JP5022041B2 - 不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラム - Google Patents

不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラム Download PDF

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Description

本発明は、製品の製造工程内と完成後に行われる検査の検査結果をもとに製品に発生した不良の解析を行う不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラムに関する。
製品、例えば、半導体装置やパーソナルコンピュータは、数百の製造工程を経て製造されている。これらの製造工程の前後では、検査が行われ、不良品はその都度排除されている。しかし、製品の完成後の検査で不良が判明する場合がある。このような不良は、ある製造工程で軽微な異常が生じ、製品としては不良品でないので製品は軽微な異常を含むまま良品として次の製造工程を実施したが、複数の製造工程を経るうちに異常が不良に発展したものと考えられる。このとき、複数の製造工程の前後で行われている複数の検査の検査結果は互いに、軽微な異常に起因する微小な変化をとらえているはずである。この微小な変化の有無は複数の検査結果の相関分析により検出することができる。そして、この相関分析を繰り返し、製造工程の着工履歴をさかのぼるように分析対象の検査をさかのぼれば最終的に、不良の発生原因となった軽微な異常を発生させた製造工程および製造装置を特定することができる。
しかし、数百の製造工程に対応して、検査も数百におよぶため、一対の検査の組すべてに対し相関分析を実施すると、相関分析の回数が1万回を超え異常を発生させた製造工程を特定するのに時間がかかっていた。
このような相関分析を支援する技術として、例えば過去の分析パターンを元に分析実行する技術(例えば、特許文献1参照)と、歩留まり分析に回帰木分析を適用する技術(例えば、特許文献2参照)が提案されている。
特開2003−397882号公報 特開2000−284578号公報
相関分析に時間がかかるのは、回数が多いからであるが、その1回の相関分析毎にも時間がかかっていることがわかった。個々の検査の検査結果がそのままでは、相関分析にかけられず、相関分析毎に検査結果を加工する時間が必要であった。
本発明は前記の問題点を解決しようとするもので、その目的は、不良の検出後、短時間で相関分析が行える不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラムを提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明の不良解析装置は、
製品の不良の発生前における、製品の検査毎の検査項目関係付けられたその検査結果を、正常時データとして記憶する正常時データ記憶部と、
前記不良の発生前に、記憶された複数の前記検査項目の中から一対の前記検査項目の組み合わせの数に応じた数の、一対の前記検査項目の組を生成する組生成部と、
前記不良の発生前に、前記組毎に一対の前記検査項目の前記正常時データ間で正常時相関強度を算出する正常時相関強度算出部と、
前記不良の発生前における、前記正常時相関強度が閾値未満である前記組を、弱相関の組として記録したマスクデータベースを作成するマスクデータベース作成部と、
前記不良の発生後における、不良品の製品ロット番号に関係付けられた前記検査結果を、異常時データとして記憶する異常時データ記憶部と、
前記弱相関の組毎に一対の前記検査項目の前記異常時データ間で異常時相関強度を算出する異常時相関強度算出部と、
前記異常時相関強度の強い順に前記弱相関の組に順番を付与する順番付与部と、
前記順番の早い順に前記弱相関の組を構成する前記検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し部とを有することを特徴とする。
また、本発明の不良解析方法は、
コンピュータが、
製品の不良の発生前における、製品の検査毎の検査項目関係付けられたその検査結果を、正常時データとして記憶し、
前記不良の発生前に、記憶された複数の前記検査項目の中から一対の前記検査項目の組み合わせの数に応じた数の、一対の前記検査項目の組を生成し、
前記不良の発生前に、前記組毎に一対の前記検査項目の前記正常時データ間で正常時相関強度を算出し、
前記不良の発生前における、前記正常時相関強度が閾値未満である前記組を、弱相関の組として記録したマスクデータベースを作成し、
前記不良の発生後における、不良品の製品ロット番号に関係付けられた前記検査結果を、異常時データとして記憶し、
前記弱相関の組毎に一対の前記検査項目の前記異常時データ間で異常時相関強度を算出し、
前記異常時相関強度の強い順に前記弱相関の組に順番を付与し、
前記順番の早い順に前記弱相関の組を構成する前記検査項目を不良原因項目として読み出すことを特徴とする。
また、本発明の不良解析プログラムは、
コンピュータに、
製品の不良の発生前における、製品の検査毎の検査項目関係付けられたその検査結果を、正常時データとして記憶する正常時データ記憶手順と、
前記不良の発生前に、記憶された複数の前記検査項目の中から一対の前記検査項目の組み合わせの数に応じた数の一対の前記検査項目の組を生成する組生成手順と、
前記不良の発生前に、前記組毎に一対の前記検査項目の前記正常時データ間で正常時相関強度を算出する正常時相関強度算出手順と、
前記不良の発生前における、前記正常時相関強度が閾値未満である前記組を、弱相関の組として記録したマスクデータベースを作成するマスクデータベース作成手順と、
前記不良の発生後における、不良品の製品ロット番号に関係付けられた前記検査結果を、異常時データとして記憶する異常時データ記憶手順と、
前記弱相関の組毎に一対の前記検査項目の前記異常時データ間で異常時相関強度を算出する異常時相関強度算出手順と、
前記異常時相関強度の強い順に前記弱相関の組に順番を付与する順番付与手順と、
前記順番の早い順に前記弱相関の組を構成する前記検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し手順とを実行させることを特徴とする。
このような本発明によれば、不良の検出後、短時間で相関分析が行える不良解析装置、不良解析方法および不良解析プログラムを提供することができる。
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
図1に示すように、不良解析装置30は、受信部15、検査結果記憶部31、被検査対象記憶部29と、変換式作成支援部17、変換式記憶部18、データ変換部19、変換済データ記憶部20、相関分析処理部21、相関分析結果記憶部22、出力部25、マスクデータベース記憶部24、マスクデータベース作成支援部23、不良原因項目抽出支援部27、不良原因製造装置抽出支援部28を有している。なお、不良解析装置30は、着工履歴10を出力する着工履歴作成装置9を含んでいてもよいし、着工履歴作成装置9を外部において接続してもよい。また、検査結果記憶部31は、変換前データ記憶部32と、正常時データ記憶部33とを有している。
不良解析装置30の外部には、製造工程内検査装置群1として、製品の部品であるデバイスの検査を行いデバイス寸法検査結果4を出力するデバイス寸法検査装置3、デバイスの検査を行いデバイス電気特性検査結果6を出力するデバイス電気特性検査装置5、製品の検査を行い製造工程内製品検査結果8を出力する製造工程内製品検査装置7が配置されている。また、不良解析装置30の外部には、完成後検査装置群2として、デバイスの検査を行い完成後デバイス検査結果12を出力する完成後デバイス検査装置11、製品の検査を行い完成後製品検査結果14を出力する完成後製品検査装置13が配置されている。
図2に示すように、変換式作成支援部17は、組生成部41、正常時データ読み出し部42、正常時項目間散布図作成部43、正常時項目間散布図表示部44、エラー判定基準値設定支援部45、エラー変換式設定支援部46、文字データ変換式設定支援部47、数値データ変換式設定支援部48、正常時データ変換部49、正常時項目間散布図記憶部50を有している。
図3に示すように、マスクデータベース作成支援部23は、正常時相関強度算出部51、相関強度判定部52、相関ラベル付与部53を有している。
図4に示すように、相関分析処理部21は、組抽出部55、検査項目読み出し部56、変換済データ読み出し部57、相関強度算出部58、順番付与部59を有している。
図5に示すように、不良原因項目抽出支援部27は、不良原因項目読み出し部61、変換済データ読み出し部62、原因・出現項目間散布図作成部63、原因・出現項目間散布図表示部64、正常時項目間散布図抽出部65、正常時項目間散布図の重ね表示部66、不良原因項目指定支援部67を有している。
図6に示すように、不良原因製造装置抽出支援部28は、着工履歴抽出部71、着工履歴一覧表示部72、マーカー表示部73、被検査対象表示部74、不良原因製造装置指定支援部75を有している。
次に、前記で説明した不良解析装置30を用いた不良解析方法について説明する。製品が製造工程を流れ、複数の製品が順次製造されているとする。
図7に示すように、本発明の実施形態に係る不良解析方法では、まず、ステップS1で、着工履歴作成装置9(図1参照)において、製品ごとの着工履歴10を作成する。ステップS2で、着工履歴作成装置9が、製品毎の着工履歴10を、製品を識別可能な製品ロット番号に関係付けて記憶する。
次に、ステップS3で、被検査対象記憶部29において、各検査、例えば、図1のデバイス寸法検査装置3によって行われる検査等によって、不良と判定された場合に、不良の原因となっている部品名と、その部品を直接製造している製造工程名と製造装置を、被検査対象として、その検査の検査項目に関係付けて記憶する。
ステップS4で、製造工程内検査装置群1のデバイス寸法検査装置3、デバイス電気特性検査装置5、製造工程内製品検査装置7、完成後検査装置群2の完成後デバイス検査装置11、完成後製品検査装置13において、製品毎に検査項目毎の検査を実施する。
ステップS5で、製造工程内検査装置群1のデバイス寸法検査装置3、デバイス電気特性検査装置5、製造工程内製品検査装置7、完成後検査装置群2の完成後デバイス検査装置11、完成後製品検査装置13のそれぞれにおいて、デバイス寸法検査結果4、デバイス電気特性検査結果6、製造工程内製品検査結果8、完成後デバイス検査結果12、完成後製品検査結果14を、検査した製品の製品ロット番号と、検査した検査項目とに関係付けて記憶する。
ステップS6で、強相関強度の組の検出支援方法(前処理)を実施する。ここでは、製品の不良の発生に備えて、事前の前処理を行う。この前処理により、一対の検査項目を組(検査項目の組)として、複数の組の相関強度の迅速な算出が可能になり、この複数の組の中から強相関強度の組を検出できる。
例えば、強相関強度の組の例としては、図8の項目間分散図を上げることができる。このような強相関強度は、不良の発生原因によってもたらされていると考えられる。検査項目Aと検査項目Bとが不良の発生原因からともに影響を受けている表れであると考えられる。一方、弱相関強度の組の例としては、図9の項目間分散図を上げることができる。このような弱相関強度は、検査項目Aと検査項目Bとの少なくとも一方が不良の発生原因から影響を受けていない表れであると考えられる。
より具体的な例として、半導体装置が製品であり、半導体装置の回路パターンが検査の対象である場合を考える。図10に示すように、製造工程内検査項目として、「配線1寸法」「配線1異物数」「配線1外観」「配線1抵抗」などの検査が行われているとする。相関分析の対象となる一対の製造工程内検査項目の組としては、「配線1寸法」と「配線1異物数」の組、「配線1寸法」と「配線1外観」の組、「配線1外観」と「配線1異物数」の組、「配線1抵抗」と「配線1寸法」の組、「配線1抵抗」と「配線1異物数」の組、「配線1抵抗」と「配線1外観」の組の6組が生成できる。なお、「配線1寸法」と「配線1寸法」の組のような同一の検査項目の組も組み合わせ的には構成できるが相関強度を求めることに物理的意義がないので対象外にしている。また、「配線1寸法」と「配線1異物数」の組と、検査項目の順番を逆にした「配線1異物数」と「配線1寸法」の組も、組み合わせ的には2組とカウントできるが、相関強度は互いに等しくなり一方のみを求めれば十分であるので他方は対象外にしている。
そして、図11は、「配線1抵抗」と「配線1寸法」の組の項目間散布図である。横軸の「配線1寸法」と縦軸の「配線1抵抗」は対数表記している。正常時においても配線1寸法と配線1抵抗は比例関係を有するが、異常が生じ、さらに配線寸法が細くなりさらには断線(オープン)すると配線抵抗は高抵抗から測定範囲を超え上限値となる高抵抗を示す。すなわち、正常時よりも寸法が細くなることにより、相関強度が強くなることが判る。そして、この「配線1抵抗」と「配線1寸法」の組のように、「製品の合否」を含む組による相関分析だけでなく、各製造工程内検査項目間での相関分析も不良原因項目の抽出に有効であることがわかる。
また、別の具体的な例として、半導体装置を有したパーソナルコンピュータが製品であり、検査の対象が、パーソナルコンピュータの完成後検査項目と、半導体装置の製造工程内検査項目とである場合を考える。
図12に示すように、製造工程内検査項目として、「配線1寸法」「配線1異物数」「配線1外観」「配線1抵抗」「配線2寸法」「配線2異物数」「配線2外観」「配線2抵抗」の検査が行われているとする。完成後検査項目として、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値の評価による「電源OFFショートチェック」「電源ONショートチェック」「OS起動チェック」「CPU動作チェック」「メモリ動作チェック」「マージンチェック」「製品合否」の検査が行われているとする。そして、部品の半導体装置は配線1と配線2の2層構造である場合に、説明を簡単にするため、例えば、配線2は製造上不良が発生しない構造であると仮定できれば、検査項目に「配線2寸法」「配線2異物数」「配線2外観」「配線2抵抗」を含む組を相関分析の対象外にすることができる。
そして、図13は、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組の項目間散布図である。縦軸の「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」は、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されているので、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換している。図13に示すように、「配線1寸法」が大であると、配線1にショートが発生し、待機電流の増加や、異常電流が発生するため、「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」でフェイルになる。したがって、配線1のショートが、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」で判定できる。逆に、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のショートが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。そこで、話が戻るが、ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。
図14は、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組の項目間散布図である。縦軸の「OS起動チェック」は、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されているので、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換している。図14に示すように、「配線1寸法」が小であると、配線1にオープンが発生し、OSが起動しないため、「OS起動チェック」でフェイルになる。したがって、配線1のオープンが、「配線1寸法」と「OS起動チェック」で判定できる。逆に、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のオープンが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1寸法」と「OS起動チェック」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。
図15は、「配線1寸法」と「製品合否」の組の項目間散布図である。縦軸の「製品合否」は、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されているので、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換している。図15に示すように、「配線1寸法」が小であると配線1にオープンが発生し、「配線1寸法」が大であると配線1にショートが発生し、「製品合否」でフェイルになる。したがって、配線1のオープンとショートが、「配線1寸法」と「製品合否」で判定できる。逆に、「配線1寸法」と「製品合否」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のオープンとショートが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1寸法」と「製品合否」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1寸法」と「製品合否」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。
図16は、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の項目間散布図である。図16に示すように、「配線1異物数」が多くなると配線1にオープンが発生し、OSおよび製品は起動しないため、「OS起動チェック(製品合否)」でフェイルになる。したがって、配線1のオープンが、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」で判定できる。逆に、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線のオープンが不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。
図17は、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の項目間散布図である。図17に示すように、「配線1抵抗」が大きくなると、動作タイミングに遅延が発生するため、「OS起動チェック(製品合否)」でフェイルになる。したがって、配線1の動作タイミングの遅延が、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」で判定できる。逆に、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、部品である第1配線の動作タイミングの遅延が不良の原因であることが推測できる。そして、第1配線の製造工程、製造装置が不良の発生原因であると考えることができる。ステップS3においては、被検査対象記憶部29で、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組の相関強度が強ければ、不良の原因となっている部品名として第1配線と第1配線の製造工程とを抽出できるように、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の組と、部品名の第1配線と第1配線の製造工程とを関係付けて記憶しておけば便利である。
次に、図7に戻り、ステップS6の後に、製品の不良が検出されたとする。製品の不良の発生が、例えば、完成後製品検査装置13で検出されると、ステップS7で、完成後製品検査装置13において、不良発生信号が送信され、受信部15において、不良発生信号が受信される。なお、ステップS7は、必ずしも必要でない。
ステップS8で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良品の製品ロット番号を取得する。なお、製品ロット番号の取得は、完成後製品検査装置13等の検査装置による必要はなく、オペレータの受信部15(入力装置)への入力によってもよい。
ステップS9で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良を検出した検査の検査項目、すなわち不良出現項目を取得する。なお、不良出現項目の取得は必ずしも必要ではないが、不良出現項目を取得することによって、相関分析を行う組には、不良出現項目を含んだ組を選べばよいので、相関分析を行う組の数を減らすことができる。
ステップS10で、強相関強度の組の検出支援方法(メイン処理)を実施する。ここでは、既に発生した製品の不良に対して、事後のメイン処理を行う。このメイン処理により、一対の検査項目を組として、複数の組の相関強度の迅速な算出が可能になり、この複数の組の中から強相関強度の組を検出できる。なお、詳細は後述する。
ステップS11で、不良原因項目抽出支援部27において、不良原因項目の抽出支援方法を実施する。具体的には、強相関強度の組を構成する検査項目の中から不良原因項目を抽出する支援をする。
ステップS12で、不良原因製造装置抽出支援部28において、不良原因製造装置の抽出支援方法を実施する。具体的には、不良原因項目で検出された軽微な異常を形成した不良原因製造装置を、着工履歴10を用いて抽出する支援をする。
次に、図7のステップS6の強相関強度の組の検出支援方法(前処理)の詳細について説明する。この前処理は不良検出前の処理である。検査結果は、正常時データとして扱われる。
図18に示すように、まず、ステップS21で、受信部15において、製品の製品ロット番号毎かつ検査項目毎に、検査結果として、デバイス寸法検査結果4(図1参照)、デバイス電気特性検査結果6、製造工程内製品検査結果8、完成後デバイス検査結果12、完成後製品検査結果14を受信する。
次に、ステップS22で、正常時データ記憶部33において、検査項目ごとの検査結果4、6、8、12、14を、正常時データとして、検査項目と関係付けて記憶する。
ステップS23で、変換式作成支援部17において、正常時データを相関分析可能なデータに変換可能な複数のデータ変換式を、オペレータが作成する支援をする。ステップS23は、ステップS24乃至S33からなっており、以下、順に説明する。
ステップS24で、組生成部41(図2参照)において、一対の検査項目を順次読み出し、組を生成する。
ステップS25で、正常時データ読み出し部42において、組を構成するそれぞれの検査項目に対応する正常時データを読み出す。
ステップS26で、正常時項目間散布図作成部43において、組毎に、組を構成する一対の検査項目による正常時項目間散布図を作成する。
ステップS27で、正常時項目間散布図表示部44において、正常時項目間散布図を表示部に画面表示し、オペレータに変換を促す。
ステップS28で、エラー判定基準値設定支援部45において、正常時データからエラーデータを削除したり、特定数値に変換したりする前段階として、エラーデータか否かの判定基準値の設定の支援をする。そして、エラー判別式が設定される。
具体的には、図19の正常時項目間散布図が表示部に画面表示されているとする。オペレータは、データaを相関分析の対象にすべきデータであり、データbは相関分析の対象にすべきでないエラーデータであると判断したとする。すなわち、データaのみでは正しい相関関数dが得られるが、データbも含めると誤った相関関数cが得られてしまう。エラー判定基準値設定支援部45は、エラーデータを判別可能な判定基準値35の指定を促す。オペレータによって、判定基準値35がGUIにより入力されると、判定基準値35の設定が完了する。
ステップS29で、エラー変換式設定支援部46において、エラーデータの変換式(変換方法)の設定の支援をする。具体的には、判定基準値35によって判別されたエラーデータを、図20に示すように削除したり、特定数値に変換したりする。
ステップS30で、文字データ変換式設定支援部47において、正常時データ内の文字データを数値データに変換する変換式(変換方法)の設定を支援する。具体的には、図23に示すように、検査項目Bが「製品合否」のように、パス(Pass)かフェイル(Fail)の2値で評価されている場合に、パスは数値の1に変換し、フェイルは数値の0に変換できるように、オペレータの変換式の設定の支援をする。
ステップS31で、数値データ変換式設定支援部48において、正常時データの数値データの符号変換や対数変換を行う変換式(変換方法)の設定を支援する。具体的には、符号変換では、正負の符号を入れ替えたり、どちらか一方の符号に統一したりする。対数変換では、図21の自然数表記のように、強相関強度が得られない場合であっても、図22の対数表記では、強相関強度が得られる場合がある。これは、データ群a1がデータ群a2に変換され、データ群b1がデータ群b2に変換されているからである。
ステップS32で、正常時データ変換部49において、正常時データを設定したデータ変換式に基づいて変換し、正常時項目間散布図を修正する。なお、前記のステップS28からS32は、繰り返し実行してもよい。
ステップS33で、正常時項目間散布図記憶部50において、修正された正常時項目間散布図を組に関係付けて記憶する。
次に、ステップS34で、変換式記憶部18(図1参照)において、変換式を、検査項目と組とに関係付けて記憶する。なお、変換式は、1つの検査項目に対して1つに定まるのではなく、組が異なれば、1つの検査項目に対して異なる変換式が設定されてもよい。
ステップS35で、マスクデータベース作成支援部23(図1参照)において、相関分析の対象外とする組のマスクデータの作成を支援する。ステップS35は、ステップS36乃至S38から構成されている。
ステップS36で、正常時相関強度算出部51(図3参照)において、変換式を用いた変換をした正常時データの検査項目間で相関強度を算出する。
ステップS37で、相関強度判定部52において、相関強度が閾値以上か未満かを判定する。
ステップS38で、相関ラベル付与部53において、閾値以上の相関強度を有する組に「強相関」のラベルを付し、閾値未満の相関強度を有する組に「弱相関」のラベルを付し、マスクデータベースを生成する。マスクデータベースとしては、具体的には、図24に示すように、行が検査項目1〜nのn行からなり、列も検査項目1〜nのn列からなるマトリックス表として表すことができる。行と列の交差する領域が組を表している。組の個数は、n×(n−1)/2になる。すなわち、領域40は、検査項目nと検査項目nの組のような同一の検査項目の組は組み合わせ的には構成できるが相関強度を求めることに物理的意義がないので対象外にしている。また、領域39は、検査項目nと検査項目1の組と、検査項目の順番を逆にした検査項目1と検査項目nの組も、組み合わせ的には2組とカウントできるが、相関強度は互いに等しくなり一方のみを求めれば十分であるので他方は対象外にしている。さらに、ステップS37で相関強度が閾値以上であったマスク組の対応する領域38は、不良の発生する以前から強相関関係を有しているので、不良の検出には用いることができないので、相関分析の対象外にしている。最終的に残った領域37に対応するマスク組に相関分析が実施されることになる。
ステップS39で、マスクデータベース記憶部24(図1参照)において、ラベル「不実施」「実施」を組に関係付けたマスクデータベースを記憶する。
以上で、不良の検知前にすべき前処理が終了する。そして、図25(a)に示すように、製品のパーソナルコンピュータが電源ONで動作しないというような、不良が検知されたとする。具体的には、図7のステップS7で、完成後製品検査装置13において、不良発生信号が送信され、受信部15において、不良発生信号が受信される。なお、ステップS7は、必ずしも、完成後製品検査装置13による必要はない。さらに、図25(b)に示すように、不良は、パーソナルコンピュータ内の回路基盤で起きたことが、完成後デバイス検査装置11(図1参照)により明らかにされる。
ステップS8で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良品の製品ロット番号を取得する。ステップS9で、受信部15が、不良を検出した完成後製品検査装置13から不良を検出した検査の検査項目、すなわち不良出現項目を取得する。
次に、図7のステップS10の強相関強度の組の検出支援方法(メイン処理)の詳細について説明する。このメイン処理は不良検出後の処理である。検査結果4、6、8、12、14は、異常を含んだデータとして扱われる。
図26に示すように、まず、ステップS41で、受信部15(図1参照)において、取得された製品ロット番号に関係付けられた検査項目の検査結果4、6、8、12、14を受信する。また、この製造ロット番号の製品に前後して製造された製品の製造ロット番号も着工履歴10から取得する。
次に、ステップS42で、変換前データ記憶部32において、検査項目ごとの検査結果4、6、8、12、14を、変換前データとして、検査項目と関係付けて記憶する。
ステップS43で、データ変換部19(図1参照)において、組毎に、検査項目に対応する変換前データとデータ変換式を読み出し、変換前データをデータ変換式により変換済データに変換する。
ステップS44で、変換済データ記憶部20において、変換済データを検査項目に関係付けて記憶する。
ステップS45で、組抽出部55(図4参照)において、図24の領域37と領域38に相当する分析対象のマスク組を抽出する。なお、領域37に相当するマスク組のみを抽出してもよい。
ステップS46で、検査項目読み出し部56において、抽出された組を構成する検査項目を読み出す。
ステップS47で、変換済データ読み出し部57において、抽出された組とその組を構成する検査項目に対応する変換済データを読み出す。
ステップS48で、相関強度算出部58において、抽出された組を構成する一対の検査項目に対応する変換済データ間で相関強度を算出する。
ステップS49で、相関分析結果記憶部22(図1参照)において、算出した相関強度を対応する組に関係付けて記憶する。
ステップS50で、順番付与部59において、相関強度の強い順番で組へ順番を付与する。
ステップS51で、出力部25において、順番を付与した順番に組を画面表示や帳票出力する。
ステップS52で、出力部25において、マスクデータベースを用いて画面表示等した組にラベル「強相関」が付してあれば、他の組と区別して、組の表示に合わせて「強相関」も表示する。ここで、「強相関」の表示無しに表示された組は、不良の発生により強相関関係が生じたものと考えられる。なお、ステップS45で、領域37に相当するマスク組のみを抽出していれば、その段階で強相関関係の組を除外することができる。
次に、図7のステップS11の不良原因項目の抽出支援方法の詳細について説明する。
図27に示すように、まず、ステップS61で、不良原因項目読み出し部61において、付与された順番の早い順に組を構成する一対の検査項目を読み出す。読み出された検査項目は不良原因項目の候補となる。
次に、ステップS62で、変換済データ読み出し部62において、その組と読み出した検査項目に対応する変換済データを読み出す。
ステップS63で、原因・出現項目間散布図作成部63において、一対の読み出した変換済データにより原因・出現項目間散布図を作成する。
一対の変換済データの内、一方は不良が検出された(出現した)検査項目に関し、他方は、不良の原因となった軽微な異常を発生させた製造工程の異常を検出している検査項目に関する場合もあると考えられる。例えば、図28に示すように、説明を簡単化するため、相関分析を検査項目の全項目間ではなく、完成後検査項目と、製造工程内検査項目、例えば、「OS起動チェック」、「製品合否」との相関分析をするとする。そして、不良が検出された検査項目は、例えば、「OS起動チェック」と「製品合否」であるとする。「OS起動チェック」「製品合否」と、製造工程内検査項目のすべてとの間で、相関分析を行う。相関分析を行った組を、相関強度の強い順番にソートし、相関が強いものから順番に原因・出現項目間散布図を生成する。
この結果、例えば、図29に示すように、「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の間で強相関関係が得られれば、図31のように配線1パターン36の部分的高抵抗gのためにオープンが生じたと考えられる。逆に、図30に示すように、「配線1寸法」と「OS起動チェック(製品合否)」の間で強相関関係が得られていないので、図31のように配線1パターン36の断線fで配線1の寸法が細くなっているようなことはないので、「配線1寸法」は不良に関与していないと考えられる。
ステップS64で、原因・出現項目間散布図表示部64において、原因・出現項目間散布図を表示部に画面表示する。
ステップS65で、正常時項目間散布図抽出部65において、その組に対応する正常時項目間散布図を図2の正常時項目間散布図記憶部50から抽出する。
ステップS66で、正常時項目間散布図重ね表示部66において、抽出した正常時項目間散布図を原因・出現項目間散布図に重ねて表示する。オペレータは、正常時項目間散布図と原因・出現項目間散布図とを比較して、相関強度が原因・出現項目間散布図において強くなっている理由が、不良に起因しているか否かを判断する。
ステップS67で、不良原因項目指定支援部67において、画面上でのGUIにより、オペレータが不良原因項目の候補を不良原因項目として指定をする、支援をする。
最後に、図7のステップS12の不良原因製造装置の抽出支援方法の詳細について説明する。
図32に示すように、まず、ステップS71で、着工履歴抽出部71(図6参照)において、不良の検出された製品の製品ロット番号に対応する着工履歴を、着工履歴作成装置9(図1参照)より抽出する。
次に、ステップS72で、着工履歴一覧表示部72において、抽出した着工履歴を表示部に一覧表示する。
ステップS73で、マーカー表示部73において、不良原因項目に対応する着工履歴の検査項目上へ、「不良原因項目」のマーカーを表示する。
ステップS74で、不良原因製造装置指定支援部75において、被検査対象記憶部29(図1参照)から不良原因項目(検査項目)に基づいて、被検査対象、すなわち、不良の原因となっている部品名と、その部品を直接製造している製造工程名と製造装置とを表示する。不良原因製造装置指定支援部75は、画面上でのGUIにより、オペレータが表示された製造装置を不良原因製造装置として指定をする、支援をする。
本発明の実施形態によれば、不良の検出前に、変換式等を用意しておくので、不良の検出後、短時間で相関分析が行える。このため、不良原因項目と不良原因製造装置を早期に発見することで、製品不良を低減することができる。なお、実施形態の不良解析装置30は、コンピュータに不良解析プログラムを実行させることにより実現してもよい。
本発明の実施形態に係る不良解析装置の構成図である。 変換式作成支援部の構成図である。 マスクデータベース作成支援部の構成図である。 相関分析処理部の構成図である。 不良原因項目抽出支援部の構成図である。 不良原因製造装置抽出支援部の構成図である。 本発明の実施形態に係る不良解析方法のフローチャートである。 強い相関強度を示す項目間分散図の例である。 弱い相関強度を示す項目間分散図の例である。 項目間分散図を描くための検査項目の組み合わせ表(その1)である。 検査項目「配線1寸法」と「配線1抵抗」の項目間分散図である。 項目間分散図を描くための検査項目の組み合わせ表(その2)である。 検査項目「配線1寸法」と「電源OFFショートチェック(電源ONショートチェック)」の項目間分散図である。 検査項目「配線1寸法」と「電源起動チェック」の項目間分散図である。 検査項目「配線1寸法」と「製品合否」の項目間分散図である。 検査項目「配線1異物数」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。 検査項目「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。 強相関強度の組の検出支援方法(前処理)のフローチャートである。 エラーデータを含む項目間分散図の例である。 図19の項目間分散図からエラーデータを除いて描きなおした項目間分散図の例である。 対数表記していない数値データによる項目間分散図の例である。 図21の項目間分散図の数値データを対数表記して描きなおした項目間分散図の例である。 文字データ(パス/フェイル)を数値データ(1/0)に変換して描きなおした項目間分散図の例である。 マスクデータベースの構成を示す表(その1)である。 (a)は製品における不良発生の状況を示す図であり、(b)は回路基盤で不良が発生したことを示す図である。 強相関強度の組の検出支援方法(本処理)のフローチャートである。 不良原因項目の抽出支援方法のフローチャートである。 マスクデータベースの構成を示す表(その2)である。 検査項目「配線1抵抗」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。 検査項目「配線1寸法」と「OS起動チェック(製品合否)」の項目間分散図である。 回路基盤を構成する配線1パターンで、不良が発生したことを示す図である。 不良原因製造装置の抽出支援方法のフローチャートである。
符号の説明
1 製造工程内検査装置群
2 完成後検査装置群
3 デバイス寸法検査装置
4 デバイス寸法検査結果
5 デバイス電気特性検査装置
6 デバイス電気特性検査結果
7 製造工程内製品検査装置
8 製造工程内製品検査結果
9 着工履歴作成装置
10 着工履歴
11 完成後デバイス検査装置
12 完成後デバイス検査結果
13 完成後製品検査装置
14 完成後製品検査結果
15 受信部
17 変換式作成支援部
18 変換式記憶部
19 データ変換部
20 変換済データ記憶部
21 相関分析処理部
22 相関分析結果記憶部
23 マスクデータベース作成支援部
24 マスクデータベース記憶部
25 出力部
26 各種帳票
27 不良原因項目抽出支援部
28 不良原因製造装置抽出支援部
29 被検査対象記憶部
30 不良解析装置
31 検査結果記憶部
32 変換前データ記憶部
33 正常時データ記憶部
35 判定基準値
36 配線1パターン
41 組生成部
42 正常時データ読み出し部
43 正常時項目間散布図作成部
44 正常時項目間散布図表示部
45 エラー判定基準値設定支援部
46 エラー変換式設定支援部
47 文字データ変換式設定支援部
48 数値データ変換式設定支援部
49 正常時データ変換部
50 正常時項目間散布図記憶部
51 正常時相関強度算出部
52 相関強度判定部
53 相関ラベル付与部
55 組抽出部
56 検査項目読み出し部
57 変換済データ読み出し部
58 相関強度算出部
59 順番付与部
61 不良原因項目読み出し部
62 変換済データ読み出し部
63 原因・出現項目間散布図作成部
64 原因・出現項目間散布図表示部
65 正常時項目間散布図抽出部
66 正常時項目間散布図の重ね表示部
67 不良原因項目指定支援部
71 着工履歴抽出部
72 着工履歴一覧表示部
73 マーカー表示部
74 被検査対象表示部
75 不良原因製造装置指定支援部

Claims (3)

  1. 製品の不良の発生前における、製品の検査毎の検査項目関係付けられたその検査結果を、正常時データとして記憶する正常時データ記憶部と、
    前記不良の発生前に、記憶された複数の前記検査項目の中から一対の前記検査項目の組み合わせの数に応じた数の、一対の前記検査項目の組を生成する組生成部と、
    前記不良の発生前に、前記組毎に一対の前記検査項目の前記正常時データ間で正常時相関強度を算出する正常時相関強度算出部と、
    前記不良の発生前における、前記正常時相関強度が閾値未満である前記組を、弱相関の組として記録したマスクデータベースを作成するマスクデータベース作成部と、
    前記不良の発生後における、不良品の製品ロット番号に関係付けられた前記検査結果を、異常時データとして記憶する異常時データ記憶部と、
    前記弱相関の組毎に一対の前記検査項目の前記異常時データ間で異常時相関強度を算出する異常時相関強度算出部と、
    前記異常時相関強度の強い順に前記弱相関の組に順番を付与する順番付与部と、
    前記順番の早い順に前記弱相関の組を構成する前記検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し部とを有することを特徴とする不良解析装置。
  2. コンピュータが、
    製品の不良の発生前における、製品の検査毎の検査項目関係付けられたその検査結果を、正常時データとして記憶し、
    前記不良の発生前に、記憶された複数の前記検査項目の中から一対の前記検査項目の組み合わせの数に応じた数の、一対の前記検査項目の組を生成し、
    前記不良の発生前に、前記組毎に一対の前記検査項目の前記正常時データ間で正常時相関強度を算出し、
    前記不良の発生前における、前記正常時相関強度が閾値未満である前記組を、弱相関の組として記録したマスクデータベースを作成し、
    前記不良の発生後における、不良品の製品ロット番号に関係付けられた前記検査結果を、異常時データとして記憶し、
    前記弱相関の組毎に一対の前記検査項目の前記異常時データ間で異常時相関強度を算出し、
    前記異常時相関強度の強い順に前記弱相関の組に順番を付与し、
    前記順番の早い順に前記弱相関の組を構成する前記検査項目を不良原因項目として読み出すことを特徴とする不良解析方法。
  3. コンピュータに
    製品の不良の発生前における、製品の検査毎の検査項目関係付けられたその検査結果を、正常時データとして記憶する正常時データ記憶手順と、
    前記不良の発生前に、記憶された複数の前記検査項目の中から一対の前記検査項目の組み合わせの数に応じた数の一対の前記検査項目の組を生成する組生成手順と、
    前記不良の発生前に、前記組毎に一対の前記検査項目の前記正常時データ間で正常時相関強度を算出する正常時相関強度算出手順と、
    前記不良の発生前における、前記正常時相関強度が閾値未満である前記組を、弱相関の組として記録したマスクデータベースを作成するマスクデータベース作成手順と、
    前記不良の発生後における、不良品の製品ロット番号に関係付けられた前記検査結果を、異常時データとして記憶する異常時データ記憶手順と、
    前記弱相関の組毎に一対の前記検査項目の前記異常時データ間で異常時相関強度を算出する異常時相関強度算出手順と、
    前記異常時相関強度の強い順に前記弱相関の組に順番を付与する順番付与手順と、
    前記順番の早い順に前記弱相関の組を構成する前記検査項目を不良原因項目として読み出す不良原因項目読み出し手順とを実行させることを特徴とする不良解析プログラム。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5385713B2 (ja) * 2009-07-16 2014-01-08 学校法人東京女子医科大学 臨床検査データ解析表示装置
JP5563848B2 (ja) * 2010-02-26 2014-07-30 株式会社日立ソリューションズ東日本 在庫管理装置
JP5686108B2 (ja) * 2012-02-24 2015-03-18 株式会社ダイフク 誤作業防止装置および誤作業防止装置が設けられた仕分け設備

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61253573A (ja) * 1985-05-02 1986-11-11 Hitachi Ltd 工程デ−タ選択法及び装置
JP4520610B2 (ja) * 1999-09-30 2010-08-11 富士電機ホールディングス株式会社 マーケティング分析支援システム
KR100359506B1 (ko) * 2000-09-09 2002-11-04 주식회사 마크애니 디지털 영상 워터마킹 장치 및 방법
JP2003114713A (ja) * 2001-10-09 2003-04-18 Nippon Steel Corp 品質不良の原因解析方法
JP2003216718A (ja) * 2002-01-17 2003-07-31 Dentsu Inc 株式時価総額構成要素分析機能を備えた企業価値分析システム
JP2005284664A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Toshiba Corp データ分析プログラムおよびデータ分析方法
JP2006261253A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Omron Corp プロセスデータ収集装置およびモデル作成装置ならびにモデル作成システム
JP2006297603A (ja) * 2005-04-15 2006-11-02 Sumitomo Heavy Ind Ltd 成形機及びその監視表示方法

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