JP5039971B2 - 非走査型波長分散型x線分析装置及びそれを用いた測定方法 - Google Patents
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Description
X線をプローブとするものは、蛍光X線分析装置(X-ray fluorescence analyzer; XFA)と呼ばれる。また、走査電子顕微鏡(scanning electron microscope; SEM)や電子プローブマイクロアナライザー(electron probe micro analyzer; EPMA)にも、電子線励起で発生する特性X線を分析する装置が付属している場合が多い。これら、蛍光X線及び特性X線の分析装置には、大きくエネルギー分散型と波長分散型がある。
一方、波長分散型は、エネルギー分解能が10eV程度とエネルギー分散型に比べ大きく優れているために、Signal/background比の関係から、検出下限が一桁から二桁向上する。また、蛍光、特性X線のピークが重なり合うこともなくなるために、定量解析が行い易い。さらに、詳細なスペクトル解析により元素分析のみならず、化学状態の評価も可能となる。
したがって本発明はこのような問題点を解決し、測定時間が短く、試料損傷が少ない波長分散型のX線分析装置を提供することを課題とするものである。
(1)試料−2次元もしくは1次元型の位置敏感X線検出器を結ぶ軸に平行な方向のビームの辺の長さを300μm以下に収束させる制御もしくは制限を行った、X線もしくは電子線を試料に垂直に照射する手段と、上記試料から発生する蛍光X線もしくは特性X線を、回折現象を用いてそれぞれの波長ごとに異なる位置に集光させる、円筒面上に対し垂直に結晶方向が制御された曲率分布結晶レンズと、それぞれの波長ごとに異なる位置に集光された蛍光X線もしくは特性X線を検出する上記2次元もしくは1次元型の位置敏感X線検出器と、を備えた非走査型波長分散型X線分析装置であって、
上記試料−2次元もしくは1次元型の位置敏感X線検出器を結ぶ軸を上記曲率分布結晶レンズの中心軸と一致させるようにするとともに、上記曲率分布結晶レンズ及び上記位置敏感X線検出器は、それぞれ試料に対して上記曲率分布結晶レンズの中心軸と一致する方向に並進移動可能に構成されていることを特徴とする非走査型波長分散型X線分析装置。
(2)上記曲率分布結晶レンズは、素材としてSi、Ge、SiGeのいずれか一つよりなる結晶を用いることを特徴とする(1)に記載の非走査型波長分散型X線分析装置。
(3)上記Si、Ge、SiGeのいずれか一つよりなる曲率分布結晶レンズは、単結晶板を結晶の融点近傍温度にて、高温加圧により塑性変形させていることを特徴とする(2)に記載の非走査型波長分散型X線分析装置。
(4)(1)に記載の非走査型波長分散型X線分析装置を用いた逆X線光電子ホログラフィーの測定方法。
試料−検出器を結ぶ軸に平行な方向のビームの辺の長さを300μm以下に絞った収束X線もしくは電子線によって試料の微小点から励起、放出された蛍光X線もしくは特性X線は、理想的な一部の円筒状に加工された形状の結晶を用いれば、波長によってそれぞれ異なる位置に焦点を結ばせることができる。それらは直線上に分布し、その強度分布が特性X線のスペクトルと対応する。
図1に、本発明に係る非走査型波長分散型X線分析装置の概念図を示す。スペクトルと対応する強度分布は、2次元もしくは1次元X線検出器によって、複数のスペクトルを同時に検出することができる。
結晶によって回折を生じるX線の波長は、次のBraggの式によって決定される。
2次元検出器としては、X線CCD(charge-coupled device)、イメージングプレートなどが、また1次元検出器としては、PSPC(position sensitive proportional counter)、PAD(pixel array detector)などが対応する。
銅板を励起させるためのX線源は、Moターゲットを用いた回転対陰極型のX線発生装置であり、ビームサイズはスリットにより、500×150μm2とした。集光点と試料間の距離は424mmである。X線CCDにより測定したパターンには明瞭にCuKα1、Kα2が別々に集光されている。
Claims (4)
- 試料−2次元もしくは1次元型の位置敏感X線検出器を結ぶ軸に平行な方向のビームの辺の長さを300μm以下に収束させる制御もしくは制限を行った、X線もしくは電子線を試料に垂直に照射する手段と、上記試料から発生する蛍光X線もしくは特性X線を、回折現象を用いてそれぞれの波長ごとに異なる位置に集光させる、円筒面上に対し垂直に結晶方向が制御された曲率分布結晶レンズと、それぞれの波長ごとに異なる位置に集光された蛍光X線もしくは特性X線を検出する上記2次元もしくは1次元型の位置敏感X線検出器と、を備えた非走査型波長分散型X線分析装置であって、
上記試料−2次元もしくは1次元型の位置敏感X線検出器を結ぶ軸を上記曲率分布結晶レンズの中心軸と一致させるようにするとともに、上記曲率分布結晶レンズ及び上記位置敏感X線検出器は、それぞれ試料に対して上記曲率分布結晶レンズの中心軸と一致する方向に並進移動可能に構成されていることを特徴とする非走査型波長分散型X線分析装置。 - 上記曲率分布結晶レンズは、素材としてSi、Ge、SiGeのいずれか一つよりなる結晶を用いることを特徴とする請求項1に記載の非走査型波長分散型X線分析装置。
- 上記Si、Ge、SiGeのいずれか一つよりなる曲率分布結晶レンズは、単結晶板を結晶の融点近傍温度にて、高温加圧により塑性変形させていることを特徴とする請求項2に記載の非走査型波長分散型X線分析装置。
- 請求項1に記載の非走査型波長分散型X線分析装置を用いた逆X線光電子ホログラフィーの測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007015569A JP5039971B2 (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 非走査型波長分散型x線分析装置及びそれを用いた測定方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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JP2008180656A JP2008180656A (ja) | 2008-08-07 |
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Family
ID=39724657
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JP2007015569A Active JP5039971B2 (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 非走査型波長分散型x線分析装置及びそれを用いた測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5039971B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5344123B2 (ja) * | 2008-07-18 | 2013-11-20 | 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 | X線反射体、x線反射装置およびx線反射鏡作成方法 |
JP5464419B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2014-04-09 | 国立大学法人東北大学 | 分光結晶、波長分散型x線分析装置および元素分布測定方法 |
JP2013096750A (ja) | 2011-10-28 | 2013-05-20 | Hamamatsu Photonics Kk | X線分光検出装置 |
CN111678600B (zh) * | 2020-08-10 | 2020-10-30 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种平响应的霍尔晶体 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07119716B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1995-12-20 | 株式会社島津製作所 | 表面分析装置 |
JP2002189004A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
DE60213994T2 (de) * | 2001-06-19 | 2006-12-07 | X-Ray Optical Systems, Inc., East Greenbush | Wellenlängen-dispersives röntgenfluoreszenz-system mit fokusierender anregungsoptik und einem fokusierenden monochromator zum auffangen |
JP4710022B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2011-06-29 | 国立大学法人東北大学 | 曲率分布結晶レンズ、曲率分布結晶レンズを有するx線装置及び曲率分布結晶レンズの作製方法 |
JP2006300558A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Tohoku Univ | 逆x線光電子ホログラフィー装置及びその測定方法 |
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2007
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008180656A (ja) | 2008-08-07 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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