JP5042252B2 - ガラス材料の回収方法 - Google Patents
ガラス材料の回収方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5042252B2 JP5042252B2 JP2009037627A JP2009037627A JP5042252B2 JP 5042252 B2 JP5042252 B2 JP 5042252B2 JP 2009037627 A JP2009037627 A JP 2009037627A JP 2009037627 A JP2009037627 A JP 2009037627A JP 5042252 B2 JP5042252 B2 JP 5042252B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass material
- silicon oxide
- solution
- glass
- aqueous solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 103
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000011084 recovery Methods 0.000 title claims description 17
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical class F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 85
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 60
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 56
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 44
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 40
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 27
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 24
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 claims description 19
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 9
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010922 glass waste Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N O.O.O.[Al] Chemical compound O.O.O.[Al] MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Cr+3] VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- AEJIMXVJZFYIHN-UHFFFAOYSA-N copper;dihydrate Chemical compound O.O.[Cu] AEJIMXVJZFYIHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/20—Waste processing or separation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/82—Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
Description
添加剤溶解槽を用いて、前記飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液に、アルミニウム、カリウム、バリウム、ニッケル、亜鉛、銅、およびこれらの化合物、ホウ酸、マグネシウム化合物、水から選択される少なくとも一種を添加して、前記飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液中のH2SiF6を過飽和状態にして、
該反応における下記式で表される平衡反応(3)
本発明においては、前記ガラス材料が溶解した溶液に、電界を印加しながら酸化シリコンを析出せしめることが好ましい。また、前記フッ素イオンを含む溶液が、フッ化水素酸水溶液、飽和状態にないケイフッ化水素酸水溶液またはこれらの混合物であることが好ましい。さらに酸化シリコンを析出せしめた後、得られた酸化シリコンを、不活性ガス、還元性ガス、水蒸気、不活性ガスと還元性ガスとの混合ガス、不活性ガスと水蒸気との混合ガスから選択される何れかの雰囲気中で熱処理することが好ましい。
本発明に係るガラス材料の回収方法は、酸化シリコンを主成分とするガラス材料を、フッ素イオンを含む溶液に溶解し飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液を形成せしめるためのガラス溶解槽1と、前記の飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液を過飽和状態にするための添加剤を溶解せしめるための添加剤溶解槽2と、該添加剤を添加せしめるための添加装置7と、ガラス材料を析出・沈殿せしめるための析出・沈殿槽3と、反応熱を回収せしめるための水浴槽12と、温水を循環せしめるためのポンプ13と、フッ素イオンを含む溶液を供給するためのポンプ14と、廃液回収のためのポンプ15とから成るシステムを利用することができる。
なお、以下の実施例において、SiO2ゲルの析出のために用いた過飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液と、SiO2ゲル中に含まれる金属不純物元素の定量は、誘導プラズマ質量分析(Inductively Coupled Plasma Mass Spectroscopy)法により行った。この分析方法は、ppbレベル以下の分析を行うために、本実施例のように多量の金属不純物を含む場合には、希釈してサンプリングを行う必要がある。本実施例では、この過飽和水溶液を濃度50%の半導体用フッ化水素酸水溶液で1000倍に希釈してサンプリングを行い、分析値を1000倍して原液の不純物濃度を算出した。また、析出させたSiO2ゲルも同様にフッ化水素酸水溶液で約5倍に希釈して分析した後、元のSiO2ゲル中の不純物濃度に換算した。なお、希釈に用いたフッ化水素酸水溶液中の金属不純物濃度は、本実施例で分析を行った元素について、全て0.1ppb以下である。
まず、この参考例1においては、ケイフッ化水素酸水溶液に各種の金属酸化物を添加し、SiO2を析出させたときの金属不純物の除去性能を調べた。
濃度約40%(約3.8mol/リットル)の工業用ケイフッ化水素酸水溶液100cc(H2SiF6として54.7g)に水酸化クロム(Cr2O3)、酸化第二鉄(Fe2O3)、水酸化アルミニウム{Al(OH)3}、酸化アンチモン(Sb2O3)、水酸化銅{Cu(OH)2}、酸化鉛(PbO)、酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO)の粉末を、それぞれ約0.005mol/リットルの濃度なるようにマイクロ天秤で秤量して添加し攪拌した。
実施例1では、実際にガラス瓶を粉末状に粉砕したものをフッ化水素酸水溶液に溶解して飽和水溶液を調製した。まず、49%の濃度のフッ化水素 酸水溶液100ccに25gの粉砕したガラス粉末を溶解し、24時間攪拌したものをケイフッ化水素酸の飽和水溶液とした。ガラスの添加量は、従来技術の説明で述べた化学反応式(3):
本発明で回収されるSiO2には、数%のフッ素が含まれており、用途によっては、このフッ素を除去する必要がある。本実施例では、実施例1で述べた方法で形成したSiO2ゲルからフッ素を除去する目的で、水素ガス雰囲気で熱処理する場合について述べる。
まず、SiO2ゲルを合成石英製容器に入れ、窒素ガス雰囲気中で自然乾燥させた後、これを温度約900℃に保たれた電気炉に水素ガスと窒素ガスとの流量比を1:10として混合ガスを連続的に流し、この電気炉内に合成石英製容器(乾燥SiO2ゲル入り)を入炉し60分間の熱処理を行った。SiO2ゲルに含有していたフッ素の濃度は約0.01%に減少した。
実施例3では、参考例1、実施例1および実施例2の知見を基にして、図1に示すようなガラス材料の金属不純物除去システムを組み立てた。
本システムは、酸化シリコンを主成分とし、金属、及び/又は、金属酸化物を不純物として含むガラス材料を溶解し飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液を形成せしめるためのガラス溶解槽1と、前記の飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液を過飽和状態にするための添加剤を溶解せしめるための添加剤溶解槽2と、再びガラス材料を析出・沈殿せしめるための析出・沈殿槽3と、電界を印加せしめるための正電極4、および負電極5と、前記、飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液を攪拌するための攪拌装置6と、添加剤を添加せしめるための添加装置7と、ケイフッ化水素酸水溶液を循環せしめるための循環ポンプ8、9、10と、フィルタ11と、反応熱を回収せしめるための水浴槽12と、温水を循環せしめるためのポンプ13と、フッ化水素酸水溶液、又は飽和状態にないケイフッ化水素酸水溶液を供給するためのポンプ14と、廃液回収のためのポンプ15とから成っている。
2・・・添加剤溶解槽
3・・・析出・沈殿槽
4・・・正電極
5・・・負電極
6・・・攪拌装置
7・・・添加剤添加装置
8,9,10・・・循環ポンプ
11・・・フィルタ
12・・・水浴槽
13・・・温水循環ポンプ
14・・・給液ポンプ
15・・・廃液回収ポンプ
Claims (7)
- ガラス溶解槽を用いて、金属および/または金属酸化物を不純物として含む酸化シリコンを主成分とするガラス材料である廃棄ガラスを、酸化シリコンが飽和になるまで、フッ素イオンを含む溶液に溶解し飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液を形成させると共に、酸化シリコンが溶解する際の熱を回収し、
添加剤溶解槽を用いて、前記飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液に、アルミニウム、カリウム、バリウム、ニッケル、亜鉛、銅、およびこれらの化合物、ホウ酸、マグネシウム化合物、水から選択される少なくとも一種を添加して、前記飽和状態のケイフッ化水素酸水溶液中のH2SiF6を過飽和状態にして、
該反応における下記式で表される平衡反応(3)
- 上記酸化シリコンが溶解する際にガラス溶解槽で発生した熱を回収して、該回収した熱で添加剤溶解槽を加熱して添加剤の溶解度を高め、酸化シリコンの析出・沈殿槽におけるケイフッ化水素酸水溶液の過飽和度をより高めて、SiO2の析出速度を高めることを特徴とする請求項1に記載のガラス材料の回収方法。
- 上記ガラス材料が溶解された溶液中の上部に負極、下部に正極を配置して、電解を印加しながら酸化シリコンを析出せしめることを特徴とする請求項1に記載のガラス材料の回収方法。
- 前記フッ素イオンを含む溶液が、フッ化水素酸水溶液、飽和状態にないケイフッ化水素酸水溶液またはこれらの混合物、あるいは、これらの廃液であることを特徴とする請求項1に記載のガラス材料の回収方法。
- 酸化シリコンを析出せしめた後、得られた酸化シリコンを、不活性ガスと還元ガスとの混合ガス、または、不活性ガスと水蒸気との混合ガスの何れかの雰囲気中で熱処理することを特徴とする請求項1に記載のガラス材料の回収方法。
- 前記の酸化シリコンを主成分とするガラス材料が、金属および/または金属酸化物を不純物として含むことを特徴とする請求項1に記載のガラス材料の回収方法。
- 前記フッ素イオンを含む溶液が、主に酸化シリコン薄膜をエッチングする際に使用するフッ化水素酸水溶液の廃液であることを特徴とする請求項1に記載のガラス材料の回収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009037627A JP5042252B2 (ja) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | ガラス材料の回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009037627A JP5042252B2 (ja) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | ガラス材料の回収方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14840499A Division JP4330698B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | ガラス材料の回収システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009184913A JP2009184913A (ja) | 2009-08-20 |
JP5042252B2 true JP5042252B2 (ja) | 2012-10-03 |
Family
ID=41068543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009037627A Expired - Fee Related JP5042252B2 (ja) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | ガラス材料の回収方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5042252B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6061291B2 (ja) * | 2012-11-12 | 2017-01-18 | 鳥取県 | ガラスからの重金属の分離方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0757685B2 (ja) * | 1986-02-05 | 1995-06-21 | 日東化学工業株式会社 | 高純度シリカの製造方法 |
JPS648296A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide film |
JPH0798652B2 (ja) * | 1989-09-26 | 1995-10-25 | 日本板硝子株式会社 | 二酸化珪素被膜の製造方法及び装置 |
JPH04310514A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-11-02 | Tokuyama Soda Co Ltd | 酸化珪素被覆基材の製造方法 |
JPH0533169A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-02-09 | Toomen Constr Kk | フツ素及びアンモニア化合物を含むエツチング廃液の処理・回収方法 |
JPH07232915A (ja) * | 1992-07-21 | 1995-09-05 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 廃水中のフッ素回収方法 |
JP3400548B2 (ja) * | 1993-06-29 | 2003-04-28 | 三菱レイヨン株式会社 | 高純度球状シリカの製造方法 |
JPH07165412A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-06-27 | Ebara Corp | 二酸化ケイ素被膜の製造方法 |
JPH09208216A (ja) * | 1996-02-01 | 1997-08-12 | Mitsubishi Chem Corp | 高純度合成石英ガラス粉及びその製造方法、並びにこれを用いた高純度合成石英ガラス成形体 |
-
2009
- 2009-02-20 JP JP2009037627A patent/JP5042252B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009184913A (ja) | 2009-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101312775B1 (ko) | 유용금속의 리사이클 방법 | |
CN105112674B (zh) | 一种废弃电路板全湿法回收工艺 | |
EP2089553A1 (en) | Lead recycling | |
JP5392576B2 (ja) | けい素、チタンおよびふっ素の回収方法 | |
Lisbona et al. | Treatment of spent pot-lining with aluminum anodizing wastewaters: selective precipitation of aluminum and fluoride as an aluminum hydroxyfluoride hydrate product | |
Wang et al. | An approach for simultaneous treatments of diamond wire saw silicon kerf and Ti-bearing blast furnace slag | |
CN105293454B (zh) | 一种废退锡液制备稀硝酸、海绵锡和聚合氯化铝的方法 | |
CN103402917A (zh) | 硼酸的回收方法和回收装置 | |
KR20150046336A (ko) | 산화인듐-산화주석 분말의 제조 방법, ito 타깃의 제조 방법 및 수산화인듐-메타주석산 혼합물의 제조 방법 | |
CN102583422A (zh) | 以钾基钛硼氟盐混合物为中间原料生产硼化钛并同步产出钾冰晶石的循环制备方法 | |
CN106756126A (zh) | 一种从低浓度含锗废液中回收锗的工艺方法 | |
CN104726894B (zh) | 回收镓的方法 | |
CN102795654A (zh) | 一种从电路板削挂废液中回收硝酸及五水硫酸铜的方法 | |
CN1938438B (zh) | 含铟金属的制造方法 | |
JP4330698B2 (ja) | ガラス材料の回収システム | |
JP5042252B2 (ja) | ガラス材料の回収方法 | |
CN107400904A (zh) | 铜电解液脱杂剂的制备方法与铜电解液脱杂的方法 | |
Kumar et al. | Hydrometallurgical recycling of lithium-titanate anode batteries: Leaching kinetics and mechanisms, and life cycle impact assessment | |
CN106319563A (zh) | 一种电解铜及利用浓硝酸含铜废水生产电解铜的方法 | |
JP4595048B2 (ja) | 酸洗用水溶液およびその製造方法ならびに資源回収方法 | |
Illés et al. | The production of high-purity gallium from waste LEDs by combining sulfuric acid digestion, cation-exchange and electrowinning | |
AU2007225815A1 (en) | Method of removing/concentrating metal-fog-forming metal present in molten salt, apparatus therefor, and process and apparatus for producing Ti or Ti alloy by use of them | |
US20070041883A1 (en) | Process for hydrometallurgical treatment of electric arc furnace dust | |
CN112126791A (zh) | 一种从金属废料中回收再生高纯铜的方法 | |
JP2011178586A (ja) | 多結晶シリコンの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110601 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120301 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120417 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120710 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |