アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物を添加して、塩素を含有する副生成物と反応させ、塩素を前記溶媒に難溶性の無機塩素化合物に変換する工程、および
工程(D1):前記工程(C1)で得られた反応液中の、無機塩素化合物を含む固形分を除去する工程
また、本発明のトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法は、次の各工程を備えていることも特徴としている。
工程(C2):前記工程(A)で得られた反応液に、アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物を添加して、塩素を含有する副生成物と反応させ、塩素を前記溶媒に難溶性の無機塩素化合物に変換する工程、および
工程(D2):前記工程(C2)で得られた反応液中の、アミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドおよび無機塩素化合物を含む固形分を除去する工程
また、本発明では、アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物が、アルカリ金属の炭酸塩または炭酸水素塩および/またはアルカリ土類金属の炭酸塩または炭酸水素塩であることが好適である。
窒素雰囲気下で、2Lのガラス製反応器に、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホラン382.1g(純度97.0%、2.079mol)とイソプロピルベンゼン503.4gを仕込んだ。この溶液を緩やかに攪拌しながら加熱して70℃に保ち、これにオキシ塩化りん46.0g(純度99.0%、0.297mol)をイソプロピルベンゼン184.0gと混合した溶液を60分かけて滴下した。反応は、温度を70℃に保持するように冷却しながら実施した。滴下終了後、同温度でさらに5時間攪拌した。反応液は白色のスラリー状となった(工程(A))。
実施例1で合成した炭酸カリウム添加前の濾洗液(目的化合物濃度が12.4重量%であり、塩素分が396重量ppmであるもの)182.2gを300mlのガラス製反応器に入れ、微粉末状の炭酸カリウム0.46g(目的化合物100重量部に対して2.0重量部に相当)を添加し、窒素雰囲気下、70℃で3時間攪拌した(工程(C1))。
窒素雰囲気下で、1Lのガラス製反応器に、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホラン191.0g(純度97.0%、1.040mol)とイソプロピルベンゼン251.7gを仕込んだ。この溶液を緩やかに攪拌しながら加熱して70℃に保ち、これにオキシ塩化りん23.0g(純度99.0%、0.149mol)をイソプロピルベンゼン92.0gと混合した溶液を60分かけて滴下した。反応は、温度を70℃に保持するように冷却しながら実施した。滴下終了後、同温度でさらに5時間攪拌した。反応液は白色のスラリー状となった(工程(A))。
実施例1で合成した炭酸カリウム添加前の濾洗液(目的化合物濃度が12.4重量%であり、塩素分が396重量ppmであるもの)182.5gを300mlのガラス製反応器に入れ、炭酸カリウムを添加せずに、窒素雰囲気下、70℃で3時間攪拌した。
Claims (5)
- 次の各工程を備えていることを特徴とする、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法。
工程(A):溶媒としての芳香族炭化水素類の存在下、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランとオキシ塩化りんとを反応させて、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドと、アミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドとを含む反応液を得る工程、
工程(B):前記工程(A)で得られた反応液中の、アミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドを含む固形分を除去する工程、
工程(C1):前記工程(B)で得られた反応液に、アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物を添加して、塩素を含有する副生成物と反応させ、塩素を前記溶媒に難溶性の無機塩素化合物に変換する工程、および
工程(D1):前記工程(C1)で得られた反応液中の、無機塩素化合物を含む固形分を除去する工程 - 次の各工程を備えていることを特徴とする、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法。
工程(A):溶媒としての芳香族炭化水素類の存在下、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランとオキシ塩化りんとを反応させて、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドと、アミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドとを含む反応液を得る工程、
工程(C2):前記工程(A)で得られた反応液に、アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物を添加して、塩素を含有する副生成物と反応させ、塩素を前記溶媒に難溶性の無機塩素化合物に変換する工程、および
工程(D2):前記工程(C2)で得られた反応液中の、アミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドおよび無機塩素化合物を含む固形分を除去する工程 - アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物が、アルカリ金属の炭酸塩または炭酸水素塩および/またはアルカリ土類金属の炭酸塩または炭酸水素塩であることを特徴とする、請求項1または2に記載のトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法。
- アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物の添加量が、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシド100重量部に対して、0.1〜10重量部の範囲であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法。
- 前記芳香族炭化水素類が、炭素数1〜3のアルキル置換基を1つ以上有するアルキル置換芳香族炭化水素類であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法。
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