JP5026169B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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図1に示すプラズマ処理装置1は、高周波電源2およびプラズマ処理室3を備えている。また、このプラズマ処理装置1は、高周波電源2において生成された高周波信号Sをプラズマ処理室3に同軸ケーブル4を介して供給することによってプラズマ処理室3内にプラズマを発生させて、プラズマ処理室3内において管状の処理対象体(本例では一例として処理対象管)5の表面(本例では一例として内面)をプラズマ処理可能に構成されている。具体的には、このプラズマ処理装置1は、プラズマ処理として、フッ素系樹脂などのプラスチックチューブの内側や、プラズマディスプレイの発光素子に使用されるガラス管内などにプラズマを発生させて、その内面の殺菌、洗浄および親水性の向上を行ったり、機能性材料のコーティングを行ったりする。
上記したプラズマ処理装置1では、放射器14の形状を柱状体または板状体としたが、筒状体として、放射器の内部に処理対象体を挿通させる構成を採用することもできる。以下では、この構成を採用したプラズマ処理装置1Aについて説明する。なお、プラズマ処理装置1と同一の構成については同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
2 高周波電源
5 処理対象管
5A 処理対象線
11 筐体
13 カップリングループ
14,14A 放射器
16 電圧生成装置
G 放電用ガス
S 高周波信号
Claims (3)
- 準マイクロ波帯またはマイクロ波帯の高周波信号を生成すると共に当該高周波信号の電力を制御可能に構成された高周波信号生成部と、
前記高周波信号を入力して放射する放射器と、
グランド電位が付与された筐体と、
一端が前記筐体の内壁に接続されると共に他端に前記高周波信号が供給されるカップリングループとを備え、
前記放射器は、前記カップリングループから離間した状態で前記筐体内に立設され、
前記筐体には、管状の処理対象体が前記放射器の近傍を通過可能とする貫通孔が形成され、
前記処理対象体を前記貫通孔に挿通させて当該処理対象体を前記筐体内に位置させた状態において、前記電力が制御された前記高周波信号を前記高周波信号生成部から前記カップリングループに供給して当該カップリングループから前記筐体を経由して前記放射器に出力することにより、プラズマ放電用ガスが内部に供給された前記処理対象体の当該内部における当該放射器の近傍にプラズマを発生させて、当該処理対象体の内面を前記筐体内において当該プラズマで処理するプラズマ処理装置。 - 前記放射器は、その内部に前記処理対象体を挿通可能に筒状に形成されている請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記放射器の近傍の電位分布を制御する電圧生成部を更に備えている請求項1または2記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009016146A JP2009016146A (ja) | 2009-01-22 |
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JP2007175691A Active JP5026169B2 (ja) | 2007-07-04 | 2007-07-04 | プラズマ処理装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5026169B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5275092B2 (ja) * | 2009-03-12 | 2013-08-28 | 長野日本無線株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP6392049B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2018-09-19 | 株式会社オーク製作所 | 内表面処理方法及び内表面処理装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6417428A (en) * | 1987-07-10 | 1989-01-20 | Sumitomo Metal Ind | Plasma device |
DE4203369C2 (de) * | 1992-02-06 | 1994-08-11 | Ceramoptec Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Vorformen für Lichtwellenleiter |
JPH062127A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-01-11 | Nikon Corp | スパッタリングによる薄膜の生産方法 |
JP3149002B2 (ja) * | 1992-12-18 | 2001-03-26 | 和夫 杉山 | 同軸形のマイクロ波プラズマ発生器 |
JP2803017B2 (ja) * | 1993-06-07 | 1998-09-24 | 工業技術院長 | 抗血栓性医用材料及び医療用具並びにこれらの製造方法、製造装置及びプラズマ処理装置 |
JPH0757894A (ja) * | 1993-08-20 | 1995-03-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | マイクロ波による放電発生方法及び装置 |
JPH07130493A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | マイクロ波放電管の冷却方法及び装置 |
JP2000133494A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | マイクロ波プラズマ発生装置及び方法 |
JP2003096570A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Kobe Steel Ltd | プラズマ処理方法及び装置 |
JP4035568B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2008-01-23 | 株式会社エーイーティー | 大気圧大面積プラズマ発生装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009016146A (ja) | 2009-01-22 |
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